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1. 发明公开

KR1020060045034A 스퍼터링 표적재 및 그의 제조 방법 有权
标题翻译：溅射靶材及其制造方法
公开(公告)号：KR1020060045034A
公开(公告)日：2006-05-16
申请号：KR1020050026676
申请日：2005-03-30
申请人： 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤
发明人： 이노우에게이스케 , 후쿠이쓰요시 , 다니구치시게루 , 우에무라노리오 , 이와사키가쓰노리 , 사이토가즈야
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3414 , B22F2998/10 , C22C1/045 , B22F1/0003 , B22F1/0096 , B22F3/14
摘要： 소결 재료로 이루어진 스퍼터링 표적재에 있어서, 상기 스퍼터링 표적재는, Ti, Zr, V, Nb 및 Cr로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 금속 원소(M)를 0.5∼50원자% 함유하고, 그 나머지의 양으로 Mo 및 불가피한 불순물을 함유하며, 스퍼터링 표면에 대해 수직인 단면에서 본 마이크로 조직에서의 금속 원소(M)의 각각의 아일랜드 주위에 산화물 입자가 존재하고, 상기 산화물 입자를 직선으로 연결함으로써 밀폐 구역을 형성하도록 구획되는 금속 원소(M)의 아일랜드의 최대 면적이 1.0㎟ 이하인 것을 특징으로 한다.
스퍼터링 표적재, 금속 원소, 아일랜드, 압분체, Mo 합금, 마이크로 조직, 소성 가공성
摘要翻译：在从溅射靶材料，钛，锆，钒，铌和含Cr由0.5〜50原子基团。％时，剩余部分选择由烧结材料的溅射靶材料，和至少一种金属元素（M）量的Mo，和含有不可避免的杂质，并且每个环岛在横截面中的显微组织的金属元素（M）的氧化物颗粒的垂直于用于溅射表面存在，它闭合通过在直线部分耦合所述氧化物粒子并且被分隔以形成金属元素（M）的金属元素（M）的岛的最大面积为1.0mm 2以下。

2. 发明授权

KR101613001B1 Mo 합금 스퍼터링 타깃재의 제조 방법 및 Mo 합금 스퍼터링 타깃재 有权
标题翻译：钼钼制备钼合金溅射靶材和钼合金溅射靶材的方法
公开(公告)号：KR101613001B1
公开(公告)日：2016-04-15
申请号：KR1020140015941
申请日：2014-02-12
申请人： 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤
发明人： 무라타히데오 , 가미나다마사시 , 이노우에게이스케
IPC分类号： B22F3/12 , C23C14/34 , C23C14/14
摘要： 본발명의과제는, 저저항이며내열성, 내습성이나기판과의밀착성도우수하고, 전극·배선박막으로서적합한고밀도, 고순도이며, 또한비자성의 Mo 합금스퍼터링타깃재를안정적이고또한저렴하게제공할수 있는제조방법및 신규의Mo 합금스퍼터링타깃재를제공하는것이다. Ni를 10∼49원자%, Ti를 1∼30원자% 함유하고, 또한 Ni와 Ti의합계량이 50원자% 이하, 잔량부가 Mo 및불가피적불순물로이루어지는조성을만족시키도록, Mo 분말과적어도 1종또는 2종이상의 Ni 합금분말을혼합하고, 이어서가압소결한다. Ni를 10∼49원자%, Ti를 1∼30원자% 함유하고, 또한 Ni와 Ti의합계량이 50원자% 이하이고, 잔량부가 Mo 및불가피적불순물로이루어지는 Mo 합금스퍼터링타깃재이며, Mo의매트릭스중에 Ni 합금상이분산되어있는조직을갖는다.

3. 发明公开

KR1020140103061A Mo 합금 스퍼터링 타깃재의 제조 방법 및 Mo 합금 스퍼터링 타깃재 有权
标题翻译：制造MO合金溅射靶材和MO合金溅射靶材的方法
公开(公告)号：KR1020140103061A
公开(公告)日：2014-08-25
申请号：KR1020140015941
申请日：2014-02-12
申请人： 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤
发明人： 무라타히데오 , 가미나다마사시 , 이노우에게이스케
IPC分类号： B22F3/12 , C23C14/34 , C23C14/14
CPC分类号： B22F3/12 , C23C14/14 , C23C14/34
摘要： An objective of the present invention is to provide a method of fabricating a molybdenum (Mo) alloy sputtering target material to stably and economically provide the Mo alloy sputtering target material with excellent low-resistance, heat resistance, moisture resistance, and adhesion to a substrate, as well as high density and high purity, which are appropriate for an electrode or a wired thin film. The material also has a nonmagnetic property and a novel Mo alloy sputtering target material. Mo powders, and at least one or two types of nickel (Ni) alloy powders, are mixed with each other to satisfy a composition including 10-49 atom% of Ni, 1-30 atom% of titanium (Ti), the sum of Ni and Ti contents are less than or equal to 50 atom%, and the remainder consists of Mo and other inevitable impurities. Then, the mixture is pressed and sintered. Provided is the Mo alloy sputtering target material including 10-49 atom% of Ni, 1-30 atom% of Ti, the sum of Ni and Ti contents are less than or equal to 50 atom%, and a remainder consisting of Mo and other inevitable impurities. The Mo alloy sputtering target material has a structure in which a Ni alloy phase is distributed in a Mo matrix.
摘要翻译：本发明的目的是提供一种制造钼（Mo）合金溅射靶材的方法，以稳定且经济地提供具有优异的低电阻，耐热性，耐湿性和对基片的粘附性的Mo合金溅射靶材，以及高密度和高纯度，其适用于电极或有线薄膜。该材料还具有非磁性和新型的Mo合金溅射靶材料。 Mo粉末和至少一种或两种镍（Ni）合金粉末彼此混合以满足包含10-49原子％的Ni，1-30原子％的钛（Ti）的组成，其总和 Ni和Ti含量小于或等于50原子％，其余由Mo和其他不可避免的杂质组成。然后，将混合物压制并烧结。提供了包括Ni的10-49原子％，Ti的1-30原子％，Ni和Ti含量的总和小于或等于50原子％的Mo合金溅射靶材料，其余由Mo等构成不可避免的杂质。 Mo合金溅射靶材料具有其中Ni合金相分布在Mo基体中的结构。

4. 发明授权

KR100665243B1 스퍼터링 표적재 및 그의 제조 방법 有权
标题翻译：爆炸物目标材料及其制造方法
公开(公告)号：KR100665243B1
公开(公告)日：2007-01-04
申请号：KR1020050026676
申请日：2005-03-30
申请人： 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤
发明人： 이노우에게이스케 , 후쿠이쓰요시 , 다니구치시게루 , 우에무라노리오 , 이와사키가쓰노리 , 사이토가즈야
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3414 , B22F2998/10 , C22C1/045 , B22F1/0003 , B22F1/0096 , B22F3/14
摘要： 소결 재료로 이루어진 스퍼터링 표적재에 있어서, 상기 스퍼터링 표적재는, Ti, Zr, V, Nb 및 Cr로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 금속 원소(M)를 0.5∼50원자% 함유하고, 그 나머지의 양으로 Mo 및 불가피한 불순물을 함유하며, 스퍼터링 표면에 대해 수직인 단면에서 본 마이크로 조직에서의 금속 원소(M)의 각각의 아일랜드 주위에 산화물 입자가 존재하고, 상기 산화물 입자를 직선으로 연결함으로써 밀폐 구역을 형성하도록 구획되는 금속 원소(M)의 아일랜드의 최대 면적이 1.0㎟ 이하인 것을 특징으로 한다.
스퍼터링 표적재, 금속 원소, 아일랜드, 압분체, Mo 합금, 마이크로 조직, 소성 가공성

5. 发明公开

KR1020060102322A 스퍼터링 표적재 및 그의 제조 방법 无效
标题翻译：爆炸物目标材料及其制造方法
公开(公告)号：KR1020060102322A
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：KR1020060086790
申请日：2006-09-08
申请人： 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤
发明人： 이노우에게이스케 , 후쿠이쓰요시 , 다니구치시게루 , 우에무라노리오 , 이와사키가쓰노리 , 사이토가즈야
IPC分类号： C23C14/34 , H01L21/203
CPC分类号： C23C14/3414 , B22F2998/10 , C22C1/045 , B22F1/0003 , B22F1/0096 , B22F3/14
摘要： 소결 재료로 이루어진 스퍼터링 표적재에 있어서, 상기 스퍼터링 표적재는, Ti, Zr, V, Nb 및 Cr로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 금속 원소(M)를 0.5∼50원자% 함유하고, 그 나머지의 양으로 Mo 및 불가피한 불순물을 함유하며, 스퍼터링 표면에 대해 수직인 단면에서 본 마이크로 조직에서의 금속 원소(M)의 각각의 아일랜드 주위에 산화물 입자가 존재하고, 상기 산화물 입자를 직선으로 연결함으로써 밀폐 구역을 형성하도록 구획되는 금속 원소(M)의 아일랜드의 최대 면적이 1.0㎟ 이하인 것을 특징으로 한다.
스퍼터링 표적재, 금속 원소, 아일랜드, 압분체, Mo 합금, 마이크로 조직, 소성 가공성

6. 发明公开

KR1020130079176A Mo 합금 스퍼터링 타깃재의 제조 방법 및 Mo 합금 스퍼터링 타깃재 无效
标题翻译：制造喷射靶材料MO合金和钼合金溅射靶材的方法
公开(公告)号：KR1020130079176A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：KR1020120149375
申请日：2012-12-20
申请人： 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤
发明人： 무라타히데오 , 가미나다마사시 , 이노우에게이스케
IPC分类号： C23C14/34 , C22C27/04 , C22C1/04
摘要： PURPOSE: A method for manufacturing a molybdenum (Mo) alloy sputtering target material and the Mo alloy sputtering target material are provided to lower an electric resistance, to improve a thermal resistance, a moisture resistance, and an adhesive property to a substrate, and to obtain high density and high purity suitable for an electrode-wiring film. CONSTITUTION: A molybdenum (Mo) alloy sputtering target includes 10 to 49 atom% of Ni, 1 to 20 atom% of Nb, and remnants Mo and inevitable impurities. The total amount of Nb and Ni is below 50 atom%. A method for manufacturing the material includes: a step of forming a mixture of Mo powder and at least one or two kinds of Ni alloy powder; and a step of continuously pressurizing and sintering the mixture. The Ni alloy powder is formed with a Ni-Nb alloy.
摘要翻译：目的：提供一种用于制造钼（Mo）合金溅射靶材料和Mo合金溅射靶材料的方法，以降低电阻，提高耐热性，耐湿性和对基材的粘合性，以及获得适用于电极布线膜的高密度和高纯度。构成：钼（Mo）合金溅射靶包括10〜49原子％的Ni，1〜20原子％的Nb，残留Mo和不可避免的杂质。 Nb和Ni的总量低于50原子％。一种制造该材料的方法包括：形成Mo粉末和至少一种或两种Ni合金粉末的混合物的步骤; 以及连续加压和烧结混合物的步骤。 Ni合金粉末由Ni-Nb合金形成。

7. 发明授权

KR100939727B1 고융점 금속계 분말의 제조방법 및 타겟재의 제조방법 有权
标题翻译：具有高熔点的金属粉末的制造方法和靶材的制造方法
公开(公告)号：KR100939727B1
公开(公告)日：2010-01-29
申请号：KR1020050122545
申请日：2005-12-13
申请人： 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤
发明人： 사이토가즈야 , 이노우에게이스케 , 히라카와에이지 , 이와사키가츠노리
IPC分类号： B22F9/04
CPC分类号： Y02P10/24 , Y02W30/541
摘要： 화학적 방법이나 열플라즈마에 의한 용융정련이라는 고가의 방법을 이용하지 않고, 사용을 마친 고융점 금속계 타겟재로부터 고융점 금속계 분말을 용이하면서 저렴하게 안정하여 제조하는 방법을 제공한다.
사용을 마친 고융점 금속계 타겟재를 깎아 내는 처리하여 절삭분으로 하고, 상기 절삭분을 분쇄 처리하여 미분말로 한 후, 또 진공 또는 환원성 분위기에서 열처리를 하는 고융점 금속계 분말의 제조방법이다. 또한, 사용을 마친 고융점 금속계 타겟재를 깎아 내는 처리하여 절삭분으로 하고, 상기 절삭분을 진공 또는 환원성 분위기에서 열처리를 한 후, 또 분쇄 처리하여 미분말로 하는 고융점 금속계 분말의 제조방법이다.

8. 发明公开

KR1020060066660A 고융점 금속계 분말의 제조방법 및 타겟재의 제조방법 有权
标题翻译：具有高熔点的金属粉末的制造方法和目标材料的制造方法
公开(公告)号：KR1020060066660A
公开(公告)日：2006-06-16
申请号：KR1020050122545
申请日：2005-12-13
申请人： 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤
发明人： 사이토가즈야 , 이노우에게이스케 , 히라카와에이지 , 이와사키가츠노리
IPC分类号： B22F9/04
CPC分类号： Y02P10/24 , Y02W30/541
摘要： 화학적 방법이나 열플라즈마에 의한 용융정련이라는 고가의 방법을 이용하지 않고, 사용을 마친 고융점 금속계 타겟재로부터 고융점 금속계 분말을 용이하면서 저렴하게 안정하여 제조하는 방법을 제공한다.
사용을 마친 고융점 금속계 타겟재를 삭출 처리하여 절삭분으로 하고, 상기 절삭분을 분쇄 처리하여 미분말로 한 후, 또 진공 또는 환원성 분위기에서 열처리를 하는 고융점 금속계 분말의 제조방법이다. 또한, 사용을 마친 고융점 금속계 타겟재를 삭출 처리하여 절삭분으로 하고, 상기 절삭분을 진공 또는 환원성 분위기에서 열처리를 한 후, 또 분쇄 처리하여 미분말로 하는 고융점 금속계 분말의 제조방법이다.

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