专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR102142877B1 선형 증착 소스 챔버 접합방법 및 이를 위한 지그 어셈블리 有权
公开(公告)号：KR102142877B1
公开(公告)日：2020-08-10
申请号：KR1020180152934
申请日：2018-11-30
申请人： 한국생산기술연구원 , 오너메탈 주식회사
发明人： 박현준 , 문경일 , 이상일 , 이한찬 , 김범수
IPC分类号： B23K1/00 , B23K1/16 , B23K3/08 , B23K35/32 , B23K35/02 , B23K101/12 , B23K103/14

2. 发明授权

KR102251847B1 비회전식 섬유공급 어셈블리 및 이를 포함하는 유한 길이 섬유의 자동매듭 결속기 有权
公开(公告)号：KR102251847B1
公开(公告)日：2021-05-17
申请号：KR1020190159788
申请日：2019-12-04
申请人： 한국생산기술연구원
发明人： 변철웅 , 문경일 , 황태진
IPC分类号： B65H51/18 , B65H54/71 , B65H57/14 , B65H69/04 , A41G5/02
摘要： 본발명에따른비회전식섬유공급어셈블리는, 유한길이섬유의자동매듭결속기에제1원사를공급하는섬유공급어셈블리에있어서, 예비원사를권취한상태로거치하는권취유닛, 상기권취유닛으로부터인출되는예비원사의소정지점을잡아선형궤도를따라인출시키는섬유전달유닛, 상기섬유전달유닛에의해인출된예비원사의일단부를그립하는제1좌측그리퍼를포함하는제1좌측섬유그립유닛, 상기섬유전달유닛에의해인출된예비원사의타단부를그립하는제1우측그리퍼를포함하는제1우측섬유그립유닛, 상기섬유전달유닛의왕복에의해소정길이로인출된예비원사의타단부외측을커팅하는커팅유닛및 상기제1좌측섬유그립유닛및 상기제1우측섬유그립유닛이상기섬유전달유닛의 n회왕복에따라 n개의예비원사를그립한상태에서, 상기제1좌측섬유그립유닛및 상기제1우측섬유그립유닛을전방측으로회전시켜섬유결속장치에상기 n개의예비원사를제1원사로서전달하도록하는회전유닛을포함한다.

3. 发明授权

KR102154823B1 저마찰 코팅막이 형성된 피스톤 링 및 그 제조방법 有权
公开(公告)号：KR102154823B1
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：KR1020180103289
申请日：2018-08-31
申请人： 한국생산기술연구원 , (주)제이 앤 엘 테크 , 유성기업 주식회사
发明人： 이한찬 , 윤혜원 , 문경일 , 방경배 , 신승용 , 전영하 , 여기호 , 홍정기 , 이장훈 , 추인길 , 주대헌 , 강영곤 , 오세필 , 정훈
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/34 , C23C14/00 , C23C14/02 , C22C16/00 , F16J9/26

4. 发明授权

KR102131667B1 섬유공급 어셈블리 및 이를 포함하는 유한 길이 섬유의 자동매듭 결속기 有权
公开(公告)号：KR102131667B1
公开(公告)日：2020-07-09
申请号：KR1020180152931
申请日：2018-11-30
申请人： 한국생산기술연구원
发明人： 변철웅 , 황태진 , 문경일
IPC分类号： A41G5/02 , A41H43/00

5. 发明授权

KR101962111B1 공압 방식을 가지는 유한 길이 섬유의 자동매듭 결속기 有权
公开(公告)号：KR101962111B1
公开(公告)日：2019-03-27
申请号：KR1020180034310
申请日：2018-03-26
申请人： 한국생산기술연구원 , 주식회사 인터워크 코리아
发明人： 변철웅 , 황태진 , 문경일 , 문현명
IPC分类号： A41G5/02

6. 发明授权

KR101883273B1 침탄장치의 모재 입출/냉각 어셈블리 有权
公开(公告)号：KR101883273B1
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：KR1020170085386
申请日：2017-07-05
申请人： 한국생산기술연구원
发明人： 박현준 , 문경일 , 김민채 , 권기훈
IPC分类号： C23C8/20 , C23C8/80 , C21D1/74 , F27D9/00
摘要： 본발명에따른침탄장치의모재입출/냉각어셈블리는, 침탄을수행하는침탄공간을포함하는챔버의일측에구비되는모재입출/냉각어셈블리로서, 모재를투입하는투입구가형성되며, 내측에상기침탄공간과연통된수용공간이형성된메인바디, 상기메인바디의하측에구비되며, 상기챔버에서침탄처리된모재가상기수용공간으로부터낙하되는낙하경로가형성된하부바디, 상기하부바디의하단부에구비되며, 상기하부바디를통해낙하된모재가냉각되는냉각공간이형성된냉각유닛및 일부영역이상기메인바디내측에수용되고, 나머지일부영역이상기메인바디외측으로연장되되, 일단부에상기모재가안착되는안착부가형성되며, 길이방향으로이동가능하게형성됨에따라상기안착부가상기수용공간및 상기침탄공간사이를이동가능하게형성되는이송유닛을포함한다.

7. 发明公开

KR1020160051952A 비정질막 및 질소를 포함하는 나노구조막의 제조방법 无效
标题翻译：制备纳米结构膜的方法，包括氮和非晶膜
公开(公告)号：KR1020160051952A
公开(公告)日：2016-05-12
申请号：KR1020140149305
申请日：2014-10-30
申请人： 한국생산기술연구원
发明人： 신승용 , 문경일 , 선주현 , 이장훈
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/06
CPC分类号： C23C14/06 , C23C14/34 , C23C14/3414 , C23C14/0641 , C23C14/3407
摘要： 본발명은스퍼터링장치내부로질소가스(N) 또는질소원소(N)를함유하는반응가스를투입하면서합금타겟을스퍼터링하여질소를포함하는나노구조막을형성하는단계;를포함하되, 상기합금타겟은 Zr이 58원자% 내지 80원자%; Cu가 4원자% 내지 26원자%; Fe, Ni 및 Co 중에서선택된어느하나이상이 4원자% 내지 26원자%;로구성된결정질합금으로이루어진, 질소를포함하는나노구조막의제조방법을제공한다.
摘要翻译：本发明涉及一种制造包含非晶膜和氮的纳米结构膜的方法，该方法获得了具有高硬度和粘合性能的低摩擦特性，并且还显着地获得了较低的摩擦系数值。制造包括非晶膜和氮的纳米结构膜的方法包括通过溅射合金靶而形成纳米结构膜的步骤，同时在溅射中注入包含氮气（N_2）或氮元素（N）的反应气体设备。合金靶由以下组成的结晶合金形成：包含：58〜80原子％的Zr; 4-26原子％的Cu; 以及选自Fe，Ni和Co中的一种或多种的4-26原子％

8. 发明公开

KR1020160035682A 고분자튜브 내면의 표면개질장치 및 이를 이용하는 표면개질방법. 有权
标题翻译：改性聚合物内壁表面的设备及其表面改性方法
公开(公告)号：KR1020160035682A
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：KR1020140126962
申请日：2014-09-23
申请人： 한국생산기술연구원
发明人： 조용기 , 문경일
IPC分类号： C08J7/12 , C08J7/18 , C08J3/28 , B01J19/08
摘要： 진공과플라즈마방전기술을접목하여소구경고분자튜브의내면표면을친수성또는친유성(소수성)으로만드는반응성활성종의형성을수행하는것을특징으로하는고분자튜브내면의표면개질장치와표면개질방법에관한것이며, 고분자튜브와고분자튜브내면을진공상태로만드는진공형성부와고분자튜브내면에반응성활성종의형성을위한반응가스를공급하는반응가스공급부와반응가스를방전시켜플라즈마화하는기능을구비하는전극부와전극부에전압을인가하는전원부와고분자튜브를길이방향으로상대이동시키는기능을구비하는이송부를포함하여이루어지고, 고분자튜브의내면처리과정에서고분자튜브내면은밀폐공간이되는것을특징으로하는고분자튜브내면의표면개질장치및 이를이용하는표면개질방법을개시한다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于改变聚合物管内表面的装置，其涉及形成反应性物质，其可以通过施加真空和等离子体来使聚合物管的内表面具有小口径亲水或亲水（疏水）放电技术。本发明还涉及一种表面改性方法。更具体地，公开了一种用于改性聚合物管的内表面的装置和使用其的表面改性方法。为此，本发明的装置包括：聚合物管; 在真空状态下形成聚合物管的内表面的真空成型部; 反应气体供给部，将反应气体供给到聚合物管的内表面，以形成反应性物质; 具有通过排出反应气体将反应气体转化为等离子体的功能的电极部件; 向所述电极部供电的供电部; 以及具有沿纵向方向相对转移聚合物管的功能的转印部分。在内表面处理过程中，聚合物管的内表面被密封。

9. 发明授权

KR101529235B1 저마찰 특성을 가지는 나노구조 복합박막, 그 제조방법 및 저마찰 특성 부재 및 그 제조방법 有权
标题翻译：纳米结构复合薄膜，其形成方法，低摩擦成分及其形成方法
公开(公告)号：KR101529235B1
公开(公告)日：2015-06-29
申请号：KR1020130064924
申请日：2013-06-05
申请人： 한국생산기술연구원
发明人： 신승용 , 문경일 , 선주현 , 이장훈
IPC分类号： C23C14/34 , C22C16/00 , C23C14/06
摘要： 본발명은월등하게개선된마찰특성을나타내면서도높은경도와밀착성을가지는나노구조복합박막, 그제조방법및 저마찰특성부재및 그제조방법의제공을목적으로한다. 본발명의일 관점에의하면, 질화물구성원소로서 Zr 및 Al을포함하는질화물상과하나이상의금속상이혼합된복합구조를가지며, P 및 S 중에서선택된적어도어느하나이상이첨가되고, 결정립의크기가 5nm 내지 30nm의범위에있는박막이며, 상기질화물상은 Zr 질화물의결정구조를가지며, 상기질화물구성원소로서 Cr, Mo, Si, Nb, Hf, Ti, V, Fe 중에서선택되는어느하나이상을더 포함하며, 상기금속상은 Cu 및 Ni 중에서선택되는어느하나이상및 Co, Sn, In, Bi, Zn, Ag 중에서선택되는어느하나이상을포함하는, 저마찰특성을가지는나노구조복합박막이제공된다.

10. 发明公开

KR1020140022526A 플라즈마를 이용한 질화방법 및 질화처리된 제품 无效
标题翻译：硝酸产品和等离子体浸渍方法
公开(公告)号：KR1020140022526A
公开(公告)日：2014-02-25
申请号：KR1020120088613
申请日：2012-08-13
申请人： 한국생산기술연구원
发明人： 박현준 , 문경일 , 변철웅 , 김형준 , 이승우
IPC分类号： C23C8/24 , C23C16/50
摘要： The present invention relates to a nitrified product and a nitriding method by using plasma for replacing a nitiridation process of a bushing product with a nitridation process and a sulphurizing nitridation process processed in a clean plasma environment comprising: a pre-heating step for heating a specimen by charging the specimen to an inside of a furnace, and raising the temperature inside a furnace to a pre-heating process temperature in a vacuum atmosphere; a sputtering step for maintaining the pressure inside the furnace to a sputtering process pressure, and for ion etching a surface of the specimen while inserting Ar and H2 into an inside of the furnace; a soft nitriding step for maintaining pressure inside the furnace to a soft nitriding process pressure, and for inserting N2, H2, and carbon gas, and for forming a compound layer and a hardened layer on a surface of the specimen while applying a current to a screen net equipped in the specimen and an outside of the specimen; a sulfnitriding step for forming a sulfnitriding layer above a compound layer by inserting H2S after lowering the temperature inside a furnace to a sulfnitriding process temperature; and a cooling step for cooling the specimen by inserting N2 into an inside of a furnace. According to the configuration, a process can be simplified; work expenses can be saved through an environment-friendly process; whole product manufacturing costs can be reduced by replacing an expensive MoS2 process; and a problem of a post-process which is processed after salt bath nitriding can be solved by minimizing deformation after a plasma process. [Reference numerals] (AA) Sulfnitriding layer; (BB) Compound layer; (CC) Hardened layer; (DD) Specimen
摘要翻译：本发明涉及一种通过使用等离子体来替代在清洁等离子体环境中加工的氮化工艺和硫化氮化工艺的套管产品的氮化过程的硝化产物和氮化方法，包括：用于加热样品的预热步骤通过将试样装入炉内，将炉内的温度提高到真空气氛中的预热处理温度; 用于将炉内的压力维持在溅射工艺压力下的溅射步骤，以及用于在将Ar和H 2插入炉内的同时离子蚀刻样品的表面; 用于将炉内的压力维持在柔软的氮化处理压力上的软氮化步骤，以及用于插入N 2，H 2和碳气，以及在试样的表面上形成化合物层和硬化层，同时向试样上装有筛网，试样外面; 一种用于通过在将炉内的温度降低到硫氮化处理温度之后通过插入H 2 S在化合物层上方形成硫氮化层的硫氮化步骤; 以及冷却步骤，用于通过将N2插入炉内而冷却试样。根据该结构，能够简化处理。可以通过环保过程节省工作费用; 通过更换昂贵的MoS2工艺可以降低整个产品制造成本; 并且可以通过使等离子体处理后的变形最小化来解决在盐浴氮化后处理的后处理的问题。（附图标记）（AA）磺化氮化层; （BB）化合物层; （CC）硬化层; （DD）标本

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式