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1. 发明专利

TW201821789A 同時多方向雷射晶圓檢測审中-公开
简体标题：同时多方向激光晶圆检测
公开(公告)号：TW201821789A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106131759
申请日：2017-09-15
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：趙國衡 , ZHAO, GUOHENG , 劉晟 , LIU, SHENG , 蔡本明班傑明 , TSAI, BEN-MING BENJAMIN
IPC分类号： G01N21/88 , G01N21/95
摘要：本發明揭示用於檢測一樣本之設備。該設備包含：照明光學器件，用於同時將複數個方位角處的複數個入射光束引導朝向一樣本；及集光光學器件，用於將來自複數個角度之兩者或兩者以上之輸出光的複數個場部分引導朝向兩個或兩個以上對應感測器。該兩個或兩個以上感測器經配置以用於接收對應於兩個或兩個以上角度之場部分，且產生兩個或兩個以上對應影像。該設備進一步包括用於分析該兩個或兩個以上影像以偵測該樣本上之缺陷之一處理器。
简体摘要：本发明揭示用于检测一样本之设备。该设备包含：照明光学器件，用于同时将复数个方位角处的复数个入射光束引导朝向一样本；及集光光学器件，用于将来自复数个角度之两者或两者以上之输出光的复数个场部分引导朝向两个或两个以上对应传感器。该两个或两个以上传感器经配置以用于接收对应于两个或两个以上角度之场部分，且产生两个或两个以上对应影像。该设备进一步包括用于分析该两个或两个以上影像以侦测该样本上之缺陷之一处理器。

2. 发明专利

TW201732263A 用於光學三維構形量測之方法及系統审中-公开
简体标题：用于光学三维构形量测之方法及系统
公开(公告)号：TW201732263A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW106103528
申请日：2017-02-02
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：後補後補 , ZHAO, GUOHENG , 范德伯格特馬坦 , VAN DER BURGT, MAARTEN , 劉晟 , LIU, SHENG , 希爾安迪 , HILL, ANDY , 迪葛里夫喬漢 , DE GREEVE, JOHAN , 凡吉斯卡倫 , VAN GILS, KAREL
IPC分类号： G01N21/41
CPC分类号： G01B11/2518 , G01B11/0608 , G01B11/24 , G01B11/2513 , G01B2210/56
摘要：針對一物件之一表面之三維構形量測，透過一物鏡將圖案化照明投影至該表面上。執行該物件與該物鏡之間的一相對移動，且藉由一偵測器透過該物鏡記錄該表面之多個影像。該相對移動之該方向包含相對於該物鏡之一光軸之一斜角。從自該各自位置記錄之該強度之一變化導出該表面上之一給定位置之高度資訊。同樣地，圖案化照明及均勻照明可交替投影於該表面上，同時在該物件與該物鏡沿著該物鏡之一光軸之一相對移動期間記錄該表面之影像。均勻照明用於獲得該表面上之鏡面結構之高度資訊，圖案化照明用於獲得有關該表面之其他部分之高度資訊。
简体摘要：针对一对象之一表面之三维构形量测，透过一物镜将图案化照明投影至该表面上。运行该对象与该物镜之间的一相对移动，且借由一侦测器透过该物镜记录该表面之多个影像。该相对移动之该方向包含相对于该物镜之一光轴之一斜角。从自该各自位置记录之该强度之一变化导出该表面上之一给定位置之高度信息。同样地，图案化照明及均匀照明可交替投影于该表面上，同时在该对象与该物镜沿着该物镜之一光轴之一相对移动期间记录该表面之影像。均匀照明用于获得该表面上之镜面结构之高度信息，图案化照明用于获得有关该表面之其他部分之高度信息。

3. 发明专利

TW201801217A 用於極化晶圓檢查之方法及裝置审中-公开
简体标题：用于极化晶圆检查之方法及设备
公开(公告)号：TW201801217A
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106110263
申请日：2017-03-28
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：劉晟 , LIU, SHENG , 趙國衡 , ZHAO, GUOHENG
IPC分类号： H01L21/66 , G01N21/88 , G01N21/95 , G01N21/21
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/21 , G01N21/9501 , G01N2021/8848 , G01N2201/0683
摘要：本發明揭示用於檢查一半導體樣本之方法及裝置。此系統包括用於產生且引導一入射光束朝向一晶圓之一表面上之一缺陷之一照明光學器件子系統。該照明光學器件子系統包含：一光源，其用於產生該入射光束；及一或多個極化組件，其等用於調整入射光束之電場分量之一比率及/或一相位差異。該系統進一步包含用於回應於該入射光束自該缺陷及/或表面收集散射光之一集光光學器件子系統，且該集光光學器件子系統在光瞳平面處包括一可調整光圈，隨後接著用於調整該收集之散射光之電場分量之一相位差異之一可旋轉波板，隨後接著一可旋轉檢偏鏡。該系統亦包含一控制器，其經組態以用於：(ⅰ)選擇該入射光束之一極化；(ⅱ)獲得一缺陷散射映射；(ⅲ)獲得一表面散射映射；且(ⅳ)基於該缺陷及表面散射映射之分析而判定該一或多個極化組件、光圈遮罩及可旋轉¼波板及檢偏鏡之一組態以最大化一缺陷信雜比。
简体摘要：本发明揭示用于检查一半导体样本之方法及设备。此系统包括用于产生且引导一入射光束朝向一晶圆之一表面上之一缺陷之一照明光学器件子系统。该照明光学器件子系统包含：一光源，其用于产生该入射光束；及一或多个极化组件，其等用于调整入射光束之电场分量之一比率及/或一相位差异。该系统进一步包含用于回应于该入射光束自该缺陷及/或表面收集散射光之一集光光学器件子系统，且该集光光学器件子系统在光瞳平面处包括一可调整光圈，随后接着用于调整该收集之散射光之电场分量之一相位差异之一可旋转波板，随后接着一可旋转检偏镜。该系统亦包含一控制器，其经组态以用于：(ⅰ)选择该入射光束之一极化；(ⅱ)获得一缺陷散射映射；(ⅲ)获得一表面散射映射；且(ⅳ)基于该缺陷及表面散射映射之分析而判定该一或多个极化组件、光圈遮罩及可旋转¼波板及检偏镜之一组态以最大化一缺陷信杂比。

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