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1. 发明授权

KR101611657B1 고분자 화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물 有权
标题翻译：聚合化合物和包含其的感光性组合物
公开(公告)号：KR101611657B1
公开(公告)日：2016-04-12
申请号：KR1020130063127
申请日：2013-05-31
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 이건우 , 곽상규 , 박범수 , 김혜현 , 손해성 , 이창순
IPC分类号： C08F20/10 , C08F20/32 , C08F12/08 , G03F7/004
摘要： 본출원은박막트랜지스터액정표시소자(TFT LCD)에사용되는유기절연막을제조하는데유효한감광성조성물과이에효과적인고분자화합물에대한것이다. 본출원에서제공하는고분자화합물을이용한감광성조성물을사용하면유기절연막의홀 패턴을형성하는데 있어잔사와역테이퍼의발생을효과적으로차단할수 있다.

2. 发明授权

KR101356869B1 아크릴레이트계 화합물을 포함하는 감광성조성물 有权
标题翻译：包含丙烯酸酯化合物的光电组合物
公开(公告)号：KR101356869B1
公开(公告)日：2014-01-28
申请号：KR1020110120413
申请日：2011-11-17
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 이건우 , 곽상규 , 이창순 , 김혜현
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/033 , G03F7/0007 , G03F7/027 , Y02P20/582
摘要： 본 발명은 아다만틸 구조를 포함하는 아크릴레이트계 화합물을 포함하는 감광성 조성물에 대한 것이다. 본 발명에 따른 감광성 조성물을 이용하여 박막의 강도를 손상시키지 않고 박리가 용이한 유기 박막의 제조가 가능해진다.

3. 发明授权

KR101273140B1 아크릴레이트계 화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물 有权
标题翻译：基于丙烯酸的化合物和包含其的光学组合物
公开(公告)号：KR101273140B1
公开(公告)日：2013-06-17
申请号：KR1020110120402
申请日：2011-11-17
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 이건우 , 곽상규 , 이창순 , 김혜현
IPC分类号： C07C69/92 , C07C69/94 , G03F7/027
CPC分类号： C07C69/602 , C07C69/54 , C07C69/92 , C07C69/94 , C07C2603/24 , G03F7/027 , G03F7/032 , G03F7/033
摘要： 본 발명은 두 개 이상의 아크릴레이트기와 하나 이상의 페놀산 구조를 지닌 유기산을 한 분자 내에 포함하는 아크릴레이트계 화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물에 대한 것이다. 본 발명에 따른 감광성 조성물을 이용하여 감광성을 훼손시키지 않고 포토리소그라피 공정 중 현상시간을 단축할 수 있다.

4. 发明公开

KR1020120054540A 아크릴레이트계 화합물을 포함하는 감광성조성물 有权
标题翻译：包含丙烯酸酯化合物的光电组合物
公开(公告)号：KR1020120054540A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：KR1020110120413
申请日：2011-11-17
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 이건우 , 곽상규 , 이창순 , 김혜현
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/033 , G03F7/0007 , G03F7/027 , Y02P20/582 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/20 , G03F7/202
摘要： PURPOSE: A photo-sensitive composition including acrylate-based compounds is provided to shorten times required for developing operations during a photolithography process. CONSTITUTION: A photo-sensitive composition includes binder resins, cross-linkable compounds, photo-polymerization initiators, acrylate-based compounds represented by chemical formula 1, and solvents. In chemical formula 1, at least one of R1 to R4 is represented by chemical formula 2, 3, 4, or 5; the remainder are selected from a group including halogen groups, C1 to C5 alkyl groups, C1 to C5 alkoxy groups, C1 to C5 haloalkyl groups. In chemical formulas 2 to 5, R5 to R8 are identical or different and are respectively hydrogen elements or C1 to C5 alkyl groups.
摘要翻译：目的：提供包含丙烯酸酯类化合物的感光性组合物以缩短在光刻过程中显影操作所需的时间。构成：感光性组合物包括粘合剂树脂，可交联化合物，光聚合引发剂，由化学式1表示的丙烯酸酯类化合物和溶剂。在化学式1中，R 1至R 4中的至少一个由化学式2，3，4或5表示; 剩余部分选自卤素基团，C1至C5烷基基团，C1至C5烷氧基基团，C1至C5卤代烷基基团。在化学式2至5中，R5至R8相同或不同，分别为氢元素或C1至C5烷基。

5. 发明公开

KR1020130089186A 신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 조성물 및 감광재 有权
标题翻译：新化合物，包含其的感光性组合物和感光材料
公开(公告)号：KR1020130089186A
公开(公告)日：2013-08-09
申请号：KR1020130007942
申请日：2013-01-24
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 이건우 , 곽상규 , 이창순 , 김혜현 , 김세희
IPC分类号： C07D487/04 , G03F7/031 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/004 , C07C275/00 , C07D487/04 , G03F7/027 , G03F7/029 , G03F7/031 , Y10S430/128 , G03F7/0045
摘要： PURPOSE: A photosensitive composition including novel compound is provided to manufacture a negative type thin film capable of forming a hole, in which the edge is clear, without scum by minimizing the reverse taper or peeling phenomenon. CONSTITUTION: A compound represented by the chemical formula 1 is provided. A photosensitive composition comprises: a cross-linkable compound represented by the chemical formula 1; an alkali-soluble binder resin; a photopolymerization initiator; and a solvent. A photosensitive material is manufactured using the photosensitive composition.
摘要翻译：目的：提供包含新型化合物的感光性组合物，通过使反锥度或剥离现象最小化来制造能够形成孔的负型薄膜，其中边缘清晰，无浮渣。构成：提供由化学式1表示的化合物。光敏组合物包含：由化学式1表示的可交联化合物; 碱溶性粘合剂树脂; 光聚合引发剂; 和溶剂。使用感光性组合物制造感光材料。

6. 发明公开

KR1020120083188A 컬러 필터 기판, 이의 제조방법 및 상기 기판을 포함하는 표시장치 有权
标题翻译：彩色滤光片基板，其基板的制造方法和显示器
公开(公告)号：KR1020120083188A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：KR1020110004718
申请日：2011-01-17
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 이건우 , 곽상규 , 이창순 , 김혜현
IPC分类号： G02F1/1339
CPC分类号： G02F1/13394 , G02F2201/503
摘要： PURPOSE: A color filter substrate, a manufacturing method thereof, and a display device with the substrate are provided to obtain a column spacer in which peeling phenomena hardly ever occur due to external pressure. CONSTITUTION: A light shielding film pattern is placed on a substrate. A color pattern is formed on an area without the light shielding film pattern. A column spacer pattern is formed on the light shielding film pattern. The column spacer pattern comprises a first column spacer pattern and a second column spacer pattern. The width and height of the second column spacer pattern are wider and higher than the width and height of the first column spacer. The second column spacer pattern surrounds a side and an upper surface of the first column spacer pattern.
摘要翻译：目的：提供一种滤色器基板及其制造方法以及具有该基板的显示装置，以获得由于外部压力几乎不发生剥离现象的列间隔件。构成：将光屏蔽膜图案放置在基板上。在没有遮光膜图案的区域上形成彩色图案。在遮光膜图案上形成列间隔图案。柱间隔图案包括第一列间隔图案和第二列间隔图案。第二列间隔图案的宽度和高度比第一列间隔物的宽度和高度宽并且高。第二列间隔图案围绕第一列间隔图案的侧面和上表面。

7. 发明公开

KR1020110120124A 알칼리 가용성 고분자 화합물과 이를 이용한 감광성 수지 조성물 无效
标题翻译： ALKALI可溶性聚合物化合物和包含其的光催化剂树脂组合物
公开(公告)号：KR1020110120124A
公开(公告)日：2011-11-03
申请号：KR1020100039662
申请日：2010-04-28
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 이건우 , 곽상규 , 이창순 , 김혜현
IPC分类号： G03F7/027
CPC分类号： C08F36/20 , C08L47/00
摘要： PURPOSE: An alkali soluble polymer compound and a photo-sensitive resin composition are provided to form nearly vertical patterns and to prevent the generation of scum in a developing process. CONSTITUTION: An alkali soluble polymer compound includes pimaric acid and the isomer of the pimaric acid. The pimaric acid is represented by chemical formulas 1 to 3. The acidity of the alkali soluble polymer compound is between 30 and 300 KOH mg/g. The weight average molecular weight of the alkali soluble polymer compound is in a range between 1000 and 200000. A photo-sensitive resin composition includes 2-20 parts by weight of the alkali soluble polymer, 0.5-20 parts by weight of polymerizable compound with an ethylenically unsaturated bond, 0.1-20 parts by weight of a photoactive radical initiator, and 10-95 parts by weight of a solvent.
摘要翻译：目的：提供碱溶性聚合物化合物和光敏树脂组合物以形成几乎垂直的图案并防止在显影过程中产生浮渣。构成：碱溶性高分子化合物包括海松酸和海松酸的异构体。海松酸由化学式1〜3表示。碱溶性高分子化合物的酸度为30〜300KOHmg / g。碱溶性高分子化合物的重均分子量在1000〜200000的范围内。感光性树脂组合物含有2-20重量份的碱溶性聚合物，0.5〜20重量份的可聚合化合物与烯键式不饱和键，0.1-20重量份光活性自由基引发剂和10-95重量份溶剂。

8. 发明公开

KR1020170113457A 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 포토 스페이서 및 디스플레이 장치 审中-实审
标题翻译：碱溶性树脂，含有其的光敏树脂组合物，光间隔物和显示装置
公开(公告)号：KR1020170113457A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：KR1020170042148
申请日：2017-03-31
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 손선경 , 김혜현 , 김한수
IPC分类号： C08F20/08 , C08L31/02 , G02B5/20
摘要： 본출원은화학식 1로표시되는하나또는 2 이상의단위를포함하는알칼리가용성수지, 이를포함하는감광성수지조성물, 이를이용하여형성된포토스페이서, 및상기포토스페이서를포함하는디스플레이장치에관한것이다.
摘要翻译：本申请涉及一种显示装置，包括一个感光间隔物，并且通过使用该感光性树脂组合物，含有碱可溶性树脂，其包含由下列通式（1）表示的一种或两种或更多种单元形成的光间隔。

9. 发明授权

KR101505720B1 실록산계 화합물, 이를 포함하는 감광성 조성물 및 감광재 有权
标题翻译：基于硅氧烷的化合物，包含其的感光性组合物和感光材料
公开(公告)号：KR101505720B1
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：KR1020130007949
申请日：2013-01-24
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 이건우 , 곽상규 , 이창순 , 김혜현 , 김세희
IPC分类号： C07F7/10 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07F7/1836 , G03F7/027 , G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/0755
摘要： 본 출원은 실록산계 화합물과 이를 포함하는 감광성 조성물 및 감광재에 관한 것이다.

10. 发明公开

KR1020140016151A 고분자 화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물 有权
标题翻译：聚合化合物和包含其的感光性组合物
公开(公告)号：KR1020140016151A
公开(公告)日：2014-02-07
申请号：KR1020130063127
申请日：2013-05-31
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 이건우 , 곽상규 , 박범수 , 김혜현 , 손해성 , 이창순
IPC分类号： C08F20/10 , C08F20/32 , C08F12/08 , G03F7/004
CPC分类号： C08F20/10 , C08F12/08 , C08F20/32 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/20 , G03F7/2002
摘要： The application is about a photosensitive composition which is effective in manufacturing an organic insulator film used in a thin-film transistor liquid crystal display element (TFT LCD) and a polymer compound which is effective for this. When using a photosensitive composition using a polymer compound provided in the application, generation of residues and back taper is effectively blocked in forming a hole pattern of the organic insulator film.
摘要翻译：本申请涉及一种有效制造用于薄膜晶体管液晶显示元件（TFT LCD）的有机绝缘膜和对其有效的高分子化合物的光敏组合物。当使用本申请中提供的聚合物化合物使用感光组合物时，在形成有机绝缘膜的孔图案时，残留物和后锥形的产生被有效地阻断。

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