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2. 发明公开

KR1020160083432A 망간이 도핑된 전극 제조방법 有权
标题翻译：锰电极的制备方法
公开(公告)号：KR1020160083432A
公开(公告)日：2016-07-12
申请号：KR1020140194822
申请日：2014-12-31
申请人： 인하대학교 산학협력단
发明人： 최진섭 , 성미정
IPC分类号： C25B11/00
CPC分类号： C25B11/00 , C25B11/04 , C25D11/02
摘要： 본발명은혼합용액에서타이타늄기판을양극산화하여상기타이타늄기판상에산화타이타늄층을형성하는단계(제1단계); 및 0.001M 내지 0.02M의 KMnO이용해된전해액에상기산화타이타늄층이형성된타이타늄기판을담지하고전기충격을가하여산화타이타늄층에망간이온을침투시키는단계(제2단계)를포함하는망간이도핑된전극제조방법을제공한다. 따라서전극의활성을증가시키기위해금속전구체를사용하여촉매를코팅하는별도의공정이필요하지않으며, 금속산화물의음이온을타이타늄기판의산화타이타늄층에균일하고깊숙하게도핑할수 있다. 금속음이온이균일하게도핑된전극은산소발생전극으로사용되는경우낮은개시전위(onset potential)를가지며, 산소환원반응에있어서매우높은효율을나타낸다.
摘要翻译：本发明提供了一种锰掺杂电极的制备方法，其特征在于包括以下步骤：在钛基底上通过在混合溶液中阳极氧化钛基底来形成氧化钛层（第一步骤）; 并且通过将其上形成有氧化钛层的钛基底浸入其中已溶解有0.001-0.02M KMnO 4的电解质中并进行电击（第二步骤），将锰离子浸入氧化钛层中。因此，不需要通过使用金属前体施加催化剂以增加电极的活性的单独方法，并且钛基板的氧化钛层可以均匀且深度地掺杂有金属氧化物的阴离子。当均匀掺杂有金属阴离子的电极用作氧气发生电极时，电极具有低的起始电位，并且在氧还原反应中表现出相当高的效率。

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