专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR102016927B1 원자층 연마 방법 및 이를 위한 연마 장치 有权
公开(公告)号：KR102016927B1
公开(公告)日：2019-10-21
申请号：KR1020170144433
申请日：2017-11-01
申请人： 한국기초과학지원연구원
发明人： 최용섭 , 이강일 , 석동찬 , 장수욱 , 김종식 , 유승열
IPC分类号： H01L21/3105 , H01L21/311 , H01L21/67

2. 发明授权

KR101690625B1 대면적 ECR 플라즈마 발생장치 有权
标题翻译： ECR大型ECR等离子体发生装置
公开(公告)号：KR101690625B1
公开(公告)日：2017-01-09
申请号：KR1020150088525
申请日：2015-06-22
申请人： 한국기초과학지원연구원
发明人： 김종식 , 최용섭 , 김영우 , 이강일 , 홍승표
IPC分类号： H05H1/46
摘要： 대면적 ECR 플라즈마발생장치가개시된다. 대면적 ECR 플라즈마발생장치는전자파가입력되는제1 입력부를포함하고, 상기제1 입력부로입력된전자파를제1 방향을따라전송하는제1 전송부및 상기제1 방향을따라전송된전자파를상기제1 방향에수직한제2 방향및 제3 방향을따라전송하는제2 전송부를포함하는제1 도파관; 및제1 단부및 제2 단부를포함하고, 상기제1 단부가상기제2 전송부의 E필드면을관통하여상기제2 전송부내로삽입된중공의유전체관; 상기유전체관의내부에서상기유전체관의길이방향에따라설치되어상기제2 전송부의전자파를상기유전체관의원주방향으로방사하도록구성된, 중공의안테나관; 및상기안테나관의내부에설치되어상기방사된전자파에수직한방향의자기장을형성하도록구성된하나이상의자석을포함하는안테나모듈을포함하고, 상기안테나모듈은상기제2 전송부의길이방향을따라둘 이상배열되어있다.

3. 发明授权

KR101690474B1 기상 증착 선형소스의 주변으로 펌핑유로를 구비하는 롤투롤 방식의 기상 증착 장치 有权
标题翻译：在蒸汽沉积线性水溶液中具有泵送通道的滚筒至滚筒系统蒸气沉积装置
公开(公告)号：KR101690474B1
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：KR1020150153847
申请日：2015-11-03
申请人： 한국기초과학지원연구원
发明人： 최용섭 , 이강일
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02 , H01L21/67
摘要： 롤투롤방식의기상증착장치가개시된다. 롤투롤방식의기상증착장치는롤투롤방식으로이동하는피처리기재를수용하는공정챔버; 상기기재의피처리면에마주하도록상기공정챔버의내부공간과유체소통가능하게연결된덕트; 상기덕트에수용되어있고, 상기피처리면을향해증착물을제공하도록위치하는기상증착선형소스; 및상기덕트와연결되어상기기상증착선형소스로부터의증착물중 피처리면에증착되지않은물질을상기공정챔버내에서밖으로펌핑아웃하도록구성된펌핑수단을포함한다. 이러한롤투롤방식의기상증착장치를이용하면, 기재가위치한공정챔버내에위치한기재의피처리면에제공되는증착물질중 상기피처리면에증착되지않은물질이상기공정챔버내로확산되는것을방지되고, 이에의해공정챔버의내부공간및 기재의오염이방지될수 있는이점이있다.

4. 发明授权

KR101622320B1 이온 빔 공급 장치 및 이를 포함하는 고진공 정전기 제거 시스템 有权
标题翻译：用于提供离子束的装置和用于在高真空中移除静电的系统，包括装置
公开(公告)号：KR101622320B1
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：KR1020140072677
申请日：2014-06-16
申请人： 한국기초과학지원연구원
发明人： 이강일 , 최용섭 , 정용호 , 김영우 , 박종배
IPC分类号： H01J27/02 , H05F3/00
摘要： 이온빔 공급장치는플라즈마를발생시키거나발생된플라즈마를수용하는플라즈마수용부, 플라즈마수용부로플라즈마를주입하거나플라즈마소스가스를주입하는주입부, 플라즈마수용부와연결되어플라즈마를외부로배출하는차동펌프및 플라즈마수용부의플라즈마내의이온을진공계로가이드하는이온방출부를포함한다.

5. 发明公开

KR1020150136392A 플라즈마 보조 물리 기상 증착원 및 이를 이용한 증착 장치 审中-实审
标题翻译：等离子体吸附物理蒸气沉积源和沉积物
公开(公告)号：KR1020150136392A
公开(公告)日：2015-12-07
申请号：KR1020140063831
申请日：2014-05-27
申请人： 한국기초과학지원연구원
发明人： 이강일 , 최용섭
IPC分类号： C23C14/22
CPC分类号： C23C14/22
摘要： 플라즈마보조물리기상증착원이개시된다. 본발명인플라즈마보조물리기상증착원은내부에증발물질수용공간및 상기증발물질수용공간의위에있는플라즈마발생공간을갖는도가니; 상기증발물질수용공간내의증발물질; 상기증발물질을기화시키도록구성된가열수단; 상기플라즈마발생공간에위치하고, 상기가열수단에의해기화된증발물질의플라즈마를유도하도록구성된플라즈마발생수단; 상기도가니의상면에형성되어있고, 상기플라즈마화된증발물질을상기도가니밖으로안내하도록구성된방출부를포함한다.
摘要翻译：公开了一种等离子体增强物理气相沉积源。本发明的等离子体增强物理气相沉积源包括：具有蒸发材料的坩埚和容纳空间的等离子体产生空间; 汽化材料容纳空间内的蒸发材料; 构造成蒸发气化材料的加热装置; 等离子体产生装置，其设置在所述等离子体产生空间中并且构造成从由所述加热装置蒸发的蒸发材料诱导等离子体; 以及形成在所述坩埚的上表面上并被配置为将形成为等离子体的蒸发材料引导到所述坩埚的外部的喷射单元。

6. 发明授权

KR101980273B1 선형 마이크로웨이브 플라즈마 발생장치 有权
公开(公告)号：KR101980273B1
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：KR1020170157123
申请日：2017-11-23
申请人： 한국기초과학지원연구원
发明人： 장수욱 , 최용섭 , 이강일 , 이희재 , 김영우
IPC分类号： H01J37/32

7. 发明授权

KR101617199B1 원격 플라즈마 소스 에싱 장치 有权
标题翻译：使用远程等离子体源的散热装置
公开(公告)号：KR101617199B1
公开(公告)日：2016-05-02
申请号：KR1020140160758
申请日：2014-11-18
申请人： 한국기초과학지원연구원
发明人： 이강일 , 최용섭
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065
CPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065 , H01L21/683 , H05H1/24
摘要： 원격플라즈마소스에싱장치가개시된다. 원격플라즈마소스에싱장치는다수의제1 개구및 각각의제1 개구사이에위치하는하나이상의제2 개구를포함한공정챔버; 가스유입공간, 다수의플라즈마주입구, 상기가스유입공간과기체소통가능하게연결된하나이상의가스주입구및 다수의가스배출구를포함하고, 상기다수의플라즈마주입구는상기다수의제1 개구에대응되고상기하나이상의가스주입구는상기하나이상의제2 개구에대응되도록상기공정챔버내부에위치하는기판부상스테이지; 래디컬주입부를포함하고, 상기래디컬주입부가상기제1 개구및 상기플라즈마주입구로삽입되어상기래디컬주입부를통해래디컬을상기공정챔버내로공급하는원격플라즈마주입부; 및상기제2 개구및 상기가스주입구로삽입되어상기가스유입공간내부에가스를공급하는가스주입부를포함하고, 상기하나이상의가스주입구는각각의플라즈마주입구사이에위치하고, 상기가스주입구는상기가스유입공간아래에위치하며상기가스배출구는상기가스유입공간위로위치하고, 상기기판부상스테이지의상면부에는기판이위치하고, 상기기판은상기가스배출구를통해배출되는가스에의해부상된다.
摘要翻译：公开了一种远程等离子体源灰化装置。远程等离子体源灰化装置包括：处理室，其包括多个第一开口和位于相应的第一开口之间的一个或多个第二开口; 衬底浮动台，其包括气体流入空间，多个等离子体入口，连接到气体流入空间的一个或多个气体入口，使得气体可以在其间连通;多个气体出口，其中衬底浮动位于内部所述处理室使得所述等离子体入口对应于所述第一开口，并且所述一个或多个气体入口对应于所述一个或多个第二开口; 远程等离子体注入部分，其包括自由基注入部分，其中自由基注入部分插入到第一开口和等离子体入口中，使得自由基通过自由基注入部分供应到处理室的内部; 以及气体注入部，其插入到第二开口和气体入口中，以将气体供应到气体流入空间的内部。一个或多个气体入口位于相应的等离子体入口之间。气体入口位于气体流入空间的下方。气体出口位于气体流入空间的上方。衬底位于衬底浮动级的顶表面部分上，并且衬底由通过气体出口排出的气体漂浮。

8. 发明公开

KR1020150144054A 이온 빔 공급 장치 및 이를 포함하는 고진공 정전기 제거 시스템 有权
标题翻译：用于提供离子束的装置和用于在高真空中移除静电的系统，包括装置
公开(公告)号：KR1020150144054A
公开(公告)日：2015-12-24
申请号：KR1020140072677
申请日：2014-06-16
申请人： 한국기초과학지원연구원
发明人： 이강일 , 최용섭 , 정용호 , 김영우 , 박종배
IPC分类号： H01J27/02 , H05F3/00
CPC分类号： H01J27/02 , H05F3/00 , H05F3/06
摘要： 이온빔 공급장치는플라즈마를발생시키거나발생된플라즈마를수용하는플라즈마수용부, 플라즈마수용부로플라즈마를주입하거나플라즈마소스가스를주입하는주입부, 플라즈마수용부와연결되어플라즈마를외부로배출하는차동펌프및 플라즈마수용부의플라즈마내의이온을진공계로가이드하는이온방출부를포함한다.
摘要翻译：用于提供离子束的装置包括：等离子体容纳部分，被配置为产生等离子体或适应产生的等离子体; 喷射部，被配置为将等离子体或等离子体源气体喷射到等离子体容纳部中; 连接到等离子体容纳部分的差分泵，以将等离子体排放到外部; 以及离子排出部，被配置为将等离子体容纳部的等离子体中的离子引导到真空系统。

9. 发明授权

KR101933258B1 다공질 유전체를 포함하는 플라즈마 발생원 有权
公开(公告)号：KR101933258B1
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：KR1020150017875
申请日：2015-02-05
申请人： 한국기초과학지원연구원
发明人： 석동찬 , 정용호 , 최용섭 , 노태협 , 이강일 , 정현영
IPC分类号： H05H1/34

10. 发明授权

KR101821885B1 생체용 금속 모재로 생활성 금속을 고순도로 주입하는 장치, 생체용 금속 모재로 생활성 금속을 고순도로 주입하는 방법 및 이에 의해 제조된 생활성 금속원이 고순도로 주입된 생체용 금속재료 有权
标题翻译：体内的金属材料用于所述装置用于注入高纯度生物活性金属作为与高度纯化的注射在体内金属，该方法和由此通过在高纯度的注射生物活性金属作为活体的基底金属中产生的生物活性金属元素的基体材料
公开(公告)号：KR101821885B1
公开(公告)日：2018-01-25
申请号：KR1020160079900
申请日：2016-06-27
申请人： 한국기초과학지원연구원
发明人： 최용섭 , 이강일
IPC分类号： A61C8/00 , C23C14/22 , C23C14/32 , C23C14/24 , C23C14/16
摘要： 생체용금속모재로생활성금속을고순도로주입하는장치를개시한다. 생체용금속모재로생활성금속을고순도로주입하는장치는내부가진공인진공챔버; 상기챔버내부로기체상태의금속원을공급하는금속원공급부; 상기진공챔버내부에위치하는하나이상의생체용금속모재; 상기기체상태의금속원이플라즈마화되어이온을생성하도록상기생체용금속모재에전압을인가하는전압공급부; 및상기이온이가속화되어상기생체용금속모재의표면을향해가속되도록상기생체용금속모재에음의펄스전원을인가하는펄스전원공급부를포함한다. 이러한생체용금속모재로생활성금속을고순도로주입하는장치를이용하면생체용재료로이용되는모재에고순도의생활성물질을주입할수 있고, 골유착특성이우수한임플란트와같은생체용재료를생산할수 있는예시적이점이있다.
摘要翻译：公开了一种用于将高纯度活性金属注入生物金属基材的设备。用于将高纯度金属注入高纯度活体用金属基材的装置包括：内部富集的真空室; 金属源供应单元，用于将气态金属源供应到所述室中; 至少一个位于真空室内的体内金属预制件; 电压供给单元，用于向所述生物体用金属基体金属施加电压，以使所述气态金属源等离子化以产生离子; 以及脉冲电源单元，用于将负脉冲功率施加到用于生物测定的金属基底金属上，使得离子加速并加速朝向用于生物体的金属基底金属的表面。当使用由这种生物测定金属基材注入高纯度生物活性金属可以产生的生物材料用于类似的装置可以被注入到生物活性物质的纯度高，骨整合性质上部植入到基体材料被用作生物材料有一个这样的例子。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式