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    • 10. 发明公开
    • 재분산성 표면 개질된 이산화규소 입자의 제조 방법
    • 制备可重复表面修饰的二氧化硅颗粒的方法
    • KR1020110030603A
    • 2011-03-23
    • KR1020117001183
    • 2009-06-02
    • 에보니크 데구사 게엠베하
    • 로르츠,볼프강페를레트,가브릴레디너,우베라이츠,사샤
    • C09C1/30G03G9/097C08K3/36C09J11/02
    • C09C1/3018B82Y30/00C01P2004/64C01P2006/12C01P2006/22C08K3/36C08K9/06C09C1/3081C09C1/309C09D7/62C09D7/67G03G9/09716G03G9/09725Y10T428/2995
    • 본 발명은
      a) a1) 적어도 부분적으로 집합되고, Si-O-Si 결합에 의하여 표면 개질 성분에 결합되며, 여전히 이의 표면에 반응성 기를 갖는
      표면 개질된 이산화규소 입자,
      a2) 하나 이상의 규소-탄소 결합 및 반응성 기와 반응하여 공유 Si-O-Si 결합을 형성할 수 있는 하나 이상의 관능기를 갖는
      하나 이상의 유기규소 화합물,
      a3) 하나 이상의 용매
      를 포함하는 예비분산물을 제공하는 단계,
      b) 예비분산물을 고압 분쇄하여 분산물을 형성하는 단계,
      c) 분산물의 액체상을 제거하는 단계
      를 포함하는, 평균 입자 직경이 100 ㎚ 이하인 표면 개질된 이산화규소 입자의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 이러한 방법에 의하여 얻을 수 있는 재분산성 표면 개질된 이산화규소 입자에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 토너 분말, 실리콘 고무, 접착제 및 긁힘 저항성 표면 코팅에서의 이의 용도에 관한 것이다.
    • 生产平均粒径为100nm的表面改性二氧化硅颗粒包括在分散体的形成和分散液体的分散体的液相中提供预分散,高压研磨预分散体,其中预分散体包含:表面改性的二氧化硅颗粒, 至少部分聚集并在其表面上显示出反应性基团; 表现出至少一个硅 - 碳键和至少一个官能团的一种或多种有机硅化合物; 和一种或多种溶剂。 生产平均粒径为100nm的表面改性二氧化硅颗粒包括在分散体的形成和分散液体的分散体的液相中提供预分散,高压研磨预分散体,其中预分散体包含:表面改性的二氧化硅颗粒, 至少部分聚集,通过硅 - 氧 - 硅键与表面改性组分连接,并在其表面上显示出反应性基团; 一个或多个表现出至少一个硅 - 碳键的有机硅化合物和至少一个与反应性基团反应形成共价硅 - 氧 - 硅键的官能团; 和一种或多种溶剂。 对于通过上述方法得到的表面改性二氧化硅颗粒,包括独立权利要求。