会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 5. 发明授权
    • 폴리실리콘의 제조 장치 및 이를 이용한 폴리실리콘 제조방법
    • 制造多晶硅的设备和使用其制造多晶硅的方法
    • KR101755764B1
    • 2017-07-07
    • KR1020140071880
    • 2014-06-13
    • 주식회사 엘지화학
    • 장은수김정규김유석유진형이정우
    • C01B33/035C30B25/08C30B29/06B01J19/08
    • 본발명에따르면, 반응가스공급관이구비되며, 본체내면에소정극성의전압이인가된본체를구비한반응관; 상기반응관내부에설치되며상기본체내면에인가된전압의극성과반대되는극성의전압이인가되는내부구조물; 상기본체내면과상기내부구조물에전압을인가하기위한전원공급수단; 상기반응관내로환원가스를공급하기위한환원가스공급관; 및상기본체내면과내부구조물에인가되는반대극성의전압으로인해형성된플라즈마에의해상기반응가스와상기환원가스가반응하여실리콘을석출하는반응공간을포함하는폴리실리콘의제조장치및 이를이용한폴리실리콘제조방법이제공된다.
    • 根据本发明,提供了一种与反应气体供给管,具有主体预定极性到主体内表面的施加电压的反应管; 反应管被安装在被施加极性与施加到身体内表面的电压的极性的电压的内部结构; 电源装置,用于向主体和内部结构的内表面施加电压; 还原气体供应管,用于将还原气体供应到反应管中; 和多晶硅制造装置的多晶硅制备及它包括通过由于形成为相反极性的电压的等离子体反应空间被施加到所述主体的内表面和内部结构中沉淀的硅还原气体与反应气体反应 提供方法。