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1. 发明公开

KR1020150033780A 유연 기판 상 금속 배선 구조 및 유연 기판 상 금속 배선 방법 无效
标题翻译：柔性基板的金属图案形成结构和柔性基板的金属图案化方法
公开(公告)号：KR1020150033780A
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：KR1020130112685
申请日：2013-09-23
申请人： 한국세라믹기술원 , (주)세온
发明人： 허승헌 , 송철규 , 김다혜 , 류도형 , 박성환 , 김보민 , 김병종
IPC分类号： H01B5/14 , H01B13/00
摘要： 본발명은「유연기판(투명전도막이코팅된것일수 있음) 상에형성된금속배선구조로서, 상기유연기판을필요한부분만큼깎아내어(투명전도막이코팅된경우투명전도막만을필요한부분만큼깎아내거나투명전도막과상기유연기판을필요한부분만큼깍아내어) 형성된라인형태의음각부; 상기음각부상에임의의간격과패턴으로형성되되상기유연기판의일정깊이까지파인다수개의홈; 및상기음각부및 상기다수개의홈에충전된금속;을포함하여구성되어, 상기금속이배선을이루되상기다수개의홈에충전된부분이핀형구조를이루고있는것을특징으로하는유연기판상 금속배선구조」및 「(a) 유연기판(투명전도막이코팅된것일수 있음)을준비하는단계; (b) 레이저스크라이빙(laser scribing)을통해상기유연기판을필요한부분만큼깎아내어(투명전도막이코팅된경우투명전도막만을필요한부분만큼깎아내거나투명전도막과상기유연기판을필요한부분만큼깍아내어) 라인형태의음각부를형성시키는단계; (c) 상기음각부상에임의의간격과패턴으로레이저를조사(照射)하여상기유연기판의일정깊이까지파인다수개의홈을형성시키는단계; 및 (d) 상기음각부및 상기다수개의홈에금속을충전시키는단계;를포함하는유연기판상 금속배선방법」을제공한다.
摘要翻译：本发明涉及形成在柔性基板（可涂覆有透明导电膜）上的金属布线结构。柔性结构上的金属布线结构包括：将作为柔性基板形成的线状的凹部雕刻成所需的部分（因为透明导电膜和柔性膜被雕刻成所需部分的多少或仅在透明导电膜被涂覆时，仅将透明导电膜雕刻成所需部分）; 在一定的图案上以一定的间隔形成在凹部上并在柔性基板上凹陷一定深度的多个槽; 和填充在凹部和凹槽中的金属。因此，金属形成布线并且填充在凹槽中的部分是销状结构。此外，提供了一种柔性基板上的金属布线方法，其包括以下步骤：（a）制备柔性基板（可以涂覆有透明导电膜）; （b）通过激光划线将柔性基板形成为所需要的部分，形成线状的凹部（由于透明导电膜和柔性膜被雕刻成所需部分或只有透明导电膜为当涂覆有透明导电膜时雕刻成所需部分）; （c）通过以一定的间隔以一定的间隔将激光照射到凹部来形成在柔性基板上凹陷一定深度的多个凹槽; 和（d）在所述凹部和所述槽中填充金属。

2. 发明授权

KR101472377B1 유연 기판 투명전도막 양면 코팅 방법 有权
标题翻译：柔性基板上透明导电氧化物双面涂层的方法
公开(公告)号：KR101472377B1
公开(公告)日：2014-12-15
申请号：KR1020130112688
申请日：2013-09-23
申请人： 한국세라믹기술원 , (주)세온
发明人： 허승헌 , 송철규 , 김다혜 , 류도형 , 박성환 , 김보민 , 김병종
IPC分类号： C23C26/00 , C23C16/44 , H01L21/205
摘要： 본 발명은 「(a) 유연 기판이 일측면으로 들어가 코팅공정 후 타측면으로 나오도록 구성된 코팅챔버를 준비하는 단계; (b) 유연 기판을 상기 코팅챔버 내부로 이송하고, 상기 유연 기판의 상·하면이 공간에 노출되도록 하는 단계; (c) 상기 유연 기판을 고정하되, 공정 진행 방향 기준으로 상기 유연 기판의 전방과 후방 가장자리를 고정하는 단계; 및 (d) 투명전도막 프리커서를 상기 유연 기판의 상·하면과 평행을 이루면서 공정 진행 방향과는 수직을 이루는 방향으로 흘려주어 상기 유연 기판에 증착시키는 단계;를 포함하여 구성된 유연 기판 투명전도막 양면 코팅 방법」을 제공한다.
摘要翻译：本发明提供了一种涂覆柔性基板的透明导电膜的两面的方法，包括：制备涂覆室的步骤（a），其形成为允许柔性基板进入一侧并从另一侧出来涂装后; 将柔性基板转移到涂布室的内部并将柔性基板的上侧和下侧暴露于空间的步骤（b）固定柔性基板的步骤（c），以及基于加工方向固定柔性基板的前后边缘; 以及通过在与柔性基板的上侧和下侧平行的方向上使垂直于处理方向的方向流过透明导电膜前体而在柔性基板上沉积透明导电膜前体的步骤（d）。

3. 发明公开

KR1020150033781A FTO/폴리이미드 필름 상 금속 배선 구조 및 FTO/폴리이미드 필름 상 금속 배선 방법 无效
标题翻译： FTO / PolyImide膜的金属图案形成结构以及用于FTO / PolyImide膜的金属图案化方法
公开(公告)号：KR1020150033781A
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：KR1020130112686
申请日：2013-09-23
申请人： 한국세라믹기술원 , (주)세온
发明人： 허승헌 , 송철규 , 김다혜 , 류도형 , 박성환 , 김보민 , 김병종
IPC分类号： H01B5/14 , H01B13/00
摘要： 본발명은「폴리이미드유연기판에 FTO 투명전도막이코팅된 FTO/폴리이미드필름상에형성된금속배선구조로서, 상기 FTO/폴리이미드필름상에형성된라인형태의음각부; 상기음각부상에임의의간격과패턴으로형성되되상기폴리이미드유연기판의일정깊이까지파인다수개의홈; 및상기음각부및 상기다수개의홈에충전된금속;을포함하여구성되어, 상기금속이배선을이루되상기다수개의홈에충전된부분이핀형구조를이루고있는것을특징으로하는 FTO/폴리이미드필름상 금속배선구조」및 「(a) 폴리이미드유연기판에 FTO 투명전도막이코팅된 FTO/폴리이미드필름을준비하는단계; (b) 레이저스크라이빙(laser scribing)을통해상기 FTO 투명전도막을필요한부분만큼깎아내어라인형태의음각부를형성시키는단계; (c) 상기음각부상에임의의간격과패턴으로레이저를조사(照射)하여상기폴리이미드유연기판의일정깊이까지파인다수개의홈을형성시키는단계; 및 (d) 상기음각부및 상기다수개의홈에금속을충전시키는단계;를포함하는 FTO/폴리이미드필름상 금속배선방법」을제공한다.
摘要翻译：本发明涉及在聚酰亚胺柔性基板上涂覆有FTO透明导电膜的FTO /聚酰亚胺膜上形成的金属布线结构。 FTO /聚酰亚胺膜上的金属图案形成结构包括：形成在FTO /聚酰亚胺膜上的线状的凹部; 多个凹槽以一定的图案形成并以一定的间隔形成在凹部上，并在聚酰亚胺柔性基板上凹陷一定的深度; 和填充在凹部和凹槽中的金属。因此，金属形成布线并且填充在凹槽中的部分是销状结构。另外，在FTO /聚酰亚胺膜上提供金属配线方法，其特征在于，包括以下步骤：（a）在聚酰亚胺柔性基板上制备涂布有FTO透明膜的FTO /聚酰亚胺膜; （b）通过激光划线将FTO透明膜与所需部分相切形成线状凹部; （c）通过以一定的图案和一定的间隔将激光照射到凹部来形成在聚酰亚胺柔性基板上凹陷一定深度的多个凹槽; 和（d）在所述凹部和所述槽中填充金属。

4. 发明授权

KR101633987B1 고투명도 및 도전성 표면을 갖는 유리 적층 구조 및 이의 제조 방법 有权
标题翻译：具有高透明度的表面导电玻璃堆叠结构及其制造方法
公开(公告)号：KR101633987B1
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：KR1020140109302
申请日：2014-08-21
申请人： (주)세온
发明人： 류도형 , 박성환 , 김병종 , 김보민 , 진은주
IPC分类号： C03C27/12 , H01B5/14 , B32B17/00
CPC分类号： B32B17/00 , H01B5/14
摘要： 본발명은고투명도및 도전성표면을갖는유리적층구조및 이의제조방법에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른유리적층구조는유리기판; 상기유리기판의제 1 면상에형성된투명유전체장벽층; 상기투명유전체장벽층상에형성된불소도핑된주석산화물(FTO)을포함하는투명도전층; 및상기투명유전체장벽층이형성된상기유리기판의상기제 1 면과반대되는제 2 면상에형성되고, 상기투명유전체장벽층과동일한재료를포함하는굴절률조절층을포함한다.

5. 发明公开

KR1020150137917A 스프레이 열 분해 증착용 노즐 유닛, 이를 포함하는 박막 증착 장치, 및 불소 함유 주석 산화물 박막의 형성 방법 审中-实审
标题翻译：用于喷雾热解沉积的喷嘴单元，具有该喷雾沉积的膜形成装置和形成氟代氧化锡薄膜的方法
公开(公告)号：KR1020150137917A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：KR1020140066604
申请日：2014-05-31
申请人： (주)세온
发明人： 류도형 , 주한용 , 박성환 , 김병종 , 김보민 , 진은주
IPC分类号： C23C16/44 , B05B13/00
CPC分类号： C23C16/44 , B05B3/14 , C23C16/14 , C23C16/52
摘要： 본발명은스프레이열 분해법에의한박막형성을위한노즐유닛, 이를포함하는박막증착장치및 박막형성방법에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른노즐유닛은, 상기기상전구체가공급되는입력단부및 상기반응챔버내로상기기상전구체를토출하는출력단부를각각포함하는복수의노즐유로들: 내부로상기복수의노즐유로들중 적어도하나이상이경과하고, 상기복수의노즐유로들의외부표면에고정되는일 단부및 상기복수의노즐유로들과분리된고정물에지지되는타 단부를갖는하나이상의벨로우즈; 및상기복수의노즐유로들중 적어도어느하나를진동변위시키기위해해당복수의노즐유로에결합되는엑츄에이터를포함한다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于使用喷雾热解法形成薄膜的喷嘴单元，涉及一种用于形成薄膜的薄膜沉积装置。根据本发明的实施例的喷嘴单元包括：多个喷嘴流动路径，包括具有蒸气前体的输入端部分和用于将蒸气前体排放到反应室中的输出端部; 一个或多个波纹管在多个喷嘴流动路径中通过内部具有一个或多个波纹管，并且包括固定到多个喷嘴流动路径的外表面的一个端部和支撑在与多个喷嘴流动路径分离的固定物体上的另一端部 ; 以及与相应的多个喷嘴流动路径组合的致动器，以振动和移动多个喷嘴流动路径中的至少一个。

6. 发明公开

KR1020160023251A 고투명도 및 도전성 표면을 갖는 유리 적층 구조 및 이의 제조 방법 有权
标题翻译：具有高透明度的表面导电玻璃堆叠结构及其制造方法
公开(公告)号：KR1020160023251A
公开(公告)日：2016-03-03
申请号：KR1020140109302
申请日：2014-08-21
申请人： (주)세온
发明人： 류도형 , 박성환 , 김병종 , 김보민 , 진은주
IPC分类号： C03C27/12 , H01B5/14 , B32B17/00
CPC分类号： B32B17/00 , H01B5/14
摘要： 본발명은고투명도및 도전성표면을갖는유리적층구조및 이의제조방법에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른유리적층구조는유리기판; 상기유리기판의제 1 면상에형성된투명유전체장벽층; 상기투명유전체장벽층상에형성된불소도핑된주석산화물(FTO)을포함하는투명도전층; 및상기투명유전체장벽층이형성된상기유리기판의상기제 1 면과반대되는제 2 면상에형성되고, 상기투명유전체장벽층과동일한재료를포함하는굴절율조절층을포함한다.
摘要翻译：本发明涉及具有高透明度和导电性表面的玻璃层叠结构体及其制造方法。根据本发明的实施例，玻璃层压结构包括：玻璃基板; 形成在所述玻璃基板的第一面上的透明电介质阻挡层; 包含氟掺杂氧化锡（FTO）的透明导电层，其形成在透明电介质阻挡层的顶部上; 以及折射率调节层，其形成在与具有透明介电阻挡层的玻璃基板的第一表面相对的第二表面上，并且包括与透明电介质阻挡层相同的材料。本发明的玻璃层叠结构体可以在玻璃基板的顶部涂敷透明导电层的情况下，保护透明导电层免受玻璃基板上的杂质的影响，能够提高透明导电层的层叠结构的透光率和玻璃基板，而不牺牲透明导电层的宽度。

7. 发明授权

KR101694750B1 스프레이 열 분해용 노즐 및 이를 포함하는 박막 형성 장치 有权
标题翻译：用于喷雾热解沉积的喷嘴和具有其的成膜装置
公开(公告)号：KR101694750B1
公开(公告)日：2017-01-10
申请号：KR1020140056815
申请日：2014-05-12
申请人： (주)세온
发明人： 류도형 , 주한용 , 박성환 , 김병종 , 김보민 , 진은주
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/40 , B05B13/00
摘要： 본발명은스프레이열 분해법에의한박막형성을위한확산노즐, 이를포함하는박막형성장치및 박막형성방법에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른확산노즐은, 각각액적생성실에연결된입력단및 반응챔버측의출력단을가지고, 온도및 유속중 적어도어느하나에대하여독립적으로제어가가능한복수의액적전달유로들; 및상기액적전달유로들의각 출력단을가로질러지나는개구를갖는공통슬릿을포함한다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于通过喷雾热解形成薄膜的扩散喷嘴，一种包括该扩散喷嘴的薄膜形成装置和一种薄膜形成方法。根据本发明的实施例的扩散喷嘴包括多个液滴传送流路，其独立地具有连接到液滴产生室的输入端和形成在反应室侧的输出端，并独立地控制温度和流速之中的至少一个 ; 以及具有与液滴输送流路的每个输出端相交的开口的公共狭缝。

8. 发明授权

KR101573902B1 불소가 도핑된 고투과율의 산화 주석 박막 제조 방법 有权
标题翻译：制造具有高透光率的氟掺杂氧化锡膜的方法
公开(公告)号：KR101573902B1
公开(公告)日：2015-12-03
申请号：KR1020130061243
申请日：2013-05-29
申请人： (주)세온
发明人： 류도형 , 박성환 , 김보민 , 김병종 , 송철규
IPC分类号： H01B13/00
CPC分类号： H01L31/1884 , H01L31/022466 , Y02E10/50
摘要： 불소가도핑된고투과율의산화주석박막제조방법이개시된다. 본발명의일 실시예에따른불소가도핑된고투과율의산화주석박막제조방법은 SnClㆍ5HO, SnCl및 SnCl·2HO 중어느하나와 NHF, HF 및 acetyl fluoride 중어느하나를용매에혼합하여 F/Sn의몰비가 0.4~1.4인프리커서(precursor) 용액을제조하는단계; 및기판상에상기제조된상기프리커서용액을분사하여상기기판상에불소가도핑된산화주석박막(FTO)을형성하는단계를포함하고, 상기프리커서용액을제조하는단계는물에 5~20%의에탄올을포함하는용매를이용하여상기프리커서용액을제조함으로써, 가시광선영역뿐만아니라자외선영역과적외선영역에서의투과율을높이고, 헤이즈(haze)를향상시킬수 있다.

9. 发明公开

KR1020150129578A 스프레이 열 분해용 노즐 및 이를 포함하는 박막 형성 장치 有权
标题翻译：用于喷雾热解沉积和成膜装置的喷嘴
公开(公告)号：KR1020150129578A
公开(公告)日：2015-11-20
申请号：KR1020140056815
申请日：2014-05-12
申请人： (주)세온
发明人： 류도형 , 주한용 , 박성환 , 김병종 , 김보민 , 진은주
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/40 , B05B13/00
CPC分类号： C23C18/1258 , C23C18/1216
摘要： 본발명은스프레이열 분해법에의한박막형성을위한확산노즐, 이를포함하는박막형성장치및 박막형성방법에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른확산노즐은, 각각액적생성실에연결된입력단및 반응챔버측의출력단을가지고, 온도및 유속중 적어도어느하나에대하여독립적으로제어가가능한복수의액적전달유로들; 및상기액적전달유로들의각 출력단을가로질러지나는개구를갖는공통슬릿을포함한다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于通过喷雾热解形成薄膜的扩散喷嘴，一种包括该扩散喷嘴的薄膜形成装置和一种薄膜形成方法。根据本发明的实施例的扩散喷嘴包括多个液滴传送流路，其独立地具有连接到液滴产生室的输入端和形成在反应室侧的输出端，并独立地控制温度和流速之中的至少一个 ; 以及具有与液滴输送流路的每个输出端相交的开口的公共狭缝。

10. 发明授权

KR101498654B1 고헤이즈를 위한 불소가 도핑된 산화 주석 박막 식각 방법 有权
标题翻译：氟掺杂氧化锡薄膜的高雾度蚀刻方法
公开(公告)号：KR101498654B1
公开(公告)日：2015-03-05
申请号：KR1020130061289
申请日：2013-05-29
申请人： (주)세온
发明人： 류도형 , 박성환 , 김보민 , 김병종
IPC分类号： C25F3/02
摘要： 고헤이즈를 위한 불소가 도핑된 산화 주석 박막 식각 방법이 개시된다. 본 발명에 따른 불소가 도핑된 산화 주석 박막 식각 방법은 불소가 도핑된 산화 주석 박막의 일부 영역에 형성된 제1 전극과 식각 용액이 들어있는 식각 용기의 일부 영역에 형성된 제2 전극에 미리 결정된 전압을 인가하는 단계; 상기 불소가 도핑된 산화 주석 박막을 딥 코터를 이용하여 미리 결정된 속도로 상기 식각 용액에 딥 코팅하는 단계; 및 상기 딥 코팅을 통해 상기 불소가 도핑된 산화 주석 박막을 식각하는 단계를 포함하고, 상기 미리 결정된 전압은 상기 불소가 도핑된 산화 주석 박막의 식각 전 면저항과 식각 후 면저항의 변화가 0~20[%]에 해당하는 전압인 것을 특징으로 한다.

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