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1. 发明授权

KR101816162B1 헤테로고리 화합물 및 이를 이용한 유기발광소자 有权
公开(公告)号：KR101816162B1
公开(公告)日：2018-01-08
申请号：KR1020150151689
申请日：2015-10-30
申请人： 희성소재 (주)
发明人： 김미진 , 김기용 , 하양수 , 최진석 , 최대혁 , 음성진 , 이주동
IPC分类号： C07D471/04 , C07D209/82 , C07D403/14 , C07D401/14 , C09K11/06 , H01L51/50 , H01L51/00
CPC分类号： H01L51/0072 , C07D471/04 , C07D471/14 , C07D519/00 , C07F9/6561 , C09K11/06 , H01L51/0052 , H01L51/0054 , H01L51/0058 , H01L51/0061 , H01L51/0067 , H01L51/0073 , H01L51/0074 , H01L51/50 , H01L51/5072
摘要： 본명세서는신규한헤테로고리화합물및 이를이용한유기발광소자에관한것이다.

2. 发明授权

KR101763222B1 헤테로고리 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자 有权
公开(公告)号：KR101763222B1
公开(公告)日：2017-07-31
申请号：KR1020150091457
申请日：2015-06-26
申请人： 희성소재 (주)
发明人： 이정현 , 노영석 , 박건유 , 김동준 , 김기용 , 최진석 , 최대혁 , 음성진 , 이주동
IPC分类号： C07D495/04 , C07D487/04 , C07D209/82 , C07D307/91 , C07D333/76 , C07D417/14 , C09K11/06 , H01L51/50
CPC分类号： H01L51/0067 , C07D491/048 , C07D495/04 , C07D519/00 , C07F7/0812 , C07F9/6561 , C09K11/025 , H01L51/0052 , H01L51/0054 , H01L51/0058 , H01L51/0061 , H01L51/0071 , H01L51/0072 , H01L51/0073 , H01L51/0074 , H01L51/0094 , H01L51/5012 , H01L51/5056 , H01L51/5072 , H01L51/5092 , H01L51/5096
摘要： 본출원은유기발광소자의수명, 효율, 전기화학적안정성및 열적안정성을크게향상시킬수 있는헤테로고리화합물, 및상기헤테로고리화합물이유기화합물층에함유되어있는유기발광소자를제공한다.

3. 发明公开

KR1020160052399A 함질소 다환 화합물 및 이를 이용한 유기발광소자 审中-实审
公开(公告)号：KR1020160052399A
公开(公告)日：2016-05-12
申请号：KR1020150151692
申请日：2015-10-30
申请人： 희성소재 (주)
发明人： 라현주 , 김기용 , 김용우 , 양정훈 , 최진석 , 최대혁 , 음성진 , 이주동
IPC分类号： C07D221/18 , C07D401/10 , C07D401/14 , C09K11/06 , H01L51/50 , H01L51/00
摘要： 본출원은함질소다환화합물및 이를포함하는유기발광소자에관한것이다.

4. 发明公开

KR1020160051210A 헤테로고리 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자 审中-实审
公开(公告)号：KR1020160051210A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：KR1020140150780
申请日：2014-10-31
申请人： 희성소재 (주)
发明人： 김동준 , 장형근 , 천현동 , 최진석 , 최대혁 , 음성진 , 이주동 , 이준아
IPC分类号： C07D401/14 , C07D209/82 , C09K11/06 , C07D401/04 , H01L51/50
摘要： 본출원은유기발광소자의수명, 효율, 전기화학적안정성및 열적안정성을크게향상시킬수 있는헤테로고리화합물, 및상기헤테로고리화합물이유기화합물층에함유되어있는유기발광소자를제공한다.

5. 发明公开

KR1020160041019A 헤테로고리 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자 审中-实审
标题翻译：杂环化合物和使用其的有机发光器件
公开(公告)号：KR1020160041019A
公开(公告)日：2016-04-15
申请号：KR1020150140461
申请日：2015-10-06
申请人： 희성소재 (주)
发明人： 노영석 , 김기용 , 최진석 , 최대혁 , 음성진 , 이주동
IPC分类号： C07D471/04 , C07D401/14 , C09K11/06 , H01L51/50 , H01L51/00
摘要： 본명세서는신규한헤테로고리화합물및 이를이용한유기발광소자에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及新型杂环化合物和使用其的有机发光器件。

6. 发明公开

KR1020160008819A 헤테로고리 화합물 및 이를 이용한 유기발광소자 审中-实审
标题翻译：异环化合物和有机发光装置
公开(公告)号：KR1020160008819A
公开(公告)日：2016-01-25
申请号：KR1020140089024
申请日：2014-07-15
申请人： 희성소재 (주)
发明人： 노영석 , 김기용 , 최진석 , 김우삼 , 음성진 , 이주동
IPC分类号： C07D219/02 , C07D401/14 , C09K11/06 , H01L51/50
摘要： 본발명은헤테로고리화합물및 이를이용한유기발광소자에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及杂环化合物和使用其的有机发光装置。在本发明中，提供了一种有机发光装置，其包括在正极和负极之间具有至少一层的正极，负极和有机物质层。有机物层的至少一层包含由化学式1表示的化合物。本说明书中描述的化合物可用作有机发光器件的有机物质层材料。

7. 发明公开

KR1020150094009A 저온 승화 정제 장치 有权
标题翻译：低温离子纯化装置
公开(公告)号：KR1020150094009A
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：KR1020140014750
申请日：2014-02-10
申请人： 희성소재 (주)
发明人： 이유석 , 임행연 , 장형근 , 하양수 , 음성진 , 이주동
IPC分类号： B01D7/00
CPC分类号： B01D7/00
摘要： 본 발명은 저온에서 승화되는 재료를 정제하기 위한 저온 승화 정제 장치에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예는 베이스 프레임; 상기 베이스 프레임의 상측에 일측이 안착되는 외부튜브; 상기 외부튜브의 내부에 삽입되는 내부튜브; 상기 베이스 프레임의 상부에 결합되는 커버; 및 상기 베이스 프레임 또는 상기 커버의 내측에 구비되는 히터;를 포함하며, 상기 베이스 프레임의 외측으로 연장된 상기 외부튜브의 타측에 적어도 하나 이상의 냉각자켓이 결합되는 것을 특징으로 하는 저온 승화 정제 장치를 제공한다.
摘要翻译：本发明涉及一种在低温下的升华净化装置，用于净化在低温下升华的材料。根据本发明的一个实施方案，提供了一种在低温下的升华净化装置，其包括：基架; 外管，其一侧设置在基架的上侧; 插入外管内部的内管; 与所述基架的上部连接的盖; 以及配置在所述基架或所述盖的内侧的加热器，其中，延伸到所述基座的外侧的所述外管的另一侧与至少一个冷却套相连接。

8. 发明公开

KR1020150075169A 함질소 다환 화합물 및 이를 이용한 유기발광소자 审中-实审
标题翻译：具有氮和有机发光装置的多元化合物
公开(公告)号：KR1020150075169A
公开(公告)日：2015-07-03
申请号：KR1020130162587
申请日：2013-12-24
申请人： 희성소재 (주)
发明人： 장소현 , 노영석 , 김동준 , 장형근 , 음성진 , 이주동
IPC分类号： C07D471/14 , C09K11/06 , H01L51/50
摘要： 본명세서에는신규한구조의함질소다환화합물및 이를이용한유기발광소자가기재되어있다.
摘要翻译：本发明涉及采用新颖结构的含氮多环化合物和使用其的有机发光装置。根据本发明，可以使用含氮多环化合物在有机发光器件中形成有机层。

9. 发明公开

KR1020150074833A 피라졸계 화합물 및 이를 이용한 유기발광소자 审中-实审
标题翻译：基于吡唑的化合物和有机发光装置
公开(公告)号：KR1020150074833A
公开(公告)日：2015-07-02
申请号：KR1020130162986
申请日：2013-12-24
申请人： 희성소재 (주)
发明人： 김지희 , 김용우 , 이진우 , 음성진 , 이주동
IPC分类号： C07D471/14 , C09K11/06 , H01L51/50
摘要： 본발명은피라졸계화합물및 이를포함하는유기발광소자에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种吡唑类化合物及包含该化合物的有机发光器件。有机发光器件包括正极，负极和形成在正极和负极之间的一个或多个有机层，其中有机层包括吡唑基化合物。

10. 发明公开

KR1020150064885A 승화 정제 장치 有权
标题翻译：装置净化装置
公开(公告)号：KR1020150064885A
公开(公告)日：2015-06-12
申请号：KR1020130149744
申请日：2013-12-04
申请人： 희성소재 (주)
发明人： 이유석 , 임행연 , 한정섭 , 음성진 , 이주동
IPC分类号： B01D7/00 , C07B63/00
CPC分类号： B01D7/00 , C07B63/00
摘要： 본발명은유기물재료의물성변화온도차이를이용하여불순물을승화정제하는장치에관한것으로, 본발명의일 실시예에의하면, 베이스프레임; 상기베이스프레임의상측에안착되는외부튜브; 상기외부튜브의내부에적어도하나이상의수득용튜브가길이방향으로연속배치되어이루어지는내부튜브; 및상기베이스프레임의상부에결합되고, 내측에는길이방향으로서로이격하여복수의히터가구비되는커버를포함하며, 상기내부튜브의일측에불순물포집유닛이탈착가능하게장착되는것을특징으로하는승화정제장치가제공된다.
摘要翻译：本发明涉及使用有机材料的性质变化的温度差去除杂质的升华净化装置。根据本发明的实施例，升华净化装置包括：基架; 安装在所述基架的上部的外管; 构成为至少一个取水管的内管在外管的内部沿长度方向依次排列; 盖子，其连接到所述基座的上部，并且配备有沿其纵向方向彼此间隔开的多个加热器，其中，安装有可拆卸地在所述内管的一侧上的杂质收集单元。

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