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1. 发明公开

KR1020070066822A 광촉매, 그 제조 방법 및 광촉매를 사용한 물품 无效
标题翻译：光催化剂，其制备方法及使用光催化剂的制品
公开(公告)号：KR1020070066822A
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：KR1020060033577
申请日：2006-04-13
申请人： 후지쯔 가부시끼가이샤
发明人： 구리하라가즈아키 , 와카무라마사토 , 나가누마야스오 , 아소노리야스
IPC分类号： B01J21/06 , B01J21/16
CPC分类号： B01J35/004 , B01D2255/20707 , B01D2255/802 , B01J27/18 , B01J35/1014 , B01J37/0215 , B01J37/03 , C02F2305/10
摘要： A novel photocatalyst having excellent adsorption properties and decomposition properties with respect to various materials, a preparing method of the photocatalyst, and articles using the photocatalyst are provided. A photocatalyst comprises a porous body coated with titanium apatite. The porous body is diatomaceous earth. The titanium apatite is formed by a co-precipitation method or a sol-gel method. As a method for preparing a photocatalyst comprising a porous body coated with titanium apatite, the method comprises depositing titanium apatite produced by the co-precipitation method on the porous body. The method comprises coexisting the porous body in a medium used to form the titanium apatite during the formation of the titanium apatite by the co-precipitation method.
摘要翻译：提供了对各种材料具有优异吸附性能和分解性能的新型光催化剂，光催化剂的制备方法和使用该光催化剂的制品。光催化剂包括涂有钛磷灰石的多孔体。多孔体是硅藻土。钛磷灰石通过共沉淀法或溶胶 - 凝胶法形成。作为制备包含涂覆有磷灰石的多孔体的光催化剂的方法，该方法包括将通过共沉淀法生产的磷灰石沉积在多孔体上。该方法包括在通过共沉淀法形成钛磷灰石期间在用于形成钛磷灰石的介质中共存多孔体。

2. 发明公开

KR1020030011711A 금속 성형체 제조 방법 및 이에 의해 제조되는 전자 기기하우징 失效
标题翻译：金属物体成型方法及其制造的电子器件的制造
公开(公告)号：KR1020030011711A
公开(公告)日：2003-02-11
申请号：KR1020020045140
申请日：2002-07-31
申请人： 후지쯔 가부시끼가이샤
发明人： 이시즈까마사노부 , 아소노리야스 , 니시이고오따 , 기무라고이찌
IPC分类号： B22D17/00
CPC分类号： B22D19/00 , B22D17/00 , B22D17/2007 , B22D19/04 , B22D19/16
摘要： PURPOSE: A metal object forming method whereby a metal object with thin walls can be produced properly without suffering a defect resulting from poor flowability of the molten metal, and a housing of an electronic device that is produced by such a method are provided. CONSTITUTION: The metal object forming method comprises a preliminary step of providing a molding die(1) with flowability-improving material which melts into molten metal(30) and causes freezing point depression of the molten metal; and an injecting step of supplying the molten metal into the die for producing a casting, wherein the flowability-improving material comprises metal particles contained in lubricant, the lubricant being applied to a cavity-defining surface of the die at the preliminary step, the molten metal being supplied at a temperature high enough to melt at least part of the metal particles at the injecting step, wherein the metal particles are coated with thermoplastic resin, and wherein the flowability-improving material comprises a metal plate, the metal plate being disposed on a cavity-defining surface of the die at the preliminary step, the molten metal being supplied at a temperature high enough to melt at least part of the metal plate at the injecting step.
摘要翻译：目的：一种能够适当地制造具有薄壁的金属物体而不会产生由于熔融金属的差的流动性导致的缺陷的金属物体形成方法，并且提供通过这种方法制造的电子设备的壳体。构成：金属物体形成方法包括提供具有流动性改善材料的成型模具（1）的预备步骤，其熔化到熔融金属（30）中并引起熔融金属的凝固点下压; 以及将熔融金属供给到用于制造铸件的模具中的注入步骤，其中所述流动性改进材料包含润滑剂中包含的金属颗粒，所述润滑剂在所述预备步骤中被施加到所述模具的空腔限定表面，所述熔融金属被供给的温度足够高以在注入步骤熔化至少部分金属颗粒，其中金属颗粒被热塑性树脂涂覆，并且其中流动性改进材料包括金属板，金属板设置在在预备步骤中模具的空腔限定表面，熔融金属在足够高的温度下被供应以在注射步骤熔化金属板的至少一部分。

3. 发明公开

KR1020050046008A 광촉매 아파타이트 함유막, 그 형성 방법, 코팅액 및 광촉매 아파타이트 함유막으로 피복된 부위를 갖는 전자기기 有权
标题翻译：含有光聚合物的薄膜，其形成方法，涂布液和具有包含光聚合物的薄膜的成员的电子设备
公开(公告)号：KR1020050046008A
公开(公告)日：2005-05-17
申请号：KR1020057002614
申请日：2002-09-17
申请人： 후지쯔 가부시끼가이샤
发明人： 아소노리야스 , 와카무라마사토
IPC分类号： B01J27/14 , B01J35/02 , B01J21/06
摘要： A photocatalyst apatite-containig film which comprises an inorganic coating base and, dispersed therein, a powdery photocatalyst apatite and a powdery titanium oxide and in which the total content of the photocatalyst apatite and the titanium oxide is 0.01 to 5 wt.%.
摘要翻译：一种含有无机涂层基底并分散有粉末光催化剂磷灰石和粉末状氧化钛的光催化剂磷灰石含有膜，其中光催化剂磷灰石和氧化钛的总含量为0.01〜5重量％。

4. 发明授权

KR100592375B1 광촉매 아페타이트막의 형성 방법 有权
标题翻译：形成光催化磷灰石薄膜的方法
公开(公告)号：KR100592375B1
公开(公告)日：2006-06-22
申请号：KR1020057004571
申请日：2002-12-27
申请人： 후지쯔 가부시끼가이샤
发明人： 아소노리야스 , 와카무라마사토
IPC分类号： B01J35/02 , B01J27/18 , B01J37/02
CPC分类号： B01J35/004 , B01J21/16 , B01J27/18 , B01J37/347
摘要： 본 발명의 광촉매 아페타이트막의 형성 방법은 광촉매 아페타이트를 포함하는 스퍼터링용의 타겟을 제작하기 위한 타겟 제작 공정(S12)과, 상기 타겟을 이용한 스퍼터링법에 의해 기재에 대하여 광촉매 아페타이트를 성막하기 위한 스퍼터링 공정(S13)을 포함한다. 스퍼터링 공정(S13)보다 전에, 광촉매 아페타이트의 결정성이 향상되도록 해당 광촉매 아페타이트를 소성하기 위한 소성 공정(S11)이 행하여진다.
광촉매 아페타이트막, 스퍼터링법
摘要翻译：本发明的用于膜形成光催化AHPE的紧贴由目标生产过程（S12），使用目标用于制造溅射靶，其包括光催化剂AHPE紧溅射法在基板的光催化AHPE紧成膜方法和溅射工艺（S13）。在此之前的溅射工艺（S13），提高光催化剂的AHPE紧焙烧步骤（S11），用于烘烤所述光催化AHPE紧是这样进行的结晶度。

5. 发明公开

KR1020050046788A 광촉매 아페타이트막의 형성 방법 有权
标题翻译：形成光催化薄膜的方法
公开(公告)号：KR1020050046788A
公开(公告)日：2005-05-18
申请号：KR1020057004571
申请日：2002-12-27
申请人： 후지쯔 가부시끼가이샤
发明人： 아소노리야스 , 와카무라마사토
IPC分类号： B01J35/02 , B01J27/18 , B01J37/02
CPC分类号： B01J35/004 , B01J21/16 , B01J27/18 , B01J37/347
摘要： A method for forming a photocatalyst apatite film comprising a step (S12) for producing a sputtering target containing photocatalyst apatite, and a step (S13) for forming a photocatalyst apatite film on a basic material by sputtering using that target. A step (S11) for firing the photocatalyst apatite is conducted before the sputtering step (S13) in order to enhance the crystallinity of photocatalyst apatite.
摘要翻译：一种形成光催化剂磷灰石膜的方法，包括用于制备含有光催化剂磷灰石的溅射靶的步骤（S12），以及用于通过使用该靶材通过溅射在碱性材料上形成光催化剂磷灰石膜的步骤（S13）。为了提高光催化剂磷灰石的结晶性，在溅射工序（S13）之前进行烧成光催化剂磷灰石的工序（S11）。

6. 发明授权

KR100815776B1 금속 성형체 제조 방법 및 이에 의해 제조되는 전자 기기하우징 失效
标题翻译：制造金属模具的方法和由该方法制造的电子设备外壳
公开(公告)号：KR100815776B1
公开(公告)日：2008-03-20
申请号：KR1020020045140
申请日：2002-07-31
申请人： 후지쯔 가부시끼가이샤
发明人： 이시즈까마사노부 , 아소노리야스 , 니시이고오따 , 기무라고이찌
IPC分类号： B22D17/00
CPC分类号： B22D19/00 , B22D17/00 , B22D17/2007 , B22D19/04 , B22D19/16
摘要： 본 발명의 과제는 박육화를 양호하게 달성할 수 있는 금속 성형체 제조 방법 및 이에 의해 제조되는 금속 성형체를 제공하는 것이다.
금속 성형체의 제조 방법에 있어서, 용융 금속(30)에 융합함으로써 상기 용융 금속(30)의 응고 온도를 강하시키는 조성을 갖는 금속 재료를 금형(1) 내에 설치하기 위한 예비 공정과, 용융 금속(30)을 금형(1) 내에 사출함으로써 주조부를 형성하기 위한 성형 공정을 행한다.
금형, 용융 금속, 금속 성형체, 복합 성형체, 금속판, 캐비티

7. 发明授权

KR100699295B1 광촉매 아파타이트 함유막, 그 형성 방법, 코팅액 및 광촉매 아파타이트 함유막으로 피복된 부위를 갖는 전자기기 有权
标题翻译：含有光聚合物的薄膜，其形成方法，涂布液和具有包含光聚合物的薄膜的成员的电子设备
公开(公告)号：KR100699295B1
公开(公告)日：2007-03-26
申请号：KR1020057002614
申请日：2002-09-17
申请人： 후지쯔 가부시끼가이샤
发明人： 아소노리야스 , 와카무라마사토
IPC分类号： B01J27/14 , B01J35/02 , B01J21/06
摘要： 광촉매 아파타이트 함유막은 무기 코팅 베이스, 해당 무기 코팅 베이스에 분산되는 분말상의 광촉매 아파타이트 및 분말상의 산화티탄을 포함하고, 광촉매 아파타이트 및 산화티탄의 총함유율이 0.01∼5 중량%이다.

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