专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI451002B 薄片之處理方法、處理槽、連續電解電鍍裝置及附有電鍍膜的塑膠薄膜之製造方法失效
简体标题：薄片之处理方法、处理槽、连续电解电镀设备及附有电镀膜的塑胶薄膜之制造方法
公开(公告)号：TWI451002B
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW097133844
申请日：2008-09-04
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC. , 東麗薄膜先端加工股份有限公司 , TORAY ADVANCED FILM CO., LTD.
发明人：川下守 , KAWASHITA, MAMORU , 野村文保 , NOMURA, FUMIYASU
IPC分类号： C25D17/00
CPC分类号： C25D17/02 , C25D7/0621 , C25D21/12

2. 发明专利

TW201447029A 電漿ＣＶＤ裝置及電漿ＣＶＤ方法审中-公开
简体标题：等离子ＣＶＤ设备及等离子ＣＶＤ方法
公开(公告)号：TW201447029A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103108571
申请日：2014-03-12
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：坂本桂太郎 , SAKAMOTO, KEITARO , 藤內俊平 , TONAI, SHUNPEI , 江尻廣惠 , EJIRI, HIROE , 野村文保 , NOMURA, FUMIYASU
IPC分类号： C23C16/50
CPC分类号： C23C16/509 , B05D1/62 , C23C16/45574 , C23C16/50 , C23C16/54 , C23C16/545 , H01J37/32082 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32532 , H01J37/32568 , H01J37/32669 , H01J37/32825 , H01J37/34 , H01J2237/3321
摘要：本發明為一種電漿CVD裝置，其係真空容器及在真空容器內具備電漿CVD電極單元與基材保持機構，此電漿CVD電極單元具備陽極、和此陽極空開間隔而對向的陰極、及將氣體以通過此陽極與陰極之間的電漿生成空間的方式供應的第一氣體供應噴嘴，基材保持機構配置於通過電漿生成空間的氣體碰到的位置，陽極的氣體供應方向的長度及陰極的氣體供應方向的長度都比陽極與陰極間的距離長。本發明提供一種可提高氣體分解效率、實現高成膜速度的電漿CVD裝置。
简体摘要：本发明为一种等离子CVD设备，其系真空容器及在真空容器内具备等离子CVD电极单元与基材保持机构，此等离子CVD电极单元具备阳极、和此阳极空开间隔而对向的阴极、及将气体以通过此阳极与阴极之间的等离子生成空间的方式供应的第一气体供应喷嘴，基材保持机构配置于通过等离子生成空间的气体碰到的位置，阳极的气体供应方向的长度及阴极的气体供应方向的长度都比阳极与阴极间的距离长。本发明提供一种可提高气体分解效率、实现高成膜速度的等离子CVD设备。

3. 发明专利

TWI592285B 具有細微表面構造的薄膜之製造方法及製造裝置有权
简体标题：具有细微表面构造的薄膜之制造方法及制造设备
公开(公告)号：TWI592285B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW100118615
申请日：2011-05-27
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC. , 東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：箕浦潔 , MINOURA, KIYOSHI , 野村文保 , NOMURA, FUMIYASU , 平田肇 , HIRATA, HAJIME
IPC分类号： B29C59/02 , B29C43/34 , B29C43/02 , B29L11/00
CPC分类号： B29C59/022 , B29C37/0007 , B29C37/0014 , B29C2059/023

4. 发明专利

TW201348483A 真空成膜裝置及真空成膜方法审中-公开
简体标题：真空成膜设备及真空成膜方法
公开(公告)号：TW201348483A
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW102111067
申请日：2013-03-28
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：川下守 , KAWASHITA, MAMORU , 野村文保 , NOMURA, FUMIYASU
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： H01J37/3411 , C23C14/34 , C23C14/562 , C23C14/564 , H01J37/32477 , H01J37/32853 , H01J37/32871 , H01J37/3405 , H01J2237/022 , H01J2237/3328
摘要：為了提供一種不拘保護對象構件皆能將附著膜之剝離抑制到極低程度的真空成膜裝置用防著板，而以縮小與保護對象構件的接觸面積且使接觸面以外絕熱的方式配置防著板。
简体摘要：为了提供一种不拘保护对象构件皆能将附着膜之剥离抑制到极低程度的真空成膜设备用防着板，而以缩小与保护对象构件的接触面积且使接触面以外绝热的方式配置防着板。

5. 发明专利

TWI396617B 微細形狀轉印片之製法及製造裝置有权
简体标题：微细形状转印片之制法及制造设备
公开(公告)号：TWI396617B
公开(公告)日：2013-05-21
申请号：TW096135900
申请日：2007-09-27
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：千木良宣嗣 , CHIGIRA, NOBUTSUGU , 箕浦潔 , MINOURA, KIYOSHI , 野村文保 , NOMURA, FUMIYASU
IPC分类号： B29C43/36 , B29C43/02
CPC分类号： B29C43/021 , B29C33/08 , B29C43/00 , B29C43/003 , B29C43/36 , B29C59/022 , B29C2043/025 , B29C2059/023 , B29K2105/256

6. 发明专利

TW202003111A 氣體噴出噴嘴及爐、以及加工薄膜的製造方法审中-公开
简体标题：气体喷出喷嘴及炉、以及加工薄膜的制造方法
公开(公告)号：TW202003111A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108108584
申请日：2019-03-14
申请人：日商東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：千枝繁樹 , CHIEDA, SHIGEKI , 西川徹 , NISHIKAWA, TORU , 野村文保 , NOMURA, FUMIYASU
IPC分类号： B05B12/18 , F26B21/00 , C08J7/00
摘要：獲得從氣體噴出面噴出的氣體流速沿著噴嘴長邊方向都很均勻的氣體噴出噴嘴。本發明的氣體噴出噴嘴具有：殼體，以和樹脂薄膜相對的側面作為氣體噴出面；氣體供給口，沿著噴嘴長邊方向供給氣體；及1個以上的均壓室，從氣體供給口連通到氣體噴出面，其中，至少1個均壓室係藉分隔板構成其氣體噴出面側之面；在分隔板上面，兩端具有開口的複數個筒狀體係以各筒狀體的軸方向正交於噴嘴長邊方向的方式沿著噴嘴長邊方向配置；筒狀體中，從分隔板立起且接近氣體供給口側的壁面與分隔板構成的夾角θ係在既定範圍內；在筒狀體的接觸分隔板之面以包含分隔板一起貫通之孔的形態設有氣體流通孔。
简体摘要：获得从气体喷出面喷出的气体流速沿着喷嘴长边方向都很均匀的气体喷出喷嘴。本发明的气体喷出喷嘴具有：壳体，以和树脂薄膜相对的侧面作为气体喷出面；气体供给口，沿着喷嘴长边方向供给气体；及1个以上的均压室，从气体供给口连通到气体喷出面，其中，至少1个均压室系藉分隔板构成其气体喷出面侧之面；在分隔板上面，两端具有开口的复数个筒状体系以各筒状体的轴方向正交于喷嘴长边方向的方式沿着喷嘴长边方向配置；筒状体中，从分隔板立起且接近气体供给口侧的壁面与分隔板构成的夹角θ系在既定范围内；在筒状体的接触分隔板之面以包含分隔板一起贯通之孔的形态设有气体流通孔。

7. 发明专利

TWI458859B 饋電方法、饋電裝置、薄片用電解電鍍裝置及附有鍍膜之薄片失效
简体标题：馈电方法、馈电设备、薄片用电解电镀设备及附有镀膜之薄片
公开(公告)号：TWI458859B
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW097110908
申请日：2008-03-27
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：川下守 , KAWASHITA, MAMORU , 野村文保 , NOMURA, FUMIYASU
IPC分类号： C25D17/00 , C25D5/56
CPC分类号： C25D7/0614 , C25D5/06 , Y10T428/31681

8. 发明专利

TWI437131B 供電方法、薄片之連續電解電鍍裝置及附電鍍膜之塑膠薄膜的製造方法失效
简体标题：供电方法、薄片之连续电解电镀设备及附电镀膜之塑胶薄膜的制造方法
公开(公告)号：TWI437131B
公开(公告)日：2014-05-11
申请号：TW096110765
申请日：2007-03-28
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC. , 東麗薄膜先端加工股份有限公司 , TORAY ADVANCED FILM CO., LTD.
发明人：川下守 , KAWASHITA, MAMORU , 野村文保 , NOMURA, FUMIYASU , 久下慎太郎 , KUGE, SHINTARO , 三宅徹 , MIYAKE, TORU
IPC分类号： C25D17/28 , C25D21/12
CPC分类号： H05K3/241 , C25D7/00 , C25D7/0657 , C25D17/005 , H05K1/0393 , H05K2203/1545

9. 发明专利

TWI617696B 電漿ＣＶＤ裝置及電漿ＣＶＤ方法有权
简体标题：等离子ＣＶＤ设备及等离子ＣＶＤ方法
公开(公告)号：TWI617696B
公开(公告)日：2018-03-11
申请号：TW103108571
申请日：2014-03-12
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：坂本桂太郎 , SAKAMOTO, KEITARO , 藤內俊平 , TONAI, SHUNPEI , 江尻廣惠 , EJIRI, HIROE , 野村文保 , NOMURA, FUMIYASU
IPC分类号： C23C16/50
CPC分类号： C23C16/509 , B05D1/62 , C23C16/45574 , C23C16/50 , C23C16/54 , C23C16/545 , H01J37/32082 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32532 , H01J37/32568 , H01J37/32669 , H01J37/32825 , H01J37/34 , H01J2237/3321

10. 发明专利

TWI611734B 電漿處理用磁控管電極、磁控管濺鍍電極及使用該電極之成膜方法有权
简体标题：等离子处理用磁控管电极、磁控管溅镀电极及使用该电极之成膜方法
公开(公告)号：TWI611734B
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：TW101106130
申请日：2012-02-24
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：川下守 , KAWASHITA, MAMORU , 植田征典 , UEDA, MASANORI , 江尻廣惠 , EJIRI, HIROE , 野村文保 , NOMURA, FUMIYASU
IPC分类号： H05H1/34
CPC分类号： H01J23/02 , C23C14/3407 , C23C14/35 , H01J37/3405 , H01J37/3438 , H01J37/3452

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式