专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明公开

KR1020070029266A 미세 구조체 제조 방법, 액체 토출 헤드 제조 방법 및 액체토출 헤드 失效
标题翻译：制造分钟结构的方法，制造液体排出头的方法和液体排出头
公开(公告)号：KR1020070029266A
公开(公告)日：2007-03-13
申请号：KR1020077001968
申请日：2005-06-27
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 구보따마사히꼬 , 스즈끼다꾸미 , 사또오다마끼 , 간리료오지 , 핫따마끼 , 아사이가즈히로 , 시바쇼오지 , 이시꾸라히로에 , 오까노아끼히꼬
IPC分类号： G03F7/095 , B41J2/045 , B41J2/055 , B81C1/00
CPC分类号： B41J2/1603 , B41J2/1404 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , B41J2202/11 , G03F7/095 , Y10T29/49401
摘要： A method for manufacturing a minute structure comprises a step of forming a first ionizing radiation decomposing type positive type resist layer to be sensitized by an ionizing radiation of a first wavelength range, a step of forming a second ionizing radiation decomposing type positive type resist layer to be sensitized by an ionizing radiation of a second wavelength range on the first positive type photosensitive material layer, a step of forming a desired pattern in the above-mentioned second positive type photosensitive material layer as the upper layer by decomposing reaction without decomposing reaction of the above-mentioned first positive type photosensitive material layer, development using a developing solution, and then, a step of forming a desired pattern in the above-mentioned first positive type photosensitive material layer as the lower layer by decomposing reaction of a predetermined area, and development, whereby a pattern of a convex shape is manufactured in the substrate by executing the above-mentioned steps. ® KIPO & WIPO 2007
摘要翻译：微细结构的制造方法包括：形成第一电离辐射分解型正型抗蚀剂层的步骤，通过第一波长范围的电离辐射使其增感，第二电离辐射分解型正型抗蚀剂层的形成步骤通过第一正型感光材料层上的第二波长范围的电离辐射敏化，通过分解反应在上述第二正型感光材料层中形成期望图案的步骤，而不会分解反应上述第一正型感光材料层，使用显影液的显影，然后通过分解预定区域的反应在上述第一正型感光材料层中形成期望图案的步骤作为下层，以及显影，由此在底部制造出凸形的图案执行上述步骤。 ®KIPO＆WIPO 2007

2. 发明公开

KR1020070030296A 액체 토출 헤드 제조 방법, 및 이러한 방법을 사용하여얻어지는 액체 토출 헤드 失效
标题翻译：液体排放头制造方法和使用该方法获得的液体排放头
公开(公告)号：KR1020070030296A
公开(公告)日：2007-03-15
申请号：KR1020077001970
申请日：2005-06-27
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 구보따마사히꼬 , 스즈끼다꾸미 , 사또오다마끼 , 간리료오지 , 핫따마끼 , 아사이가즈히로 , 시바쇼오지 , 히노에쯔꼬 , 이시꾸라히로에 , 오까노아끼히꼬
IPC分类号： B41J2/16 , G03F7/00
CPC分类号： B41J2/1639 , B41J2/1603 , B41J2/1631 , B41J2002/14475 , G03F7/038
摘要： According to the present invention, a method for manufacturing a liquid discharge head includes the steps of depositing a solid layer for forming a flow path on a substrate on which an energy generating element is arranged to generate energy that is used to discharge liquid, forming, on the substrate where the solid layer is mounted, a coating layer for coating the solid layer, forming a discharge port used to discharge a liquid, through a photolithographic process, in the coating layer formed on the solid layer, and removing the solid layer to form a flow path that communicates with the energy element and the discharge port, whereby a material used for the coating layer contains a cationically polymerizable chemical compound, cationic photopolymerization initiator and a inhibitor of cationic photopolymerization, and whereby a material of the solid layer that forms a boundary with a portion where the discharge port of the coating layer is formed contains a copolymer of methacrylic anhydride and methacrylate ester. ® KIPO & WIPO 2007
摘要翻译：根据本发明，一种液体排出头的制造方法包括以下步骤：在其上布置能量产生元件的基板上沉积形成流路的固体层，以产生用于排出液体的能量，在固体层安装的基板上，涂布固体层的涂层，通过光刻工艺形成用于排出液体的排出口，形成在固体层上的涂层中，并将固体层除去形成与能量元件和排出口连通的流路，由此用于涂层的材料含有阳离子聚合化学化合物，阳离子光聚合引发剂和阳离子光聚合抑制剂，由此形成固体层的材料与形成涂层的排出口的部分的边界包含甲基丙烯酸酐的共聚物甲基丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。 ®KIPO＆WIPO 2007

3. 发明公开

KR1020070030298A 잉크 제트 헤드 제조 방법 그리고 이 제조 방법에 의해제조된 잉크 제트 헤드 失效
标题翻译：喷墨头制造方法和制造喷头制造方法
公开(公告)号：KR1020070030298A
公开(公告)日：2007-03-15
申请号：KR1020077001999
申请日：2005-06-27
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 오까노아끼히꼬 , 시바쇼오지 , 이시꾸라히로에
IPC分类号： B41J2/16 , B41J2/135
CPC分类号： B41J2/1603 , B41J2/1631 , B41J2/1639 , B41J2/1645
摘要： A method of manufacturing an ink jet head includes a process of forming a photodegradable positive type resist layer on a substrate having energy generating elements, a process of forming a structure which becomes an ink flow path by exposing and developing the photodegradable positive type resist layer, a process of coating the substrate having said structure with a negative type resist layer, a process of forming ink discharge ports in the negative type resist layer, and process of forming the ink flow path by removing said structure, wherein the photodegradable positive type resist layer includes an acrylic copolymer composition, containing at least a unit obtained from (meta) acrylic ester and further containing a unit obtained from (meta) acrylic acid. The acrylic copolymer composition contains the (meta) acrylic acid unit at a proportion of 5 to 30 weigth %, and weigth average molecular weigth of the acrylic copolymer ranges from 50000 to 300000. ® KIPO & WIPO 2007
摘要翻译：制造喷墨头的方法包括在具有能量产生元件的基底上形成可光降解的正型抗蚀剂层的方法，通过曝光和显影可光降解的正型抗蚀剂层形成成为油墨流动路径的结构的工艺，用负型抗蚀剂层涂布具有所述结构的基板的工艺，在负型抗蚀剂层中形成墨水排出口的工艺以及通过去除所述结构形成油墨流动路径的工艺，其中可光降解的正型抗蚀剂层包括丙烯酸共聚物组合物，其至少含有由（甲基）丙烯酸酯获得的单元，并且还含有由（甲基）丙烯酸获得的单元。丙烯酸共聚物组合物含有比例为5〜30重量％的（甲基）丙烯酸单元，丙烯酸共聚物的平均分子量大小在50000〜300000之间。KIPO＆WIPO 2007

4. 发明授权

KR101158467B1 잉크 제트 헤드 제조 방법 그리고 이 제조 방법에 의해제조된 잉크 제트 헤드 失效
标题翻译：喷墨头制造方法和制造喷头制造方法
公开(公告)号：KR101158467B1
公开(公告)日：2012-06-19
申请号：KR1020077001999
申请日：2005-06-27
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 오까노아끼히꼬 , 시바쇼오지 , 이시꾸라히로에
IPC分类号： B41J2/16 , B41J2/135
CPC分类号： B41J2/1603 , B41J2/1631 , B41J2/1639 , B41J2/1645
摘要： 본 발명에 따른 잉크 제트 헤드를 제조하는 방법은 에너지 발생 소자를 갖는 기판 상에 광분해성 포지티브형 레지스트 층을 형성하는 공정과, 광분해성 포지티브형 레지스트 층을 노광 및 현상함으로써 잉크 유로가 되는 구조를 형성하는 공정과, 이 구조를 갖는 기판에 네거티브형 레지스트 층을 코팅하는 공정과, 네거티브형 레지스트 층 내에 잉크 토출구를 형성하는 공정과, 이 구조를 제거함으로써 잉크 유로를 형성하는 공정을 포함하며, 광분해성 포지티브형 레지스트 층은 적어도 아크릴 에스테르 또는 메타크릴 에스테르로부터 얻어지는 단위를 함유하고 아크릴산 또는 메타크릴산으로부터 얻어지는 단위를 추가로 함유하는 아크릴 공중합체 조성물을 포함한다. 아크릴 공중합체 조성물은 5 내지 30 중량%의 비율로 아크릴산 또는 메타크릴산을 함유하며, 아크릴 공중합체의 중량 평균 분자량이 50000 내지 300000의 범위 내에 있다.
잉크 제트 헤드를 제조하는 방법, 광분해성 포지티브형 레지스트 층을 형성하는 공정, 잉크 유로가 되는 구조를 형성하는 공정, 네거티브형 레지스트 층을 코팅하는 공정, 잉크 토출구를 형성하는 공정, 잉크 유로를 형성하는 공정

5. 发明授权

KR100985348B1 액체 토출 헤드 제조 방법, 및 이러한 방법을 사용하여얻어지는 액체 토출 헤드 失效
标题翻译：液体排放头制造方法和使用该方法获得的液体排放头
公开(公告)号：KR100985348B1
公开(公告)日：2010-10-04
申请号：KR1020077001970
申请日：2005-06-27
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 구보따마사히꼬 , 스즈끼다꾸미 , 사또오다마끼 , 간리료오지 , 핫따마끼 , 아사이가즈히로 , 시바쇼오지 , 히노에쯔꼬 , 이시꾸라히로에 , 오까노아끼히꼬
IPC分类号： B41J2/16 , G03F7/00
CPC分类号： B41J2/1639 , B41J2/1603 , B41J2/1631 , B41J2002/14475 , G03F7/038
摘要： 본 발명에 따르면, 액체 토출 헤드를 제조하기 위한 방법은 에너지 발생 소자가 액체를 토출하도록 사용되는 에너지를 발생시키도록 배열된 기판 상에 유로를 형성하기 위한 고체층을 적층하는 단계와, 고체층이 장착된 기판 상에, 고체층을 코팅하기 위한 코팅층을 형성하는 단계와, 포토리소그래피 공정을 통해, 고체층 상에 형성된 코팅층 내에 액체를 토출하도록 사용되는 토출구를 형성하는 단계와, 에너지 소자 및 토출구와 연통하는 유로를 형성하기 위해 고체층을 제거하는 단계를 포함하고, 코팅층에 대해 사용되는 재료는 양이온 중합성 화합물, 양이온 광중합 개시제, 및 양이온 광중합 억제제를 함유하고, 코팅층의 토출구가 형성되는 부분과의 경계를 형성하는 고체층의 재료는 무수 메타크릴산 및 메타크릴산 에스테르의 공중합체를 함유한다.
액체 토출 헤드, 기판, 고체층, 코팅층, 토출구, 유로, 광중합 억제제

6. 发明公开

KR1020100017571A 잉크 제트 헤드 제조 방법 그리고 이 제조 방법에 의해 제조된 잉크 제트 헤드 无效
标题翻译：喷墨头制造方法和制造喷头制造方法
公开(公告)号：KR1020100017571A
公开(公告)日：2010-02-16
申请号：KR1020097025156
申请日：2005-06-27
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 오까노아끼히꼬 , 시바쇼오지 , 이시꾸라히로에
IPC分类号： B41J2/16 , B41J2/135 , G03F7/039
CPC分类号： B41J2/1603 , B41J2/1631 , B41J2/1639 , B41J2/1645
摘要： A method of manufacturing an ink jet head includes a process of forming a photodegradable positive type resist layer on a substrate having energy generating elements, a process of forming a structure which becomes an ink flow path by exposing and developing the photodegradable positive type resist layer, a process of coating the substrate having said structure with a negative type resist layer, a process of forming ink discharge ports in the negative type resist layer, and process of forming the ink flow path by removing said structure, wherein the photodegradable positive type resist layer includes an acrylic copolymer composition, containing at least a unit obtained from (meta) acrylic ester and further containing a unit obtained from (meta) acrylic acid. The acrylic copolymer composition contains the (meta) acrylic acid unit at a proportion of 5 to 30 weigth %, and weigth average molecular weigth of the acrylic copolymer ranges from 50000 to 300000.
摘要翻译：制造喷墨头的方法包括在具有能量产生元件的基底上形成可光降解的正型抗蚀剂层的方法，通过曝光和显影可光降解的正型抗蚀剂层形成成为油墨流动路径的结构的工艺，用负型抗蚀剂层涂布具有所述结构的基板的工艺，在负型抗蚀剂层中形成墨水排出口的工艺以及通过去除所述结构形成油墨流动路径的工艺，其中可光降解的正型抗蚀剂层包括丙烯酸共聚物组合物，其至少含有由（甲基）丙烯酸酯获得的单元，并且还含有由（甲基）丙烯酸获得的单元。丙烯酸类共聚物组合物含有比例为5〜30重量％的（甲基）丙烯酸单元，丙烯酸系共聚物的平均分子量优选为50000〜300000。

7. 发明授权

KR100885586B1 미세 구조체 제조 방법, 액체 토출 헤드 제조 방법 및 액체토출 헤드 失效
标题翻译：制造分钟结构的方法，制造液体排出头的方法和液体排出头
公开(公告)号：KR100885586B1
公开(公告)日：2009-02-24
申请号：KR1020077001968
申请日：2005-06-27
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 구보따마사히꼬 , 스즈끼다꾸미 , 사또오다마끼 , 간리료오지 , 핫따마끼 , 아사이가즈히로 , 시바쇼오지 , 이시꾸라히로에 , 오까노아끼히꼬
IPC分类号： G03F7/095 , B41J2/045 , B41J2/055 , B81C1/00
CPC分类号： B41J2/1603 , B41J2/1404 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , B41J2202/11 , G03F7/095 , Y10T29/49401
摘要： 본 발명에 따른 미세 구조체 제조 방법은, 제1 파장 범위의 전리 방사선에 의해 감광될 제1 전리 방사선 분해형 포지티브형 레지스트층을 형성하는 단계와, 제1 포지티브형 감광재층 상에 제2 파장 범위의 전리 방사선에 의해 감광될 제2 전리 방사선 분해형 포지티브형 레지스트층을 형성하는 단계와, 상술한 제1 포지티브형 감광재층의 분해 반응 없이 분해 반응에 의해 상부층인 상술한 제2 포지티브형 감광재층에 소정 패턴을 형성하는 단계와, 소정 영역을 분해 반응시켜고 현상함으로써 하부층인 상술한 제1 포지티브형 감광재층에 소정 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것으로서, 상술한 단계들을 실행함으로써 기판에 볼록 형상의 패턴이 제조되는 것을 특징으로 한다.
잉크 제트 토출 헤드, 전리 방사선, 레지스트층, 감광재층, 액체 유로

8. 发明公开

KR1020070022805A 액체 토출 헤드 제조 방법, 및 이러한 방법을 사용하여얻어지는 액체 토출 헤드 无效
标题翻译：液体排放头制造方法和使用该方法获得的液体排出头
公开(公告)号：KR1020070022805A
公开(公告)日：2007-02-27
申请号：KR1020067027416
申请日：2005-06-27
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 구보따마사히꼬 , 스즈끼다꾸미 , 사또다마끼 , 간리료지 , 하따마끼 , 아사이가즈히로 , 시바쇼지 , 히노에쯔꼬 , 이시꾸라히로에 , 오까노아끼히꼬
IPC分类号： B41J2/16 , B41J2/015 , G03F7/00
摘要： 본 발명에 따르면, 액체 토출 헤드를 제조하기 위한 방법은 에너지 발생 소자(2)가 액체를 토출하도록 사용되는 에너지를 발생시키도록 배열된 기판(1) 상에 유동 경로를 형성하기 위한 고체층(3)을 형성하는 단계와, 고체층이 장착된 기판상에, 고체층을 코팅하기 위한 코팅층(4)을 형성하는 단계와, 포토리소그래피 공정을 통해, 고체층 상에 적층된 코팅층 내에 액체를 토출하도록 사용되는 토출 포트(7)를 형성하는 단계와, 에너지 요소 및 토출 포트와 연통하는 유동 경로(8)를 형성하기 위해 고체층을 제거하는 단계를 포함하고, 코팅층에 대해 사용되는 재료는 양이온 중합 가능한 화합물, 양이온 광중합 개시제, 및 양이온 광중합 억제제를 함유하고, 코팅층의 토출 포트가 형성되는 부분과의 경계를 형성하는 고체층의 재료는 메타크릴산 및 메타크릴� ��이트 에스터의 공중합체를 함유한다.
액체 토출 헤드, 기판, 고체층, 코팅층, 에너지 발생 소자, 토출 포트, 유동 경로

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式