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热词
    • 1. 发明公开
    • 다층기판홀더를 이용한 양산형 박막증착장치
    • 通过使用多个基板堆叠架进行大量生产涂装设备
    • KR1020090035185A
    • 2009-04-09
    • KR1020070100318
    • 2007-10-05
    • 한국원자력연구원
    • 조상진이창희김학노
    • C23C14/34C23C14/24C23C14/00
    • A depositing thin film device of mass production type using a multilayer substrate holder is provided to reduce the manufacture unit cost as the gas emission time is shortened. A depositing thin film device(1) of mass production type using a multilayer substrate holder comprises: a multilayer substrate holder mount chamber(10) having a plurality of substrates for the thin film deposition of vacuum; a multilayer substrate holder(20) holding the substrates mounted on the multilayer substrate holder mount chamber; a linear transfer driving part(30) equipped at one side of the multilayer substrate holder in order to load the substrate holder on an evaporation transport drive(50) transferring to a substrate deposition waiting chamber(40) for the thin film deposition; and a thin film deposition chamber(60) deposition processing in the substrate loaded in the evaporation transport drive. The linear transfer driving part comprises a stepping motor or a servo motor. A protrusion comprises an elastic spring and a line tensely connected to the elastic spring, and is included in the evaporation transport drive.
    • 提供使用多层基板保持器的批量生产型沉积薄膜装置,以减少气体发射时间缩短时的制造单位成本。 一种使用多层衬底保持器的批量生产型沉积薄膜器件(1)包括:具有多个用于真空薄膜沉积的衬底的多层衬底保持器安装室(10) 保持安装在多层基板保持架安装室上的基板的多层基板保持架(20) 线性传输驱动部件,其配置在所述多层基板保持件的一侧,以将所述基板保持件装载在转移到用于所述薄膜沉积的基板沉积等候室(40)的蒸发输送驱动器(50)上; 以及薄膜沉积室(60)在装载在蒸发传输驱动器中的基板中的沉积处理。 线性传递驱动部分包括步进马达或伺服马达。 突起包括弹性弹簧和紧固连接到弹性弹簧的线,并且包括在蒸发输送驱动器中。
    • 3. 发明授权
    • 편극 중성자 유도관
    • 편극성성자유도관
    • KR100647353B1
    • 2006-11-23
    • KR1020050064213
    • 2005-07-15
    • 한국원자력연구원
    • 조상진이창희김학노김영진
    • G21K5/00G21C23/00
    • A polarized neutron guide tube is provided to effectively obtain the polarized neutrons by separating the polarized neutrons into spin-up and spin-down polarized neutrons. A polarized neutron guide tube includes a body portion(12), first and second spaces(50,60), and a neutron separation space(10). The body portion includes a vacuum space, where neutrons are transferred, therein and super mirrors, which face the vacuum space. A neutron reflection film is coated on the super mirrors. The first and second spaces are installed in the body portion and formed by dividing the vacuum space using a first planar portion. The neutron separation space includes a second planar portion and a third planar portion. The second planar portion is slantly installed from the inner surface of the body portion to a front edge of the first planar portion at an inlet hole of the first space. The third planar portion is slantly installed from the other inner surface of the body portion to the front edge of the first planar portion at an inlet hole of the second space. Spin-up and spin-down polarized neutrons are transferred to the first and second spaces, respectively.
    • 提供偏振中子引导管以通过将偏振中子分离成旋转偏振中子和旋转偏振中子来有效地获得偏振中子。 偏振中子导管包括主体部分(12),第一和第二空间(50,60)以及中子分离空间(10)。 主体部分包括真空空间,在真空空间中中子被转移,在真空空间中,中间体和超镜面向真空空间。 中子反射膜被涂在超级镜子上。 第一和第二空间安装在主体部分中并且通过使用第一平面部分分隔真空空间而形成。 中子分离空间包括第二平面部分和第三平面部分。 第二平面部分在第一空间的入口孔处从主体部分的内表面倾斜地安装到第一平面部分的前边缘。 第三平面部分在第二空间的入口孔处从本体部分的另一内表面倾斜地安装到第一平面部分的前边缘。 旋转偏振中子和旋转偏振中子分别被转移到第一和第二空间。
    • 4. 发明授权
    • 2개의 편극 중성자 초거울을 이용한 편극 중성자 반사율측정 장치
    • 使用两个极化中子超镜测量极化中子反射率的装置
    • KR100636794B1
    • 2006-10-20
    • KR1020040051695
    • 2004-07-02
    • 한국원자력연구원한국수력원자력 주식회사
    • 조상진이창희김영진
    • G01N23/05
    • 본 발명은, 두 개의 편극 중성자 초거울을 이용한 편극 중성자 반사율 측정 장치에 관한 것으로, 중성자원으로부터 중성자들을 안내하는 중성자 유도관; 상기 중성자 유도관으로부터 나온 중성자들을 단색화하는 단색기; 상기 단색기에서 단색화되어 특정파장을 가지며 스핀 업과 스핀 다운 중성자를 포함하는 중성자선으로부터, 스핀 업 중성자를 반사하는 제1 편극 중성자 초거울과 스핀 다운 중성자를 반사하는 제2 편극 중성자 초거울을 이용하여, 시료에 입사되는 스핀 형태를 결정하는 스핀 선택기; 상기 스핀 선택기로부터 선택되어 나온 하나의 스핀 형태의 중성자선의 폭을 줄여 시료에 입사시키는 슬릿; 상기 시료에서 반사되는 중성자선을 스핀 형태에 따라 반사 또는 투과시키기 위하여 초거울을 사용하는 분석기; 및 상기 시료를 투과한 중성자와 상기 분석기를 투과 또는 반사한 중성자를 검출하여 반사율을 측정하는 검출기; 를 포함하는 편극 중성자 반사율 측정 장치를 제공한다.
      이와 같은 구성을 갖는 본 발명에 의하면, 편극 중성자 반사율 장치의 구조가 간단해지고, 운용이 간단해진다는 효과가 있게 된다.
      편극 중성자, 초거울, 중성자 반사율 측정 장치, 편극
    • 5. 发明授权
    • 진공플라즈마 스퍼터링장치
    • 真空等离子体喷雾装置
    • KR100583475B1
    • 2006-05-26
    • KR1020040051691
    • 2004-07-02
    • 한국원자력연구원한국수력원자력 주식회사
    • 조상진이창희김영진강희영
    • H01L21/203
    • 본 발명은 냉중성자 유도관의 박막(thin film) 제조및 분광장치 분야에서 광범위하게 사용되어지는 중성자 거울, 단색기, 초거울(Super Mirrors)등의 중성자 광학부품을 개발하기 위한 스퍼터링 장치(sputtering apparatus)에 관한 것이다.
      본 발명은, 마그네트론 스퍼터링 건 및/또는 트라이오드 스퍼터링 건들이 선택적으로 장착가능한 직선이송형(Inline) 진공 챔버; 상기 진공 챔버내에서 기판을 상기 기판 장입실로 부터 증착실과 기판 대기실측을 따라서 전,후로 이동시키는 이송 수단; 상기 기판들이 기판 장입실, 증착실과, 기판 대기실에 각각 정확하게 위치되도록 그 위치를 검출하는 검출수단;및 상기 기판들이 선택되어진 마그네트론 스퍼터링 건 및/또는 트라이오드 스퍼터링 건들에 의해서 증착이 이루어지도록 제어하는 콘트롤러;들을 포함한다.
      본 발명에 의하면, 하나의 진공 챔버내에서 트라이오드 스퍼터링과 마그네트론 스퍼터링을 선택적으로 실시할 수 있음으로써 박막 두께에 따른 박막 품질을 크게 향상시킬 수 있다. 그리고, 복수개의 기판을 동시에 인라인 방식으로 장착하고, 다수개의 타겟들을 구비함으로써 증착 작업의 생산성을 크게 향상시킬 수 있다.
      플라즈마, 초거울, 마그네트론, 트라이오드, 스퍼터링 장치
    • 7. 发明公开
    • 진공플라즈마 스퍼터링장치
    • 真空等离子溅射系统
    • KR1020060002587A
    • 2006-01-09
    • KR1020040051691
    • 2004-07-02
    • 한국원자력연구원한국수력원자력 주식회사
    • 조상진이창희김영진강희영
    • H01L21/203
    • C23C14/3478C23C14/35
    • 본 발명은 냉중성자 유도관의 박막(thin film) 제조및 분광장치 분야에서 광범위하게 사용되어지는 중성자 거울, 단색기, 초거울(Super Mirrors)등의 중성자 광학부품을 개발하기 위한 스퍼터링 장치(sputtering apparatus)에 관한 것이다.
      본 발명은, 마그네트론 스퍼터링 건 및/또는 트라이오드 스퍼터링 건들이 선택적으로 장착가능한 직선이송형(Inline) 진공 챔버; 상기 진공 챔버내에서 기판을 상기 기판 장입실로 부터 증착실과 기판 대기실측을 따라서 전,후로 이동시키는 이송 수단; 상기 기판들이 기판 장입실, 증착실과, 기판 대기실에 각각 정확하게 위치되도록 그 위치를 검출하는 검출수단;및 상기 기판들이 선택되어진 마그네트론 스퍼터링 건 및/또는 트라이오드 스퍼터링 건들에 의해서 증착이 이루어지도록 제어하는 콘트롤러;들을 포함한다.
      본 발명에 의하면, 하나의 진공 챔버내에서 트라이오드 스퍼터링과 마그네트론 스퍼터링을 선택적으로 실시할 수 있음으로써 박막 두께에 따른 박막 품질을 크게 향상시킬 수 있다. 그리고, 복수개의 기판을 동시에 인라인 방식으로 장착하고, 다수개의 타겟들을 구비함으로써 증착 작업의 생산성을 크게 향상시킬 수 있다.
      플라즈마, 초거울, 마그네트론, 트라이오드, 스퍼터링 장치
    • 本发明的溅射开发一个中子的光学部件,诸如冷却薄膜(薄膜)的制造和分光镜中子被广泛应用于场反射镜,中子感应管的固体基,第二反射镜(超级镜像)装置(溅射装置 )本发明涉及。
    • 8. 发明授权
    • 넓은 에너지 범위의 중성자 에너지 분포 측정 장치와 방법
    • 中子能量分布测量仪器和宽能量范围的方法
    • KR101058523B1
    • 2011-08-23
    • KR1020080123903
    • 2008-12-08
    • 한국원자력연구원
    • 문명국이창희천종규
    • G01T3/00G01T1/16
    • 본 발명은 넓은 에너지 범위의 중성자 에너지 분포 측정 장치와 방법에 관한 것으로, 그 목적은 위치민감 중성자 검출기와 원뿔 또는 방추형 형태로 가공된 폴리에틸렌을 이용하여 짧은 시간 내에 중성자 에너지의 분포를 측정하는 장치 및 방법을 제공함에 있다.
      본 발명의 구성은 중성자 에너지 측정장치에 있어서, 두께가 선형적으로 연속 변화되는 구조를 가진 폴리에틸렌(2)과; 이 폴리에틸렌 내에 삽입된 동축형 위치민감 중성자 검출기(1)를 포함하여 구성한 넓은 에너지 범위의 중성자 에너지 분포 측정 장치와 이를 이용한 측정방법을 그 기술적 사상의 특징으로 하고, 이에 따라 폴리에틸렌의 두께가 얇은 부분은 저에너지 중성자를 측정하고 폴리에틸렌의 두께가 두꺼운 부분은 고에너지 중성자를 측정하여 폭 넓은 에너지를 가진 중성자를 하나의 중성자 검출기를 이용하여 일시에 측정하게 된다.
      중성자 에너지 분광기, 동축형 위치민감 중성자 검출기, 중성자 스펙트럼, 열중성자, 고밀도 폴리에틸렌
    • 为测量本发明装置涉及一种方法和一个宽的能量范围内的中子能量分布测定装置,其目的是位置敏感的中子探测器和中子能量在很短的时间通过使用处理的聚乙烯具有圆锥形或纺锤状​​的形式和方法的分布 它是提供。
    • 9. 发明公开
    • 대량의 기판 장착 및 탈착 시스템을 이용한 양산형박막증착 장치
    • 使用装载和卸载多基板支架进行大规模生产的涂装装置
    • KR1020090035186A
    • 2009-04-09
    • KR1020070100319
    • 2007-10-05
    • 한국원자력연구원
    • 조상진이창희김학노
    • C23C14/34C23C14/24C23C14/00
    • A depositing thin film device of mass production type using a bulk substrate mounting and desorption system is provided to remove the vacuum time as particles within a thin film deposition chamber with a target gun is no need to be frequently removed. A depositing thin film device(1) of mass production type using a bulk substrate mounting and desorption system comprises: a substrate mounting chamber(10') for the thin film deposition of vacuum; a plurality of substrate holders individually holding a substrate; a first multilayer substrate holder(20) having a first and second protrusion on one side of the substrate holders; a first straight line transport drive(30) including a first hook at one side specified position, transferring the substrate to a gate valve; a second linear transfer driving part(33) including a second hook in one side specified position, transferring the substrate to a substrate deposition waiting chamber(40) from the gate valve; a thin film deposition chamber where the deposition process is made; a substrate holder located in the substrate deposition zone fact is moved to the substrate deposition waiting chamber; a second multilayer substrate holder(20') of a substrate detach chamber(10) located in the substrate deposition waiting chamber; a third linear transfer driving part(33') including a third hook in one side specified position; and a fourth linear transfer driving part(30') including a fourth hook in one side specified position, transferring the substrate holder to the home position of a multi substrate stack holder room.
    • 提供了使用大容量基板安装和解吸系统的批量生产型沉积薄膜装置,以便除去真空时间,因为不需要频繁地去除具有目标喷枪的薄膜沉积室内的颗粒。 一种使用散装衬底安装和解吸系统的批量生产型沉积薄膜器件(1)包括:用于薄膜沉积真空的衬底安装室(10'); 分别保持基板的多个基板保持架; 第一多层衬底保持器(20),其在衬底保持器的一侧上具有第一和第二突出部; 第一直线传送驱动器(30),其在一侧指定位置包括第一钩,将所述基板传送到闸阀; 第二线性传递驱动部分(33),其在一侧指定位置包括第二钩,将基板从闸阀传送到基板沉积等待室(40); 制造沉积工艺的薄膜沉积室; 位于衬底沉积区实际中的衬底保持器被移动到衬底沉积等候室; 位于所述衬底沉积等候室中的衬底分离室(10)的第二多层衬底保持器(20'); 第三线性传递驱动部分(33'),其包括在一侧指定位置的第三钩; 以及在一侧指定位置包括第四钩的第四线性传递驱动部(30'),将所述基板保持架转移到多基板堆叠架室的原位。