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1. 发明公开

KR20180061176A 표면의 연마제 분사 변형법 审中-公开
公开(公告)号：KR20180061176A
公开(公告)日：2018-06-07
申请号：KR20187008283
申请日：2016-09-28
IPC分类号： B24C11/00 , B24C1/00 , C23C24/04
CPC分类号： B24C11/005 , B24C1/00 , C23C24/04
摘要： 표면(10)을 50 - 250 m/sec의범위의속도로전달된연마제입자(4)와도펀트입자(6)의혼합물로동시에타격하고, 이에의해표면에도펀트물질을침착시키는, 금속표면처리방법. 또한상기의방법으로처리된표면을가지는물품(8)이제공된다.

2. 发明授权

KR101395373B1 블라스팅 매체 및 블라스팅 방법 有权
标题翻译：喷砂剂和喷砂方法
公开(公告)号：KR101395373B1
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：KR1020127023964
申请日：2010-12-11
申请人： 콤포펌 게엠베하
发明人： 할스텐베르크외르크
IPC分类号： B24C11/00 , B24C9/00
CPC分类号： B24C9/006 , B24C11/005 , Y02P70/179
摘要： 본 발명은 표면들의 기계 가공을 위한 적어도 하나의 매체, 특히 강철 또는 주철 비드들을 갖는 블라스팅 매체(4)에 관한 것이다. 그러한 블라스팅 매체(4)에는 블라스팅하려는 표면(2) 및/또는 블라스팅 매체의 탈지 및 세척을 위한 첨가제(6)가 제공되되, 첨가제(6)는 블라스팅 방법 중에 블라스팅 매체(5)가 받는 기계 응력 하에서 표면들의 기계 가공을 위한 매체 그 자체보다 작은 파괴 강도를 갖는 입상 물질을 포함한다.
摘要翻译：介质（5）具有用于机械地加工工件（2）的处理单元钢和铸造珠，以及添加剂（6），例如。盐，氧化硅或珠光体石，用于对要喷砂的工件和/或喷砂介质进行脱脂和清洁。添加剂包括在爆破方法期间介质经受的机械载荷下具有比处理单元低的断裂强度的颗粒材料。颗粒状材料表现出内孔隙度，其中通过调节装置（8）将介质分成两部分（12,13）。还包括以下独立权利要求：（1）用于在工件上喷射爆破介质的喷砂方法（2）用于执行爆破方法的装置。

3. 发明公开

KR1020090014113A 스크린 프린팅용 금속 마스크 제조 방법 无效
标题翻译：用于生产屏幕印刷的金属掩模的方法
公开(公告)号：KR1020090014113A
公开(公告)日：2009-02-06
申请号：KR1020080075596
申请日：2008-08-01
申请人： 후지 세이사쿠쇼 가부시키가이샤
发明人： 마세,케이지 , 이시바시,쇼죠
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： B41C1/145 , B24C11/005 , H05K3/1225 , H05K2203/107
摘要： A method for producing metal mask for screen printing is provided to allow minute printing and reduce environmental stress without a process for chemicals. In a method for producing metal mask for screen printing, openings are formed in the metal plate to manufacture a metal mask for the screen printing by fusing the metal plate where laser beam is radiated. And then, abrasive is emitted to the other surface of the metal plate. The average diameter of the abrasive granule is 1mm or 0.1um. The abrasive is emitted to the incident angle of 80 degrees or less than by the output rate of the discharge pressure of 0.01 MPa or 0.7 MPa or 5m / sec or 150m / sec, and then it is slid down along with the external surface of the metal play.
摘要翻译：提供一种用于丝网印刷的金属掩模的制造方法，以允许微小的印刷，并且在没有化学品的方法的情况下降低环境应力。在丝网印刷用金属掩模的制造方法中，在金属板上形成开口，通过熔融激光束照射的金属板来制造丝网印刷用金属掩模。然后，研磨剂被发射到金属板的另一个表面。研磨颗粒的平均直径为1mm或0.1um。研磨剂发射到80度或更小的入射角，其排出压力为0.01MPa或0.7MPa或5m / sec或150m / sec的输出速率，然后与其外表面一起滑动金属玩

4. 发明公开

KR1020060042037A 대형 합성 석영 유리 기판의 제조 방법 有权
标题翻译：大尺寸基板的制造方法
公开(公告)号：KR1020060042037A
公开(公告)日：2006-05-12
申请号：KR1020050013074
申请日：2005-02-17
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 시바노유끼오 , 구사비라끼다이스께 , 우에다슌헤이 , 와따베아쯔시
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： B24C11/005 , B24C1/00 , B24C7/0038
摘要： 본 발명의 과제는 부분 가공으로 취성 파괴를 수반하지 않아 후공정의 연마를 필요로 하지 않으며, 또한 안정된 가공 속도를 확보할 수 있어 경제적으로 유리한 가공 방법에 의한 고 평행도 및 고 평탄도의 대형 포토 마스크용 기판 등의 대형 기판의 제조 방법을 제공하는 것이다.
미리 대각 길이가 500 ㎜ 이상의 대형 기판의 평탄도 및 평행도를 대형 기판을 수직 보유 지지하여 측정하고, 그 데이터를 기초로 기판의 볼록 부분 및 두꺼운 부분을 가공 공구에 의해 부분적으로 제거하고, 상기 대형 기판의 평탄도 및 평행도를 높이는 대형 기판의 제조 방법에 있어서, 상기 가공 공구가 압축된 에어에, 물에 미립자를 현탁시킨 슬러리를 동반시켜 기판 상으로 분출하는 구조의 것을 특징으로 하는 대형 기판의 제조 방법이다.
기판, 기판 보유 지지대, 가공 공구

5. 发明公开

KR1020160065226A 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 无效
标题翻译：用于处理废物的装置和方法
公开(公告)号：KR1020160065226A
公开(公告)日：2016-06-09
申请号：KR1020140154705
申请日：2014-11-07
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 최기훈 , 정인일 , 김성수 , 주윤종
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/02057 , B24C1/003 , B24C11/005 , H01L21/02052 , H01L21/67051 , H01L21/02096
摘要： 본발명은기판처리장치및 방법에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판처리방법은, 기판에세정입자를공급하여기판을세정하되, 상기세정입자는고체입자로제공되며, 상기고체입자는상기기판에충격파를가하는기판처리방법에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于处理基底的装置和方法，以提高基底的洗涤过程的效率。根据本发明的一个实施方式，在处理基板的方法中，将洗涤粒子供给到基板，以洗涤基板。洗涤粒子作为固体粒子供给，固体粒子向基材施加冲击波。

6. 发明授权

KR100887218B1 표면 텍스처 형성 방법 有权
标题翻译：表面纹理方法
公开(公告)号：KR100887218B1
公开(公告)日：2009-03-06
申请号：KR1020040055434
申请日：2004-07-16
申请人： 어플라이드 머티어리얼즈 인코포레이티드
发明人： 포피올코우스키,알랜알. , 하트,샤논엠 , 슈바이처,마코오 , 류,알랜비. , 와티아,제니퍼엘. , 웨스트,브라이언 , 멘지,마크
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： B24C11/005
摘要： 챔버 구성요소 등의 워크피스(workpiece)의 표면에 텍스처(texture)를 제공하기 위한 방법 및 시스템이 제공된다. 상기 방법은 워크피스를 텍스처 형성 챔버에 제공하는 단계, 및 워크피스의 표면을 가로질러 전자기 에너지빔을 스캔하여 복수의 형상을 형성하는 단계를 포함한다. 이렇게 형성된 형상은 일반적으로 오목부, 볼록부 및 이들의 조합을 갖는다. 챔버 구성요소는 예를 들면, 챔버 차폐부, 관련된 조립체, 타깃, 새도우링, 접촉링, 기판 지지체 또는 처리 챔버 내에 배치 가능한 다른 구성요소를 포함할 수 있다. 또한, 처리 챔버 내의 오염물을 감소하기 위한 방법이 제공된다. 이 방법은 하나 이상의 처리 챔버 구성요소의 표면을 가로질러 전자기빔을 스캔하여 복수의 형상을 형성하는 단계와, 하나 이상의 챔버 구성요소를 처리 챔버 내에 위치결정하는 단계, 및 상기 처리 챔버 내에서 처리 시퀀스를 개시하는 단계를 포함한다.
처리 챔버, 형상, 에너지빔, 텍스처, 이물질

7. 发明公开

KR1020080112116A 연마청정제, 그 제조방법 및 연마청정제를 사용한연마가공방법 失效
标题翻译：磨料清洁剂，其制造方法和使用磨料清洁剂的抛光方法
公开(公告)号：KR1020080112116A
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：KR1020080057133
申请日：2008-06-18
申请人： 가부시키가이샤 후지키한
发明人： 미야사까,요시오
IPC分类号： C09K3/14
CPC分类号： B24C11/005 , B24C1/083 , B24C1/086 , B24C11/00
摘要： An abrasive cleaning agent is provided to perform the polishing of the processing products like an abrasive cleaning agent using an existing plastic material as an elastic body while preventing the generation of static electricity. An abrasive cleaning agent comprises soluble nitrogen containing mannan obtained from the root of Konjac(a paste made from the starch of the devil's-tongue) as a main material; an elastic body containing 10~30% of water; grains of #220 or less which are dipped on the surface of an elastic body and are laid within an elastic body. The particle diameter as the whole is 88~1190 mum.
摘要翻译：提供研磨清洁剂，以使用现有的塑料材料作为弹性体来进行抛光处理产品，如研磨清洁剂，同时防止产生静电。研磨清洗剂包括从魔芋根（由恶魔舌的淀粉制成的糊）中获得的可溶性含氮甘露聚糖作为主要材料; 含10〜30％水的弹性体; ＃220以下的颗粒浸渍在弹性体的表面上并铺设在弹性体内。粒径总体为88〜1190μm。

8. 发明授权

KR100837041B1 대형 합성 석영 유리 기판의 제조 방법 有权
标题翻译：一种制备大尺寸合成石英玻璃基板的方法
公开(公告)号：KR100837041B1
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：KR1020050013074
申请日：2005-02-17
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 시바노유끼오 , 구사비라끼다이스께 , 우에다슌헤이 , 와따베아쯔시
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： B24C11/005 , B24C1/00 , B24C7/0038
摘要： 본 발명의 과제는 부분 가공으로 취성 파괴를 수반하지 않아 후공정의 연마를 필요로 하지 않으며, 또한 안정된 가공 속도를 확보할 수 있어 경제적으로 유리한 가공 방법에 의한 고 평행도 및 고 평탄도의 대형 포토 마스크용 기판 등의 대형 기판의 제조 방법을 제공하는 것이다.
미리 대각 길이가 500 ㎜ 이상의 대형 기판의 평탄도 및 평행도를 대형 기판을 수직 보유 지지하여 측정하고, 그 데이터를 기초로 기판의 볼록 부분 및 두꺼운 부분을 가공 공구에 의해 부분적으로 제거하고, 상기 대형 기판의 평탄도 및 평행도를 높이는 대형 기판의 제조 방법에 있어서, 상기 가공 공구가 압축된 에어에, 물에 미립자를 현탁시킨 슬러리를 동반시켜 기판 상으로 분출하는 구조의 것을 특징으로 하는 대형 기판의 제조 방법이다.
기판, 기판 보유 지지대, 가공 공구

9. 发明公开

KR1020050009221A 표면 텍스처 형성 방법 有权
标题翻译：表面处理方法提高加工室内表面粘合强度的方法
公开(公告)号：KR1020050009221A
公开(公告)日：2005-01-24
申请号：KR1020040055434
申请日：2004-07-16
申请人： 어플라이드 머티어리얼즈 인코포레이티드
发明人： 포피올코우스키,알랜알. , 하트,샤논엠 , 슈바이처,마코오 , 류,알랜비. , 와티아,제니퍼엘. , 웨스트,브라이언 , 멘지,마크
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： B24C11/005
摘要： PURPOSE: A surface texturizing method is provided to enhance adhesive strength of an inner surface of a process chamber by reducing contamination due to particles condensed thereon. CONSTITUTION: A scanning process is performed to scan an electromagnetic beam across a surface of a component for a sufficient period of time to form a plurality of features thereon(804). A roughening process is performed to roughen the surface and features of the component(806,808). The scanning process includes a transit time and a dwell time. The electromagnetic beam has a power density at a point on the surface of the component upon which the beam is directed in a range of about 10¬4W/mm¬2 to about 10¬7W/mm¬2.
摘要翻译：目的：提供表面纹理化方法，以通过减少由其上凝结的颗粒引起的污染来提高处理室内表面的粘合强度。构成：执行扫描过程以在组件的表面上扫描电磁束足够长的时间以在其上形成多个特征（804）。进行粗糙化处理以粗糙化部件的表面和特征（806,808）。扫描过程包括通行时间和停留时间。电磁波束在组件的表面上的点处具有功率密度，光束在其上被引导在约10-4W / mm 2至约10 -7 W / mm 2的范围内。

10. 发明授权

KR100359501B1 연산제트류절단및가공방법과그장치,이에이용되는연삭제트류절단매질 失效
标题翻译： 연산제트류절단및가공방법과그장치，이에이용되는연삭제트류절단매질
公开(公告)号：KR100359501B1
公开(公告)日：2003-01-24
申请号：KR1019960700982
申请日：1994-08-29
申请人： 익스트루드 혼 코포레이션
发明人： 로우즈,로렌스,제이
IPC分类号： B24C1/00
CPC分类号： B24C11/005 , B24C1/045 , B24C11/00
摘要： Abrasive jet stream cutting, wherein an abrasive is suspended in a flowable jet medium (64) and projected at high velocity and pressure (75) at a workpiece (76) is substantially improved by forming the medium of a polymer having reformable sacrificial chemical bonds which are preferentially broken under high shear conditions. Projecting the medium and suspended abrasive breaks the reformable sacrificial chemical bonds while cutting. The chemical bonds will reform, permitting recycling of the medium and abrasive for reuse in the method. The jet is effective at pressures of about 14 to 80 MPa.
摘要翻译：通过形成具有可重整的牺牲性化学键的聚合物介质，磨料射流的切割显着地得到改善，其中研磨剂悬浮在可流动的射流介质（64）中并且在工件（76）处以高速度和压力（75）在高剪切条件下优先破碎。投影介质和悬浮磨料在切割时会破坏可重整的牺牲性化学键。化学键将重新形成，允许介质和研磨剂的再循环以便在该方法中重新使用。射流在约14至80MPa的压力下有效。

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