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热词
    • 1. 发明公开
    • 웨이퍼건조장치
    • 烘干设备
    • KR1020000002124A
    • 2000-01-15
    • KR1019980022710
    • 1998-06-17
    • 한봉섭
    • 이상선이응호
    • H01L21/304
    • PURPOSE: A wafer drying device is provided to prevent production of the pollutant from the friction of the wafer and a boat and improve the washing and drying characteristics of the wafer. CONSTITUTION: The wafer drying device comprises; a motor(108), a washing tub moving device up and down; a linear movement converter to convert a rotary movement produced by the drive of a motor(108) into a linear movement; a connecting device to connect the tip of the screw bar(111) moving up and down by the drive of the linear movement converter, with the washing tub(104); a pulley(109) fixed to the motor shaft and rotating.
    • 目的:提供晶片干燥装置,以防止污染物从晶片和船的摩擦产生,并提高晶片的洗涤和干燥特性。 构成:晶片干燥装置包括: 电动机(108),上下洗涤桶移动装置; 线性运动转换器,其将由马达(108)的驱动产生的旋转运动转换成线性运动; 连接装置,用于连接由线性运动转换器的驱动器上下移动的螺杆(111)的尖端与洗涤桶(104); 固定在马达轴上并旋转的滑轮(109)。
    • 2. 发明授权
    • 웨이퍼세정액의회수장치
    • 晶圆清洗液回收装置
    • KR100342070B1
    • 2002-10-25
    • KR1019980022711
    • 1998-06-17
    • 한봉섭
    • 이상선
    • H01L21/304
    • 본 발명은 웨이퍼 세정액의 회수장치, 즉 웨이퍼 건조장치에서 미반응된 IPA증기를 회수하는 회수장치에 관한 것으로, 특히 미반응된 IPA증기를 회수하여 다시 사용할 수 있도록 하는 것으로, 웨이퍼(100)를 올려놓고 공급되는 IPA증기를 사용하여 웨이퍼 표면에 있는 탈이온수층을 IPA층으로 치환하고, 상기 웨이퍼(101)를 IPA증기가 웨이퍼 표면의 탈이온수층을 IPA층으로 치환한 IPA증기를 회수하기 위하여 형성된 물받이(102)와, 상기 물받이(102)에 의하여 받아진 반응된 IPA증기가 모여 배출되는 배출구(103)와, 상기 배출구(103)로 배출되는 반응된 IPA증기를 외부로 배출시키기 위하여 연결된 배출관(104)이 구성된 것에 있어서, 웨이퍼(101)의 표면의 탈이온수층을 IPA층으로 치환하기 위하여 공급된 IPA증기 중에서 미반응된 IPA증기가 물받이(102)이 저면에서 액화되� �� 흘러내리는 미반응된 IPA증기가 배출관(104)내로 유입되어 배출되는 것을 방지하고 이를 회수할 수 있도록 하기 위하여 상기 배출관(104)의 선단이 물받이(102)에 형성된 보울(bowl) 형상의 배출구(103)에 삽입되어 연결되도록한 것이다.
    • 3. 发明授权
    • 웨이퍼건조장치
    • KR100309580B1
    • 2001-12-17
    • KR1019980022710
    • 1998-06-17
    • 한봉섭
    • 이상선이응호
    • H01L21/304
    • 본 발명은 웨이퍼 건조장치에 관한 것으로 특히 웨이퍼 세척후 웨이퍼를 IPA(Isopropyl alcohol)증기를 이용하여 탈이온수층을 IPA층으로 치환시키는 과정에서 웨이퍼를 고정시키고 수세조를 이동시켜 감압상태로 건조시킬 수 있도록한 것으로, IPA증기발생장치(101)에 의하여 발생된 IPA증기와 가열된 질소가스가 공급되는 공급관(102)이 상부에 연결된 챔버(103)내에 수세조(104)와 수세조상부를 감압시킬 수 있는 수세조 차단막(118)을 구성하고, 상기 수세조(104)내에 웨이퍼(105)보트를 이용하여 안착시키고 세정액을 급수하는 급수관(106)과 세정이 끝난후에는 세정수를 배수시키는 배수관(107)이 상기 챔버(103)의 하부를 관통하여 외부로 통하고 챔버내에 공급된 IPA증기와 질소가스를 챔버 측면외부의 아스피레이터와 연결된 배기구(119)를 통하여 배출될 수 있도록 � �성된 것에 있어서, 상기 수세조(104)내에 안착된 웨이퍼(105)의 세척이 완료된 후에는 이를 IPA증기와 치환 건조하기 위하여 수세조를 하부로 이동할 때 안착된 웨이퍼(105)는 고정된 상태에서 무진의 신축성 튜브로 쌓여진 리프트를 이용하여 수세조(104)를 하부로 이동시켜 수세조내부를 감압시킬 수 있는 감압수단과, 상기 웨이퍼(105)가 움직이는 것을 방지하도록 웨이퍼(105)가 안착된 상태에서 수세조(104)를 상부로 이동시켜 주는 상,하이동수단은 모터(108)와, 상기 모터(108)에 축설되어 회동하는 웜(109)과, 상기 웜(109)과 치합되어 회동하는 웜기어(110)와, 상기 웜기어(110)내에 형성된 암나사에 결합되어 수직상태에서 회동하는 나사봉(111)과, 상기 나사봉(111)의 상단에 수세조(104)을 결합시키는 결합수단을 구비하였다.
    • 4. 发明公开
    • 웨이퍼세정액의회수장치
    • 设备回收在无风干燥设备中未反应的IPA蒸气
    • KR1020000002125A
    • 2000-01-15
    • KR1019980022711
    • 1998-06-17
    • 한봉섭
    • 이상선
    • H01L21/304
    • PURPOSE: An IPA vapor returning device is provided to return pure water and the replaced and non-reacted IPA vapor. CONSTITUTION: An IPA vapor collecting device comprises: a waterspout(102) to collect the IPA vapor formed by replacing the deionized water layer to the IPA layer by the IPA vapor on a wafer surface; an outlet(103) to discharge the IPA vapor collected by the waterspout and reacted; and an outlet tube(104) to discharge the IPA vapor discharged to the outlet.
    • 目的:提供IPA蒸汽返回装置以返回纯水和更换的和未反应的IPA蒸气。 构成:IPA蒸汽收集装置包括:用于收集由晶片表面上的IPA蒸气将去离子水层替换为IPA层而形成的IPA蒸气的水槽(102); 出口(103),用于排出由水槽收集的IPA蒸气并反应; 和出口管(104),以排出排出到出口的IPA蒸气。