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    • 5. 发明授权
    • 고분자를 이용한 다공성 탄소재의 제조방법
    • 使用聚合物制造多孔碳材料的方法
    • KR101759280B1
    • 2017-07-19
    • KR1020150085751
    • 2015-06-17
    • 한국세라믹기술원(주)코멕스카본
    • 조광연신동근서규식
    • C01B31/02B01J6/00H01L21/02
    • 본기술은고분자입자를압출성형하여고분자입자가서로넥킹(necking)된구조를갖는성형체를제조하는단계; 성형체를경화반응시키는단계; 및경화된성형체를탄화시키는단계를포함하는다공성탄소재의제조방법및 이에따라제조된다공성탄소재에관한것이다. 본기술에따르면, 균일한미세기공구조를갖는탄소재가형성되어부식성가스를균일하게투과시킬수 있으므로반도체에칭공정에있어서캐소드로서적용되어에칭공정효율을높일수 있다. 또한, 본기술에따라제조된다공성탄소재는내부식성및 강도가우수하여에칭에적용되더라도장기간미세한기공구조를잘 유지할수 있어수명이향상되고경제적이다.
    • 本发明涉及一种制造具有聚合物颗粒通过挤出模塑聚合物颗粒而缩颈在一起的结构的模制品的方法; 固化模塑体; 本发明还涉及制造多孔碳材料的方法。 根据现有技术,由具有使得通过腐蚀性气体sikilsu均匀地传递被施加为在半导体蚀刻工艺的阴极均匀细孔结构的碳材料形成,蚀刻工艺可以提高工作效率。 此外,它是受耐腐蚀性和根据该技术制备的多孔碳材料的强度,即使施加到优异的蚀刻以及它可以保持改善的寿命时间细孔结构长时间的经济上。