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    • 1. 发明专利
    • 防反射薄膜及使用其之顯示器用前面板
    • 防反射薄膜及使用其之显示器用前皮肤
    • TW200916819A
    • 2009-04-16
    • TW097118898
    • 2008-05-22
    • 日立麥克賽爾股份有限公司 HITACHI MAXELL, LTD.
    • 稻倉智生 INAKURA, TOMOKI大谷紀昭 OTANI, NORIAKI
    • G02B
    • 聚酯基材及硬塗佈層之間,無用以易黏著化之底漆層,無干涉斑,防反射性能力優異,具備具有高耐傷性之防反射層之防反射薄膜及使用其之顯示器用前面板。含有聚酯基材(10)、及於該聚酯基材(10)之一方主面側(10a),以濕式塗佈法所配置之防反射層之防反射薄膜,上述防反射層係由上述聚酯基材(10)側含有硬塗佈層(11)及比該硬塗佈層更上側所配置之低折射率層(12),上述硬塗佈層(11)係直接設置於上述聚酯基材(10)上,上述硬塗佈層係含金屬氧化物,該金屬氧化物之比率為20體積%~42體積%之防反射薄膜。
    • 聚酯基材及硬涂布层之间,无用以易黏着化之底漆层,无干涉斑,防反射性能力优异,具备具有高耐伤性之防反射层之防反射薄膜及使用其之显示器用前皮肤。含有聚酯基材(10)、及于该聚酯基材(10)之一方主面侧(10a),以湿式涂布法所配置之防反射层之防反射薄膜,上述防反射层系由上述聚酯基材(10)侧含有硬涂布层(11)及比该硬涂布层更上侧所配置之低折射率层(12),上述硬涂布层(11)系直接设置于上述聚酯基材(10)上,上述硬涂布层系含金属氧化物,该金属氧化物之比率为20体积%~42体积%之防反射薄膜。
    • 3. 发明专利
    • 薄片狀成形體及其製造方法
    • 薄片状成形体及其制造方法
    • TW200902307A
    • 2009-01-16
    • TW097107885
    • 2008-03-06
    • 日立麥克賽爾股份有限公司 HITACHI MAXELL, LTD.
    • 古谷隆博 FURUTANI, TAKAHIRO久世定 KUSE, SADAMU
    • B32BB29CB29D
    • B29C59/046B05D1/40B05D3/06B05D7/04B05D2252/02B29C35/0805B29C35/0888B29C39/148B29C39/18
    • 本發明係關於一種薄片狀成形體及其製造方法;也就是說,本發明係提供一種成形精度良好且具有微細凹凸形狀的薄片狀成形體。本發明係一種具備支持體以及配置在支持體某一邊之主面側而支持體側之面之相反面具有凹凸形狀之樹脂層的薄片狀成形體之製造方法,其特徵為:包含:在含有包含放射線硬化性樹脂之放射線硬化性樹脂組成物之塗料層和支持體呈重疊之狀態下,在塗料層抵接於具有凹凸表面之成形模而使得成形模之凹凸面之凹凸形狀轉印於塗料層之後,藉由硬化包含於塗料層之放射線硬化性樹脂而使得塗料層成為樹脂層的樹脂層形成步驟;未硬化狀態之放射線硬化性樹脂係包含由單官能乙烯單體或單官能(甲基)丙烯單體所組成之群組選出之至少一種單體A以及由多官能(甲基)丙烯單體和多官能(甲基)丙烯寡聚物所組成之群組選出之至少一種,於25℃,放射線硬化性樹脂組成物之黏度係3-100mPa.s。
    • 本发明系关于一种薄片状成形体及其制造方法;也就是说,本发明系提供一种成形精度良好且具有微细凹凸形状的薄片状成形体。本发明系一种具备支持体以及配置在支持体某一边之主面侧而支持体侧之面之相反面具有凹凸形状之树脂层的薄片状成形体之制造方法,其特征为:包含:在含有包含放射线硬化性树脂之放射线硬化性树脂组成物之涂料层和支持体呈重叠之状态下,在涂料层抵接于具有凹凸表面之成形模而使得成形模之凹凸面之凹凸形状转印于涂料层之后,借由硬化包含于涂料层之放射线硬化性树脂而使得涂料层成为树脂层的树脂层形成步骤;未硬化状态之放射线硬化性树脂系包含由单官能乙烯单体或单官能(甲基)丙烯单体所组成之群组选出之至少一种单体A以及由多官能(甲基)丙烯单体和多官能(甲基)丙烯寡聚物所组成之群组选出之至少一种,于25℃,放射线硬化性树脂组成物之黏度系3-100mPa.s。
    • 6. 发明专利
    • 資訊記錄媒體
    • 信息记录媒体
    • TW200727284A
    • 2007-07-16
    • TW095104743
    • 2006-02-13
    • 日立麥克賽爾股份有限公司 HITACHI MAXELL, LTD.
    • 白井寬 SHIRAI, HIROSHI石崎修 ISHIZAKI, OSAMU
    • G11B
    • G11B7/0062
    • 【課題】提供將Bi-Ge-Te系相變化材料作為記錄層使用的藍光雷射支援之資訊記錄媒體中,適合於PRML訊號處理技術、記錄資料的信賴性高,且對於資料反覆記錄的耐久性優良的資訊記錄媒體。【解決手段】提供一種資訊記錄媒體,係屬於當令雷射光束的波長為���(nm),令該雷射光束聚光用之物鏡的開口數為NA及記錄線速為V(m/sec)時,是以46.5(nsec)≦(���/NA)/V≦116.0(nsec)且���=400~410(nm)之條件來照射上記雷射光束而可將資訊複數次抹寫的資訊記錄媒體,其中,具備:基板;和被設於基板上,以含Bi、Ge及Te之相變化材料而形成之記錄層;記錄層中的Bi、Ge及Te的組成,是位於Bi、Ge及Te之三角組成圖上的之組成點F3,C3,D3,D5,C5及F5所圍繞而成的組成範圍中。
    • 【课题】提供将Bi-Ge-Te系相变化材料作为记录层使用的蓝光激光支持之信息记录媒体中,适合于PRML信号处理技术、记录数据的信赖性高,且对于数据反复记录的耐久性优良的信息记录媒体。【解决手段】提供一种信息记录媒体,系属于当令激光光束的波长为���(nm),令该激光光束聚光用之物镜的开口数为NA及记录线速为V(m/sec)时,是以46.5(nsec)≦(���/NA)/V≦116.0(nsec)且���=400~410(nm)之条件来照射上记激光光束而可将信息复数次抹写的信息记录媒体,其中,具备:基板;和被设于基板上,以含Bi、Ge及Te之相变化材料而形成之记录层;记录层中的Bi、Ge及Te的组成,是位于Bi、Ge及Te之三角组成图上的之组成点F3,C3,D3,D5,C5及F5所围绕而成的组成范围中。
    • 7. 发明专利
    • 光資訊記錄媒體及其製造方法
    • 光信息记录媒体及其制造方法
    • TWI251233B
    • 2006-03-11
    • TW092130702
    • 2003-11-03
    • 日立麥克賽爾股份有限公司 HITACHI MAXELL, LTD.
    • 末永正志 SUENAGA, MASASHI高橋裕介 TAKAHASHI, YUSUKE宮田勝則 MIYATA, KATSUNORI布村豊幸 NUNOMURA, TOYOYUKI
    • G11B
    • G11B7/24085G11B7/0053G11B7/24079G11B7/261
    • 本發明涉及光資訊記錄媒體。本發明提供的光資訊記錄媒體及其製造方法在具有形成了凹軌內凹坑(in-groove pit)的基板的光資訊記錄媒體中,可以從凹坑(pit)中可靠地檢測出信號並降低再生錯誤率。在本發明的光資訊記錄媒體的基板上形成了多個凸軌(land)及凹軌(groove),並在一部分的凹軌的底面上形成了凹軌內凹坑。該凹軌內凹坑與凹軌方向的長度無關,並可抑制基板半徑方向的寬度擴展,並且與凹軌內凹坑相鄰的凸軌的形狀不會大幅度削減側壁,維持了固定的凸軌及凹軌形狀。尤其在使用並製作形成了與凹軌內凹坑相鄰的凸軌預刻凹坑的基板的光資訊記錄媒體中,也可以可靠地檢測出凸軌預刻凹坑的記錄信號。
    • 本发明涉及光信息记录媒体。本发明提供的光信息记录媒体及其制造方法在具有形成了凹轨内凹坑(in-groove pit)的基板的光信息记录媒体中,可以从凹坑(pit)中可靠地检测出信号并降低再生错误率。在本发明的光信息记录媒体的基板上形成了多个凸轨(land)及凹轨(groove),并在一部分的凹轨的底面上形成了凹轨内凹坑。该凹轨内凹坑与凹轨方向的长度无关,并可抑制基板半径方向的宽度扩展,并且与凹轨内凹坑相邻的凸轨的形状不会大幅度削减侧壁,维持了固定的凸轨及凹轨形状。尤其在使用并制作形成了与凹轨内凹坑相邻的凸轨预刻凹坑的基板的光信息记录媒体中,也可以可靠地检测出凸轨预刻凹坑的记录信号。