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1. 发明公开

KR1020160104437A 표면방전과 가스 유도관을 이용한 유전격벽방전 대기압 플라즈마 장치 有权
标题翻译：具有表面电介质障碍物的大气压力等离子体装置与气体导向
公开(公告)号：KR1020160104437A
公开(公告)日：2016-09-05
申请号：KR1020150027479
申请日：2015-02-26
申请人： 주식회사 피글
发明人： 이해준 , 김규천 , 홍진우
IPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32
CPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32348 , H01J37/3244
摘要： 본발명은플라즈마발생을표면방전을이용하고주변기체의흐름을이끄는가스유도관을이용하여플라즈마발생효율을높이고, 다양한구조에적용할수 있도록한 표면방전과가스유도관을이용한유전격벽방전대기압플라즈마장치에관한것으로, 제 1 방향으로플라즈마발생을위한가스의진행경로가구성되는방전공간을갖는본체;상기제 1 방향에수직한제 2 방향으로방전공간을가로질러구성되어방전이일어나는공간을선택하고래디컬(Radical) 및여기종의흐름을제어하는가스유도관;표면방전플라즈마발생장치;를포함하는것이다.
摘要翻译：本发明涉及使用表面放电和导气管的电介质阻挡放电大气压等离子体装置，以通过使用通过使用表面放电产生等离子体并引导环境气体的流动的气体导管来提高等离子体产生效率。电介质势垒放电大气压等离子体装置包括主体，该主体具有形成第一方向上产生等离子体的气体的前进路径的放电空间; 沿垂直于第一方向的第二方向穿过放电空间的气体导管选择产生放电的空间，并控制自由基和激发物质的流动; 和表面放电等离子体产生装置。

2. 发明授权

KR101748739B1 표면방전과 가스 유도관을 이용한 유전격벽방전 대기압 플라즈마 장치 有权
标题翻译：表面放电介质阻挡层和气体导入管的放电大气压等离子体装置
公开(公告)号：KR101748739B1
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：KR1020150027479
申请日：2015-02-26
申请人： 주식회사 피글
发明人： 이해준 , 김규천 , 홍진우
IPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32
摘要： 본발명은플라즈마발생을표면방전을이용하고주변기체의흐름을이끄는가스유도관을이용하여플라즈마발생효율을높이고, 다양한구조에적용할수 있도록한 표면방전과가스유도관을이용한유전격벽방전대기압플라즈마장치에관한것으로, 제 1 방향으로플라즈마발생을위한가스의진행경로가구성되는방전공간을갖는본체;상기제 1 방향에수직한제 2 방향으로방전공간을가로질러구성되어방전이일어나는공간을선택하고래디컬(Radical) 및여기종의흐름을제어하는가스유도관;표면방전플라즈마발생장치;를포함하는것이다.
摘要翻译：使用表面放电和气体导管，以增加通过使用表面放电等离子体的产生和使用的气体引导管通向周围气体的流动的等离子体产生效率的本发明的电介质分隔排出压力等离子体装置，将被施加到各种结构的它涉及具有放电空间，其中，用于在第一方向上的等离子体生成配置气体通道的进展本体;以及选择一个空间，该放电跨越放电空间构造为在第二方向垂直于第一方向发生用于控制自由基和激发物质流动的气体导入管和表面放电等离子体发生器。

3. 发明公开

KR1020160049683A 임플란트 산화막 제거장치 无效
标题翻译：氧化物植入物去除装置
公开(公告)号：KR1020160049683A
公开(公告)日：2016-05-10
申请号：KR1020140147138
申请日：2014-10-28
申请人： 주식회사 피글
发明人： 김상헌 , 김규천
IPC分类号： A61L27/50 , A61L27/30 , A61C8/00 , A61C17/00
CPC分类号： A61L27/50 , A61C8/00 , A61C17/036 , A61L27/30 , A61L2400/18 , A61L2430/12
摘要： 본발명은임플란트산화막제거장치에관한것으로서, 보다상세히는유통과정중에임플란트픽스쳐의티타늄코팅층에형성된산화막을제거하여친수성을확보할수 있는것을특징으로하는임플란트산화막제거장치에관한것이다. 본발명은내부공간부를구비한챔버(10)와; 상기챔버(10) 일측부에체결되며, 대기압플라즈마가스를챔버내로방출하는한 개이상의플라즈마가스발생장치(30)와; 상기챔버(10) 하단부에체결되며, 픽스쳐홀더(53)를일정높이에위치하게하는지지대(40)와; 상기지지대(40)와체결되며, 임플란트픽스쳐(60)를고정하는픽스쳐홀더(53)와; 상기챔버(10) 일측부에체결되며, 플라즈마가스로인하여발생되는오존을제거하기위한오존필터(20)와; 상기오존필터(20)와연결되어진공압력으로흡입하는진공펌프와; 상기구성요소를제어하는컨트롤러;를구비하는것을특징으로한다. 본발명은 10분이내로임플란트픽스쳐에형성된산화막을제거할수 있으며, UV등에비하여제거시간을 1/2배이상단축시킬수있으며, 항균성뿐만아니라세포부착성이향상되며, 세균억제기능까지도부여하는효과를가진다.
摘要翻译：本发明涉及一种去除植入物上的氧化膜的装置，更具体地，涉及一种去除植入物上的氧化膜的装置，该装置能够通过除去形成在钛涂层上的氧化膜来确保亲水性在分配过程中植入物夹具的层。根据本发明的去除植入物上的氧化膜的装置包括：包括内部空间部分的室（10）; 一个或多个等离子体气体发生器（30），其耦合到所述室（10）的一个侧部，并且将大气等离子体气体发射到所述室中; 支撑件（40），其联接到所述腔室（10）的底部，并且使所述夹具保持器（53）能够定位在预定高度; 固定夹具（53），其联接到所述支撑件（40）并固定植入物夹具（60）; 臭氧过滤器（20），其耦合到所述室（10）的一个侧部以去除由于等离子体气体产生的臭氧; 与臭氧过滤器（20）连接以通过真空压力吸入臭氧过滤器的真空泵; 以及控制组件的控制器。根据本发明的去除植入物上的氧化膜的装置具有在10分钟内除去在植入物夹具上形成的氧化膜的作用，与UV射线等相比，将去除时间缩短多达半倍或更多，从而改善细胞粘附以及抗微生物活性，甚至抑制细菌功能。

4. 发明公开

KR1020170027173A 저온 상압 플라즈마 장치의 목적성 재료코팅 팁 有权
标题翻译：低温等离子体装置的目的材料涂层尖端
公开(公告)号：KR1020170027173A
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：KR1020150123773
申请日：2015-09-01
申请人： 주식회사 피글
发明人： 김규천 , 이해준 , 홍진우
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/24 , H05H1/34
CPC分类号： H01J37/32 , H05H1/24 , H05H1/34
摘要： 본발명은사용용도에맞는최적의재료가플라즈마가발생하는팁에도포되어플라즈마발생시 재료들은플라즈마의다양한라디칼과고에너지의전자에의해분리되고활성을갖도록하는저온상압플라즈마장치의목적성재료코팅팁에관한것으로, 플라즈마를발생하는플라즈마발생모듈;상기플라즈마발생모듈에연장구성되어플라즈마발생팁을내부에위치시키고플라즈마발생시에플라즈마발생팁에도포되는목적성재료를담고있는모듈확장구조체;상기플라즈마발생모듈에연결되어모듈확장구조체의내부에위치하여플라즈마발생시에플라즈마의라디칼과고에너지의전자에의해분리되고활성을갖는재료가도포되는플라즈마발생팁;을포함하는것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种低温大气压等离子体设备的目标材料涂层尖端，其中将适合于预期用途的最佳材料应用于产生等离子体的尖端，使得材料被各种自由基分离和活化，并且高能量电子。低温大气压等离子体装置的目标材料涂层尖端包括：用于产生等离子体的等离子体产生模块; 从等离子体发生模块延伸的模块膨胀结构，其中等离子体产生尖端被设置并且当产生等离子体时包含施加到等离子体产生尖端的靶材料; 以及等离子体产生头，其连接到等离子体产生模块并且位于模块膨胀结构内部，并且涂覆有当产生等离子体时由等离子体的自由基和高能电子分离和激活的材料。

5. 发明授权

KR101579787B1 대기압 플라즈마 가스 발생장치 有权
标题翻译：大气等离子气体发电机
公开(公告)号：KR101579787B1
公开(公告)日：2015-12-29
申请号：KR1020140147132
申请日：2014-10-28
申请人： 주식회사 피글
发明人： 김상헌 , 김규천
IPC分类号： H05H1/34
CPC分类号： H05H1/34 , H01L21/3065
摘要： 본발명은대기압플라즈마가스발생장치에관한것으로서, 보다상세히는플라즈마가발생되는전극단자의변형을방지하여내구성을향상시키기위한것으로, 중심전극봉내부로가스공급관이형성된것을특징으로하는대기압플라즈마가스발생장치에관한것이다. 본발명은외측부가플라즈마노즐부(11)와다단으로형성된중공형상의절연바디(10)와; 상기절연바디(10)의플라즈마노즐부(10) 외측부에부착되며, 일측부에전원공급선A(51)와연결되는접속단자(31)을포함하는중공플레이트(30)와; 상기중공플레이트(30)와전원공급선A(51)을절연시키는피복제(40)와; 상기절연바디(10)에삽입되며, 선반부에플라즈마를발생하는중심전극봉(25)를형성하고, 중심부에가스유입관(23)을형성하고, 상기가스유입관(23)과연결된일측부에한개이상의가스분출구(22)와, 일측부에전원공급선B(52)와연결되는접속단자(21)를포함하는가스공급바디(20);를구비하는것을특징으로한다. 본발명은직경 0.2~2㎝크기로소형제작이가능하여, 극부적공간이나특수목적용으로적용가능하며, 의료기구소독용챔버, 구강내치료, 치아미백, 치석제거, 임플란트픽스쳐표면재생장치, 두피치료및 피부치료에사용할수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种大气等离子体气体发生器，更具体地说，涉及一种大气等离子体气体发生器，能够通过防止产生等离子体的电极端子的变换来提高耐久性，并且在中心电极棒的内部形成气体供给管。本发明包括：具有与等离子体喷嘴部分（11）形成多个台阶的外侧部分的中空绝缘体（10）; 安装在所述绝缘体（10）的等离子体喷嘴部（10）的外侧部分的中空板（30），并且包括连接到电源线A（51）的连接端子（31）。将所述中空板（30）和所述供电线A（51）彼此绝缘的涂料（40）以及插入到所述绝缘体（10）中的气体供给体（20），形成在所述齿条部上产生等离子体的所述中心电极棒（25），在中心部分形成气体流入管（23），并且包括至少一个连接到气体流入管（23）的侧部的气体出口（22）和与电源线B（52）连接的侧部的连接端子（21）。本发明能够制造为直径为0.2-2cm的小尺寸，适用于极小的空间或特殊用途，并用于医疗设备消毒室，口腔治疗，牙齿漂白，缩放，植入物夹具表面再生装置以及头皮和皮肤的治疗。

6. 发明授权

KR101733994B1 진공 펌프를 이용한 기체 압력 제어 플라즈마 발생 장치 有权
标题翻译：真空泵用气体压力控制等离子体发生器
公开(公告)号：KR101733994B1
公开(公告)日：2017-05-11
申请号：KR1020150048968
申请日：2015-04-07
申请人： 주식회사 피글
发明人： 이해준 , 김규천 , 홍진우
IPC分类号： H01J11/20
摘要： 본발명은방전개시전에진공펌프를이용하여장치내부의압력을제어하여방전개시전압을낮추고전극손상을억제할수 있도록한 진공펌프를이용한기체압력제어플라즈마발생장치에관한것으로, 사람의신체또는신체의일부가들어가는크기를갖고플라즈마로부터발생하는래디컬및 여기종이세포에영향을줄 수있도록밀폐공간을확보하기위한본체;상기본체에개폐가능한구조로연결되는덮개;본체및 덮개내부벽면에부착되거나내부공간에연결되는복수개의플라즈마발생장치;본체의바닥면과일정간격이격되어신체를지지하는메쉬구조의지지대;상기본체의일측에구성되어가스성분조정수단을통하여성분이조정되는플라즈마발생을위한가스를유입시키는주입구;상기본체의타측에구성되어플라즈마발생시에생긴가스를배출하는배출구;를포함하고, 플라즈마발생을위한방전개시전에진공펌프를이용하여장치내부의압력을제어하여방전개시전압을낮추는것이다.
摘要翻译：本发明涉及气体压力控制等离子体生成装置放电开始，对人体或体之前，使用利用真空泵的真空泵，以通过控制设备内部压力可以抑制电极的损伤降低了放电开始电压一个封闭主体和盖子内壁的主体，一个封闭主体和盖子内壁的主体，连接到等离子体发生器的多个等离子体发生器，连接到等离子体发生器的多个等离子体发生器，连接到多个等离子体发生器的多个等离子体发生器，并且在主体的另一侧上形成用于排出等离子体产生时产生的气体的排出口，放电的开始前使用真空泵通过控制装置中的压力，以降低击穿电压。

7. 发明公开

KR1020160120020A 진공 펌프를 이용한 기체 압력 제어 플라즈마 발생 장치 有权
标题翻译：使用真空泵的气体压力控制等离子体源
公开(公告)号：KR1020160120020A
公开(公告)日：2016-10-17
申请号：KR1020150048968
申请日：2015-04-07
申请人： 주식회사 피글
发明人： 이해준 , 김규천 , 홍진우
IPC分类号： H01J11/20
摘要： 본발명은방전개시전에진공펌프를이용하여장치내부의압력을제어하여방전개시전압을낮추고전극손상을억제할수 있도록한 진공펌프를이용한기체압력제어플라즈마발생장치에관한것으로, 사람의신체또는신체의일부가들어가는크기를갖고플라즈마로부터발생하는래디컬및 여기종이세포에영향을줄 수있도록밀폐공간을확보하기위한본체;상기본체에개폐가능한구조로연결되는덮개;본체및 덮개내부벽면에부착되거나내부공간에연결되는복수개의플라즈마발생장치;본체의바닥면과일정간격이격되어신체를지지하는메쉬구조의지지대;상기본체의일측에구성되어가스성분조정수단을통하여성분이조정되는플라즈마발생을위한가스를유입시키는주입구;상기본체의타측에구성되어플라즈마발생시에생긴가스를배출하는배출구;를포함하고, 플라즈마발생을위한방전개시전에진공펌프를이용하여장치내부의압력을제어하여방전개시전압을낮추는것이다.

8. 发明授权

KR101758256B1 저온 상압 플라즈마 장치의 목적성 재료코팅 팁 有权
公开(公告)号：KR101758256B1
公开(公告)日：2017-07-17
申请号：KR1020150123773
申请日：2015-09-01
申请人： 주식회사 피글
发明人： 김규천 , 이해준 , 홍진우
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/24 , H05H1/34
CPC分类号： H01J37/32 , H05H1/24 , H05H1/34
摘要： 본발명은사용용도에맞는최적의재료가플라즈마가발생하는팁에도포되어플라즈마발생시 재료들은플라즈마의다양한라디칼과고에너지의전자에의해분리되고활성을갖도록하는저온상압플라즈마장치의목적성재료코팅팁에관한것으로, 플라즈마를발생하는플라즈마발생모듈;상기플라즈마발생모듈에연장구성되어플라즈마발생팁을내부에위치시키고플라즈마발생시에플라즈마발생팁에도포되는목적성재료를담고있는모듈확장구조체;상기플라즈마발생모듈에연결되어모듈확장구조체의내부에위치하여플라즈마발생시에플라즈마의라디칼과고에너지의전자에의해분리되고활성을갖는재료가도포되는플라즈마발생팁;을포함하는것이다.

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