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1. 发明公开

KR1020170132339A 착색 감광성 수지 조성물, 경화막, 컬러 필터, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자, 및 화상 표시 장치 审中-实审
标题翻译：彩色感光性树脂组合物，固化膜，彩色滤光片，彩色滤光片的制造方法，固体摄像元件以及图像显示装置
公开(公告)号：KR1020170132339A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：KR1020177033705
申请日：2014-07-18
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 오오타카즈야 , 이나베하루키
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/031 , G02B5/20 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/201 , C09B1/206 , C09B25/00 , C09B29/335 , C09B48/00 , G03F7/0007 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/0388 , G03F7/105
摘要： 분광의변동이작음과함께, 미세패턴의해상성이우수한착색감광성수지조성물, 상기착색감광성수지조성물을이용한, 경화막, 컬러필터, 컬러필터의제조방법, 고체촬상소자및 화상표시장치를제공한다. 착색감광성수지조성물은, (A) 안료, (B) 안료, 및 (C) 중량평균분자량이 38000 이하인산기를함유하는수지, (D) 안료분산제, 및 (E) 안료유도체를포함하는착색감광성수지조성물로서, (A) 안료는, 적색안료및 등색안료로부터선택되는적어도 1종으로이루어지고, 또한 (A) 안료에대한적색안료의질량비(적색안료/(A) 안료)가 0.3 이상이며, (B) 안료는, 녹색안료, 청색안료및 흑색안료로부터선택되는적어도 1종으로이루어지고, 상기조성물에포함되는전체안료에대한 (B) 안료의질량비((B) 안료/전체안료)가 0.005~0.25이다.
摘要翻译：一种彩色滤光片，一种彩色滤光片的制造方法，一种固态图像拾取装置以及一种使用该彩色光敏树脂组合物的图像显示装置。着色感光性树脂组合物中，（A）颜料，（B）颜料和（C），其包括树脂的着色感光性树脂，（d）颜料分散剂，和（E）具有重均分子量含有较少磷酸基团38000的颜料衍生物和组合物中，（a）中的颜料是由至少一种选自红色颜料和橙色颜料选择，红色颜料与颜料（a）中的重量比（红色颜料/（A）颜料）为0.3或更多，（的 B）颜料，绿色颜料，蓝色颜料和包含至少一种从黑色颜料中，（按重量计的颜料B的）（（B）包含在组合物中的总的颜料的颜料/总颜料）为约0.005至约 0.25。

2. 发明授权

KR101733024B1 감광성 수지 조성물, 그 수지 경화물 및 컬러 필터 有权
公开(公告)号：KR101733024B1
公开(公告)日：2017-05-08
申请号：KR1020167003202
申请日：2014-09-05
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 타구치요시노리 , 이나베하루키
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/033 , G03F7/004 , G02B5/20
CPC分类号： G02B5/201 , G03F7/0007 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/105
摘要： 화소패턴의패턴직선성이나거칠기의경시안정성이우수하고, 또한그 경화물을고온가열했을때(특히특정녹색안료를포함하는녹색경화물(화소)과인접시킨상태로고온가열했을때)에도바늘형상이물을발생시키지않는감광성수지조성물, 그수지경화물및 이를이용하여제작한컬러필터를제공한다. 안료와, 산성혹은중성의색소유도체와, 염기성분산제와, 현상수지를함유하는적색의감광성수지조성물로서, 안료가적색안료와, C. I. P. O. 71과, C. I. P. Y. 139를포함하고, 적색안료가 C. I. P. R. 254를포함하는감광성수지조성물이다.

3. 发明授权

KR101422631B1 포지티브 레지스트 조성물 및 이를 사용한 패턴형성방법 有权
标题翻译：正型抗蚀剂组合物和使用其形成图案的方法
公开(公告)号：KR101422631B1
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：KR1020130009521
申请日：2013-01-28
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 칸다히로미 , 칸나신이치 , 이나베하루키
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
摘要： 본 발명은: (A)산의 작용에 의해 알칼리 현상액에서 용해성이 향상되는 수지; (B)활성광선 또는 방사선의 조사에 의해 산을 발생하는 화합물; (C)(x)~(z)의 군에서 선택된 하나 이상의 기를 함유하는 불소 포함 화합물; 및 (F)용제를 함유하는 포지티브 레지스트 조성물 및 상기 조성물을 사용한 패턴형성방법을 제공한다:(x)알칼리 가용성기; (y)알칼리 현상액의 작용에 의해 분해하여 알칼리 현상액에서 용해성이 향상되는 기; 및 (z)산의 작용에 의해 분해되는 기; 및 (F)용제를 함유하는 포지티브 레지스트 조성물에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及：（A）通过酸的作用在碱性显影剂中具有改善的溶解性的树脂; （B）在用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物; （C）含有选自（x）〜（z）中的至少一种基团的含氟化合物; （F）溶剂和使用该组合物的图案形成方法：（x）碱溶性基团; （y）通过碱显影剂的作用而分解以提高在碱性显影液中的溶解性的基团; （z）由于酸的作用而分解的基团; 和（F）溶剂。

4. 发明授权

KR101347135B1 액침 노광에 사용하기 위한 포지티브형 레지스트 조성물 및 그것을 사용한 패턴형성방법 有权
标题翻译：用于液体暴露暴露的正型类型抗蚀剂组合物和形成使用其的图案的方法
公开(公告)号：KR101347135B1
公开(公告)日：2014-01-03
申请号：KR1020120049158
申请日：2012-05-09
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 칸다히로미 , 이나베하루키
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/00
CPC分类号： G03F7/039 , C07C69/54 , C08F214/18 , C08F220/22 , C08F220/26 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/322 , H01L21/0274 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/146
摘要： (A)산의 작용에 의해 알칼리 현상액 중에서의 용해도가 증대하는, 단환식 또는 다환식 고리형 지방족 탄화수소 구조를 갖는 수지; (B)활성 광선 및 방사선 중 어느 하나에 의한 조사시 산을 발생하는 화합물; (C)5개 이상의 탄소 원자의 알킬기를 갖는 알칼리 가용성 화합물; 및 (D)용제를 포함하는 액침 노광에 사용하기 위한 포지티브형 레지스트 조성물.
摘要翻译：用于液浸暴露的正型抗蚀剂组合物包括：（A）具有单环或多环脂环族烃结构的树脂，所述树脂通过酸作用增加其在碱性显影剂中的溶解度; （B）在用光化射线和辐射之一照射时产生酸的化合物; （C）具有5个以上碳原子的烷基的碱溶性化合物; 和（D）溶剂。

5. 发明授权

KR101943339B1 착색 감광성 수지 조성물, 경화막, 컬러 필터, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자, 및 화상 표시 장치 有权
公开(公告)号：KR101943339B1
公开(公告)日：2019-01-29
申请号：KR1020177033705
申请日：2014-07-18
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 오오타카즈야 , 이나베하루키
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/031 , G02B5/20 , G02F1/1335

6. 发明公开

KR1020160030257A 감광성 수지 조성물, 그 수지 경화물 및 컬러 필터 有权
标题翻译：光敏树脂组合物，树脂固化产品和彩色滤纸
公开(公告)号：KR1020160030257A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：KR1020167003202
申请日：2014-09-05
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 타구치요시노리 , 이나베하루키
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/033 , G03F7/004 , G02B5/20
CPC分类号： G02B5/201 , G03F7/0007 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/105
摘要： 화소패턴의패턴직선성이나거칠기의경시안정성이우수하고, 또한그 경화물을고온가열했을때(특히특정녹색안료를포함하는녹색경화물(화소)과인접시킨상태로고온가열했을때)에도바늘형상이물을발생시키지않는감광성수지조성물, 그수지경화물및 이를이용하여제작한컬러필터를제공한다. 안료와, 산성혹은중성의색소유도체와, 염기성분산제와, 현상수지를함유하는적색의감광성수지조성물로서, 안료가적색안료와, C. I. P. O. 71과, C. I. P. Y. 139를포함하고, 적색안료가 C. I. P. R. 254를포함하는감광성수지조성물이다.

7. 发明公开

KR1020160021867A 착색 감광성 수지 조성물, 경화막, 컬러 필터, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치 有权
标题翻译：彩色感光树脂组合物，固化膜，彩色滤光片，生产彩色滤光片的方法，固态成像元件和图像显示装置
公开(公告)号：KR1020160021867A
公开(公告)日：2016-02-26
申请号：KR1020167001513
申请日：2014-07-31
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 이나베하루키
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/033 , G03F7/028 , G03F7/027 , G03F7/00 , G02B5/22 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/223 , C09B29/02 , C09B29/335 , C09B29/3652 , C09B47/061 , C09B57/00 , C09B57/004 , G03F7/0007 , G03F7/033 , G03F7/0388 , G03F7/105
摘要： 착색감광성수지조성물은, (A) 안료, (B) 염기성색소유도체, (C-1) 하기일반식 (II)로나타나는인산계분산제, 또는 (C-2) 적어도하나의말단에수산기를갖는중합체(POH) 혹은적어도하나의말단에제1 급아미노기를갖는중합체(PNH)와, 트라이카복실산무수물혹은테트라카복실산 2무수물을반응시켜이루어지는카복실산계분산제, (D) 수지바인더, (E) 광중합개시제, 및 (F) 중합성화합물을함유한다.

8. 发明授权

KR101418319B1 포지티브 레지스트 조성물 및 이를 사용한 패턴형성방법 有权
公开(公告)号：KR101418319B1
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：KR1020060070464
申请日：2006-07-26
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 칸다히로미 , 칸나신이치 , 이나베하루키
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
摘要： 본 발명은: (A)산의 작용에 의해 알칼리 현상액에서 용해성이 향상되는 수지; (B)활성광선 또는 방사선의 조사에 의해 산을 발생하는 화합물; (C)(x)~(z)의 군에서 선택된 하나 이상의 기를 함유하는 불소 포함 화합물; 및 (F)용제를 함유하는 포지티브 레지스트 조성물 및 상기 조성물을 사용한 패턴형성방법을 제공한다:(x)알칼리 가용성기; (y)알칼리 현상액의 작용에 의해 분해하여 알칼리 현상액에서 용해성이 향상되는 기; 및 (z)산의 작용에 의해 분해되는 기; 및 (F)용제를 함유하는 포지티브 레지스트 조성물에 관한 것이다.

9. 发明授权

KR101418313B1 ＡｒＦ 노광용 레지스트 조성물 및 그것을 사용한 패턴형성방법 有权
标题翻译：用于ArF曝光的耐蚀组合物和使用其形成图案的方法
公开(公告)号：KR101418313B1
公开(公告)日：2014-07-10
申请号：KR1020130048700
申请日：2013-04-30
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 칸다히로미 , 이나베하루키
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/039 , C07C69/54 , C08F214/18 , C08F220/22 , C08F220/26 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/322 , H01L21/0274 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/146
摘要： (A)산의 작용에 의해 알칼리 현상액 중에서의 용해도가 증대하는, 단환식 또는 다환식 고리형 지방족 탄화수소 구조를 갖는 수지; (B)활성 광선 및 방사선 중 어느 하나에 의한 조사시 산을 발생하는 화합물; (C)5개 이상의 탄소 원자의 알킬기를 갖는 알칼리 가용성 화합물; 및 (D)용제를 포함하는 액침 노광에 사용하기 위한 포지티브형 레지스트 조성물.
摘要翻译：用于液浸暴露的正型抗蚀剂组合物包括：（A）具有单环或多环脂环族烃结构的树脂，所述树脂通过酸作用增加其在碱性显影剂中的溶解度; （B）在用光化射线和辐射之一照射时产生酸的化合物; （C）具有5个以上碳原子的烷基的碱溶性化合物; 和（D）溶剂。

10. 发明公开

KR1020130049795A ＡｒＦ 노광용 레지스트 조성물 및 그것을 사용한 패턴형성방법 有权
标题翻译：用于ARF曝光的耐蚀组合物和使用其形成图案的方法
公开(公告)号：KR1020130049795A
公开(公告)日：2013-05-14
申请号：KR1020130048700
申请日：2013-04-30
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 칸다히로미 , 이나베하루키
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/039 , C07C69/54 , C08F214/18 , C08F220/22 , C08F220/26 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/322 , H01L21/0274 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/146 , G03F7/26 , H01L21/027
摘要： PURPOSE: A resist composition for ArF exposure and the pattern formation method using the same are provided to suppress the development defect, the elution of the resist component to the scum and the immersion solution at the exposure in the immersion. CONSTITUTION: A resist composition for the ArF exposure comprises: a resin having the single ring type or the polycyclic ring type aliphatic hydrocarbon structure where the solubility increases in the alkaline developing solution by the action of the acid; a compound which generates the acid at the irradiation by any one of the active ray and the radiation; an alkali soluble compound having at least more than one of the fluorine atom; and a solvent. The resin and the alkali soluble compound do not include the polymeric compound having the unit A having ester group of the exo represented by chemical formula 1a, and the unit B having the ester group with two hexafluoroisopropanol groups represented by chemical formula 1b as the component to the molar ratio of 0.1
摘要翻译：目的：提供用于ArF曝光的抗蚀剂组合物和使用该抗蚀剂组合物的图案形成方法，以抑制显影缺陷，在浸渍时曝光时抗蚀剂组分对浮渣和浸渍溶液的洗脱。构成：用于ArF曝光的抗蚀剂组合物包括：具有单环型或多环型脂族烃结构的树脂，其中通过酸的作用在碱性显影液中溶解度增加; 在活性射线和辐射中的任一种照射时产生酸的化合物; 具有至少多于一个氟原子的碱溶性化合物; 和溶剂。树脂和碱溶性化合物不包括具有由化学式1a表示的具有酯的酯基的单元A的聚合化合物，具有由以化学式1b表示的两个六氟异丙醇基的酯基的单元B作为组分抗蚀剂组合物中不同化合物的摩尔比为0.1 <= A /（A + B）<= 0.8和0.01 <= B /（A + B）<= 0.9。

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