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1. 发明授权

KR102038646B1 레이저 처리 장치 및 방법 有权
公开(公告)号：KR102038646B1
公开(公告)日：2019-10-30
申请号：KR1020170131647
申请日：2017-10-11
申请人： 참엔지니어링(주)
发明人： 이진우 , 심홍득 , 박노성 , 황해준 , 노재춘 , 조성원 , 김영재
IPC分类号： H01L51/56 , H01L51/00 , H01L21/67 , B23K37/047 , B23K101/36

2. 发明授权

KR102032978B1 3차원 프린터용 분말층 형성 장치 및 이를 구비한 3차원 프린터 有权
公开(公告)号：KR102032978B1
公开(公告)日：2019-10-16
申请号：KR1020180159963
申请日：2018-12-12
申请人： 참엔지니어링(주)
发明人： 장재영 , 정유종
IPC分类号： B29C64/214 , B33Y30/00

3. 发明授权

KR101961683B1 3D 프린터용 분말공급기 有权
公开(公告)号：KR101961683B1
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：KR1020170081786
申请日：2017-06-28
申请人： 참엔지니어링(주)
发明人： 최남규 , 장재영
IPC分类号： B29C67/00 , B33Y40/00 , B22F3/105

4. 发明授权

KR101903712B1 패턴라인 형성장치 有权
公开(公告)号：KR101903712B1
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：KR1020160058209
申请日：2016-05-12
申请人： 참엔지니어링(주)
发明人： 설봉호 , 원용연 , 양성민
IPC分类号： B41J2/045 , B41J2/14 , B41J3/407 , H05K3/12 , H01L23/482 , C09D11/52
摘要： 본발명은처리물을향하도록위치하는노즐부, 상기노즐부의내부에배치되는핀부, 상기핀부에연결되어전원을공급하는커넥터부, 및상기노즐부의중심축에정렬되도록상기핀부를지지하는탭부,를포함하고, 전기수력학적현상을이용하여용액을토출하며패턴라인을형성함에있어상기노즐부의수명을향상시킬수 있는패턴라인형성장치가제시된다.

5. 发明授权

KR101765244B1 증착 장치 및 증착 방법 有权
公开(公告)号：KR101765244B1
公开(公告)日：2017-08-07
申请号：KR1020150178600
申请日：2015-12-14
申请人： 참엔지니어링(주)
发明人： 이진우 , 박종수 , 허병순 , 하도균
IPC分类号： C23C16/06 , C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/48
摘要： 본발명은대기중에지지되는처리물에막을증착하는장치로서, 대기중에위치하고, 상기처리물을마주보는일면에처리홀이형성되며, 상기처리물과의사이에처리공간을제공하는챔버부, 상기챔버부의내부로연장되며, 출구부가상기처리홀의내주면에형성되는소스공급라인, 상기챔버부의내부로연장되고, 출구부가상기챔버부의일면에서상기처리홀의단부의둘레에위치하는승온가스공급라인을포함하는증착장치로서, 화학기상증착방식으로처리물에막을증착하는동안소스분진이처리공간의외부로유출되는것을방지함과함께막의증착효율을향상시킬수 있는증착장치및 이에적용되는증착방법이제시된다.

6. 发明公开

KR1020170070947A 증착 장치 및 증착 방법 有权
标题翻译：沉积设备和沉积方法
公开(公告)号：KR1020170070947A
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：KR1020150178600
申请日：2015-12-14
申请人： 참엔지니어링(주)
发明人： 이진우 , 박종수 , 허병순 , 하도균
IPC分类号： C23C16/06 , C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/48
摘要： 본발명은대기중에지지되는처리물에막을증착하는장치로서, 대기중에위치하고, 상기처리물을마주보는일면에처리홀이형성되며, 상기처리물과의사이에처리공간을제공하는챔버부, 상기챔버부의내부로연장되며, 출구부가상기처리홀의내주면에형성되는소스공급라인, 상기챔버부의내부로연장되고, 출구부가상기챔버부의일면에서상기처리홀의단부의둘레에위치하는승온가스공급라인을포함하는증착장치로서, 화학기상증착방식으로처리물에막을증착하는동안소스분진이처리공간의외부로유출되는것을방지함과함께막의증착효율을향상시킬수 있는증착장치및 이에적용되는증착방법이제시된다.
摘要翻译：本发明提供一种装置，用于沉积的待处理空气中的被支承的膜，位于空气，处理孔形成面向处理物质，在处理水之间的间隙提供的处理空间的腔室单元的表面上，该并延伸到所述腔室部分，该出口部分延伸到所述源进料管线，在处理孔的内表面上形成的腔室部分，其中包括位于所述处理孔的圆周上的加热气体进料管线的出口部分，在所述腔室的一个侧端是蒸镀装置，也就是灰尘的薄膜上通过化学气相沉积法在处理的产物在沉积过程中的源可以提高抗箱以及与膜沉积效率被泄漏的处理空间沉积装置，并且因此适用于建议，所述沉积方法。

7. 发明授权

KR101682523B1 기판 지지 장치 有权
标题翻译：衬底支撑装置
公开(公告)号：KR101682523B1
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：KR1020150042568
申请日：2015-03-26
申请人： 참엔지니어링(주)
发明人： 김금태 , 명노선 , 이철우 , 김현정 , 하도균
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/673
摘要： 본발명은길이방향으로연장되어형성되고폭 방향으로나란하게배치되는복수개의글라스부재와, 복수개의글라스부재각각을지지가능하도록복수개의글라스부재의하측에형성되는지지부재를포함하는기판지지장치로서, 글라스부재의두께방향으로의처짐을방지하도록글라스부재몸체부의하부면에는보강부가돌출형성되거나부착됨에따라기판을지지하는면의처짐을방지할수 있는기판지지장치가제시된다.
摘要翻译：本发明涉及一种包括形成在多个玻璃的bujaeui下侧，以使支撑多个玻璃部件的支撑构件的基板支撑装置，并且每个所述多个玻璃部件中的哪个长度在一个方向上延伸，并且形成侧由端设置在宽度方向上，玻璃bujaeui下表面玻璃构件本体部分，从而防止厚度方向，所述基片支承装置，提供能够防止对作为加强件形成或附接到突出支撑衬底表面的下垂的偏转。

8. 发明授权

KR101682524B1 슬릿 폭 조정 장치 有权
标题翻译：狭缝调整装置
公开(公告)号：KR101682524B1
公开(公告)日：2016-12-06
申请号：KR1020110094217
申请日：2011-09-19
申请人： 참엔지니어링(주)
发明人： 원용연
IPC分类号： H01S3/10 , G02F1/13
摘要： 본발명은서로평행한제 1 및제 2 슬릿블레이드의일부와각각연결된제 1 및제 2 가동자와, 제 1 및제 2 슬릿블레이드와직교하는방향으로서로평행한제 3 및제 4 슬릿블레이드의일부와각각연결된제 3 및제 4 가동자와, 제 1 및제 2 가동자의하부에마련되어제 1 및제 2 가동자를각각직선운동시키는제 1 고정자와, 제 3 및제 4 가동자의하부에마련되어제 3 및제 4 가동자를각각직선운동시키는제 2 고정자를포함하는슬릿폭 조정장치가제시된다.
摘要翻译：目的：提供狭缝宽度调节装置，以通过单独移动X轴和Y轴的狭缝刀片来进行精确控制。构成：狭缝宽度调节装置包括台（100），第一线性马达，第二线性马达，第一狭缝构件和第二狭缝构件。在台架上的X轴的边缘上准备第一线性马达。在与台架上的X轴正交的Y轴的边缘上准备第二线性马达。第一狭缝构件固定到第一线性电动机。第二狭缝部件固定在第二直线电动机上。

9. 发明公开

KR1020160134234A 시료 관찰 장치 및 커버 어셈블리 有权
标题翻译：用于观察试样和盖组件的装置
公开(公告)号：KR1020160134234A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：KR1020150067953
申请日：2015-05-15
申请人： 참엔지니어링(주)
发明人： 예세희
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/20
摘要： 본발명은내부에진공공간을형성하고일 측에개방구가형성되며전자빔발생이가능한전자빔발생수단을구비하는컬럼부, 상기컬럼부의개방구와대향하여위치하고대기압에서시료를지지하는지지부, 상기컬럼부의개방구와결합되고전자빔이통과할수 있는복수의투과창을가지는커버부를포함하는시료관찰장치로서대기압중의시료를관찰함에있어전자빔이투과되는막의사용수명을향상시킬수 있는시료관찰장치및 커버어셈블리가제시된다.

10. 发明公开

KR1020160134233A 시료 관찰 장치, 커버 어셈블리 및 시료 관찰 방법 审中-实审
标题翻译：用于观察样品盖组件的装置和观察样品的方法
公开(公告)号：KR1020160134233A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：KR1020150067952
申请日：2015-05-15
申请人： 참엔지니어링(주)
发明人： 예세희
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/20 , H01J37/22
摘要： 본발명은내부에진공공간을형성하고일 측에개방구가형성되며, 전자빔발생이가능한전자빔발생수단을구비하는컬럼부, 상기컬럼부의개방구와대향하여위치하고, 대기압에서시료를지지하는지지부, 상기컬럼부의개방구와결합되고, 전자빔이통과할수 있으며두께가다른복수의영역을구비하는투과창을가지는커버부를포함하는시료관찰장치로서, 하나의장치로구성부의교체없이대기압중의시료의이미지및 성분을각각정밀하게관찰및 분석가능한시료관찰장치, 커버어셈블리및 시료관찰방법이제시된다.

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