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热词
    • 2. 发明公开
    • 탄소막 코팅 플라스틱 용기의 제조 장치 및 제조 방법
    • 碳膜塑料容器的制造设备和制造方法
    • KR1020000075474A
    • 2000-12-15
    • KR1019997007533
    • 1998-02-17
    • 기린 홀딩스 가부시키가이샤
    • 시마무라에이하쿠
    • C23C16/26
    • B29C59/142B29L2031/7158C23C16/045C23C16/26C23C16/4412C23C16/505B65D23/02C23C16/509Y10S427/106
    • 외부전극의내측에용기의외형과동일한크키로형성된진공실내에플라스틱용기를수용하고, 이용기내에내부전극을삽입하여플라즈마를발생시킴으로써용기의내벽면에경질(硬質) 탄소막을형성할때, 플라스틱용기외벽면의돌기물이형성되어있는부분에내벽면이용기의외면형상과동일형상으로형성된장착링(12, 13)을장착하고, 이장착링(12, 13)을용기와함께외부전극의진공실내에수용하여진공실의내벽면과용기의외주면과의사이에장착하고, 또고주파전원(Rf)에복수의외부전극(CR, CC, CL)을접속하여탄소막코팅플라스틱용기를양산할때, 복수의외부전극(CR, CC, CL)을서로도선(導線)(18R, 13R)에의해접속한다.
    • 在外部电极在同一构成的真空室,容纳塑料容器的内侧keuki容器的外观,并且由通过将电极对上板,塑料的使用产生等离子体形成容器的内表面上的硬(硬质)的碳膜时 具有形成为与容器的外表面形状相同形状的内壁表面的内环表面(12,13)安装在容器的外壁表面的形成有突起的部分上,并且内环表面(12,13) 处接收附接到所述真空室和容器,并且当还连接到多个外部电极(CR,CC,CL)在射频(RF)到大量生产的碳膜涂覆的塑料容器,多个的内壁表面的外周面之间的房间 并且,意外的外部电极CR,CC和CL通过导线18R和13R相互连接。
    • 8. 发明授权
    • 입체성형물 중합체의 처리 장치
    • 聚合物三维形状的连续表面处理装置
    • KR100649665B1
    • 2006-11-27
    • KR1020050000187
    • 2005-01-03
    • (주)테크엠
    • 김순옥
    • B29C59/14C08J7/12
    • H01J37/32697B29C59/142B29K2995/0005H01J37/32082
    • 본 발명은 입체성형물 중합체 처리장치 및 그 처리방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마 쉬스가 입체성형물 중합체의 형상에 호응되게 형성되어, 처리되는 중합체의 경도 및 표면전도도가 향상되는 입체성형물 중합체 처리장치 및 그 처리방법에 관한 것이다.
      본 발명은, 내부에 밀폐공간을 형성시킬 수 있는 처리실; 고주파전력 공급장치, 매칭박스, 안테나로 구성되며, 상기 처리실 내부에 플라즈마를 발생시키기 위하여 고주파 전원을 공급하는 고주파전원 공급부; 공정가스 공급원, 공정가스 공급로, 유량 조절수단으로 구성되며, 상기 처리실 내부에서 발생되는 플라즈마를 구성하는 공정가스를 공급하는 공정가스 공급부; 상기 처리실 내부를 감압시켜 진공상태로 만드는 펌핑부; 음전압발생장치, 그리드(grid)로 구성되며, 이온을 집속하는 그리드부;를 포함하여 구성되되, 상기 안테나와 그리드는 250 ~ 350 mm 이격되어 구비되는 것을 특징으로 하는 입체성형물 중합체 처리장치를 제공한다.
      플라즈마, 입체성형물, 중합체
    • 9. 发明公开
    • 입체성형물 중합체의 처리 장치
    • 处理固体模塑聚合物的设备
    • KR1020060079725A
    • 2006-07-06
    • KR1020050000187
    • 2005-01-03
    • (주)테크엠
    • 김순옥
    • B29C59/14C08J7/12
    • H01J37/32697B29C59/142B29K2995/0005H01J37/32082
    • 본 발명은 입체성형물 중합체 처리장치 및 그 처리방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마 쉬스가 입체성형물 중합체의 형상에 호응되게 형성되어, 처리되는 중합체의 경도 및 표면전도도가 향상되는 입체성형물 중합체 처리장치 및 그 처리방법에 관한 것이다.
      본 발명은, 내부에 밀폐공간을 형성시킬 수 있는 처리실; 고주파전력 공급장치, 매칭박스, 안테나로 구성되며, 상기 처리실 내부에 플라즈마를 발생시키기 위하여 고주파 전원을 공급하는 고주파전원 공급부; 공정가스 공급원, 공정가스 공급로, 유량 조절수단으로 구성되며, 상기 처리실 내부에서 발생되는 플라즈마를 구성하는 공정가스를 공급하는 공정가스 공급부; 상기 처리실 내부를 감압시켜 진공상태로 만드는 펌핑부; 음전압발생장치, 그리드(grid)로 구성되며, 이온을 집속하는 그리드부;를 포함하여 구성되되, 상기 안테나와 그리드는 250 ~ 350 mm 이격되어 구비되는 것을 특징으로 하는 입체성형물 중합체 처리장치를 제공한다.
      플라즈마, 입체성형물, 중합체
    • 本发明是三维模塑的聚合物处理装置和涉及它的方法,并且更具体地,等离子体鞘具有三维成形制品形成为响应于所述聚合物的形状,加工改善的硬度和该聚合物的表面电导率的三维模塑的聚合物处理装置 和处理它的方法。
    • 10. 发明授权
    • 입체상 중합체의 연속 표면처리장치 및 연속 표면처리방법
    • 입체상중합체의연속표면처리장치및연속표면처리방입
    • KR100439942B1
    • 2004-07-12
    • KR1020030050170
    • 2003-07-22
    • 주식회사 에폰
    • 최용락
    • C08J7/12
    • C23C14/48B29C59/142C23C14/566H01J37/32412H01J37/32761
    • The present invention provides a continuous surface treatment apparatus of tridimensional-shaped polymer by plasma ion implantation, which includes a high frequency power supplying device for generating plasma for injecting ions, and having a high frequency power supplying unit, a matching box, and an antenna, a gas introducing unit for supplying process gas to be ionized for plasma, a gas supplying unit connected to the gas introducing unit, a processing chamber having a vacuum pump and the like, a leading-in chamber, and an leading-out chamber, which are installed before and after the processing chamber respectively with adjacent thereto, and are adapted to be gas-exhaustible, a transferring unit installed to sequentially pass by through the leading-in chamber, the processing chamber, and the leading-out chamber, transferring means for driving the transferring unit, and doors being positioned in the leading-in chamber and the leading-out chamber respectively, and in partitions between the leading-in chamber and the processing chamber, and between the processing chamber and the leading-out chamber respectively, and automatically capable of being opened/closed so that the transferring unit can pass by therethrough.
    • 本发明提供一种利用等离子体离子注入的立体形状的高分子聚合物连续式表面处理装置,其包括产生用于注入离子的等离子体的高频供电装置,并具有高频供电单元,匹配盒和天线 用于供给等离子化处理气体的气体导入部,与气体导入部连接的气体供给部,具有真空泵等的处理室,导入室以及导出室, 它们分别安装在处理室的前面和后面,并与之相邻,并且适于成为可排气的;传送单元,其被安装成顺序地通过引入室,处理室和引出室,传送 用于驱动传送单元的装置,以及分别位于导入室和导出室中的门, 引入腔室和处理腔室之间以及处理腔室和引出腔室之间,并且自动地能够打开/关闭,使得传送单元可以通过其中。