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    • 2. 发明公开
    • 유도 결합형 플라즈마 화학 증착 및 그 제어 방법
    • 电感耦合等离子体化学气相沉积和控制方法
    • KR1019970028874A
    • 1997-06-24
    • KR1019950039241
    • 1995-11-01
    • 한화케미칼 주식회사
    • 원호연이행우최윤김성호
    • C30B29/04
    • 본 발명은 유도결합형 고주파 플라즈마 화학증착법을 이용하는 유도결합형 플라즈마 화학증착 장치 및 그 제어방법에 관한 것이다. 본 발명의 유도결합형 고주파 플라즈마 화학증착 장치는 플라즈마에 의해 기판에 박막을 형성시키는 반응기 영역, 고주파를 공급하는 고주파 발생기, 발생된 고주파와 반응기간의 임피던스를 매칭시키는 매칭 네트워크부, 반응기의 진공도 유지 및 진공도 측정을 위한 배기부, 반응기체가 공급되는 반응기체 공급부로 구성되는 유도결합형 플라즈마 화학증착 장치에 있어서, 상기 매칭 네트워크부가 고주파 발생기의 출력단에 직렬로 연결된 가변 부하 캐패시터와; 상기 가변 부하 캐패시터와 병렬로 연결된 가변 튠 캐패시터를 구비하고, 상기 고주파 발생기의 임피던스와 매칭네트워크, 유도코일을 포함하는 반응기 전체의 임피던스를 자동으로 매칭시키며, 상기 매칭 네트워크부를 자동 제어하기 의하여 선택적으로 자동 매칭네트워크 제어부를 더욱 구비함으로써 반응기에 대전력을 공급하여 고밀도의 균일한 플라즈마를 제공하면서도 가능한한 임피던스 매칭점을 빨리 찾을 수 있는 효과가 있다.