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1. 发明授权

KR101909180B1 반송유닛 및 기판 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR101909180B1
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：KR1020160068723
申请日：2016-06-02
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이상민 , 박주집 , 김우영 , 김춘식
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/677
摘要： 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는, 기판 상으로 액을 공급하여 기판을 액 처리 하는 액처리 챔버와; 상기 액처리 챔버에서 공급되어 기판 상에 잔류하는 액을 제거하는 건조 챔버와; 상기 액처리 챔버와 상기 건조 챔버 사이에서 상기 기판을 반송하는 반송 유닛을 가지는 반송 챔버를 포함하되, 상기 반송 챔버는 그 내부의 반송 영역에 하강 기류를 발생시키는 팬 유닛을 더 포함하고, 상기 반송 유닛은, 기판이 놓이는 핸드와; 상기 핸드의 상부에 배치되어 상기 하강기류가 기판에 도달하는 것을 최소화하는 블레이드를 포함한다.

2. 发明授权

KR101910910B1 반송유닛 및 기판 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR101910910B1
公开(公告)日：2018-10-24
申请号：KR1020180001234
申请日：2018-01-04
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이상민 , 박주집 , 김우영 , 김춘식
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/677
摘要： 본발명은기판처리장치에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는, 기판상으로액을공급하여기판을액 처리하는액처리챔버와; 상기액처리챔버에서공급되어기판상에잔류하는액을제거하는건조챔버와; 상기액처리챔버와상기건조챔버사이에서상기기판을반송하는반송유닛을가지는반송챔버를포함하되, 상기반송챔버는그 내부의반송영역에하강기류를발생시키는팬 유닛을더 포함하고, 상기반송유닛은, 기판이놓이는핸드와; 상기핸드의상부에배치되어상기하강기류가기판에도달하는것을최소화하는블레이드를포함한다.

3. 发明授权

KR101895406B1 반송유닛 및 기판 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR101895406B1
公开(公告)日：2018-09-05
申请号：KR1020180001237
申请日：2018-01-04
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이상민 , 박주집 , 김우영 , 김춘식
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/677
摘要： 본발명은기판처리장치에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는, 기판상으로액을공급하여기판을액 처리하는액처리챔버와; 상기액처리챔버에서공급되어기판상에잔류하는액을제거하는건조챔버와; 상기액처리챔버와상기건조챔버사이에서상기기판을반송하는반송유닛을가지는반송챔버를포함하되, 상기반송챔버는그 내부의반송영역에하강기류를발생시키는팬 유닛을더 포함하고, 상기반송유닛은, 기판이놓이는핸드와; 상기핸드의상부에배치되어상기하강기류가기판에도달하는것을최소화하는블레이드를포함한다.

4. 发明公开

KR1020120036491A 기판 처리 장치 无效
标题翻译：基板加工设备
公开(公告)号：KR1020120036491A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：KR1020100098212
申请日：2010-10-08
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 김봉주 , 김춘식 , 노환익 , 김성수
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/67034
摘要： PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to prevent a second bowl to be polluted by completely secluding an interval between a first bowl and the second bowl and preventing chemicals to be entered into the second bowl. CONSTITUTION: A spin head(100) rotates a loaded substrate. The spin head is connected to a rotary shaft. A nozzle supporter(200) is arranged in the circumference of the spin head. A plurality of nozzles(300) is arranged by passing through the nozzle supporter. A first bowl(400) is arranged in the circumference of the nozzle supporter and collects chemicals. A second bowl(500) is arranged in the circumference of the nozzle supporter and collects rinse liquid. An interval between the first bowl and the second bowl is secluded when executing a chemical process.
摘要翻译：目的：提供一种基板处理装置，以防止第二个碗被完全隐藏在第一碗和第二碗之间的间隔而被污染，并防止化学品进入第二碗。构成：旋转头（100）旋转加载的基底。旋转头连接到旋转轴。在旋转头的圆周上布置有喷嘴支撑件（200）。通过喷嘴支撑件布置多个喷嘴（300）。第一碗（400）布置在喷嘴支架的圆周上并收集化学品。第二碗（500）布置在喷嘴支架的周围并收集冲洗液体。当执行化学过程时，第一碗和第二碗之间的间隔是隐蔽的。

5. 发明公开

KR1020120015663A 기판 처리 장치 无效
标题翻译：加工基材的装置
公开(公告)号：KR1020120015663A
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：KR1020100077954
申请日：2010-08-12
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 오세훈 , 노환익 , 김춘식
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/67034
摘要： PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to minimize an amount of contaminants which is able to be attached to a substrate by effectively discharging drug solution used for a substrate processing process. CONSTITUTION: A spin head(200) supports a substrate(W) for process progress. The spin head comprises a substrate support member(210), a supporting shaft(220), and a rotation driving(230). An injecting member(300) sprays drug solution a processed side of the substrate which is placed on the spin head. An elevating member(600) transfers the spin head to top and bottom directions. A cleaning nozzle(800) is combined in the supporting shaft of the spin head. The cleaning nozzle sprays washing solution on the lower side of the substrate support member.
摘要翻译：目的：提供一种基板处理装置，用于通过有效地排出用于基板处理过程的药物溶液来最小化能够附着到基板上的污染物的量。构成：旋转头（200）支撑用于工艺进程的基底（W）。旋转头包括衬底支撑构件（210），支撑轴（220）和旋转驱动（230）。注射构件（300）将放置在旋转头上的基底的经处理侧喷射药液。升降构件（600）将旋转头传送到顶部和底部方向。清洗喷嘴（800）组合在旋转头的支撑轴上。清洗喷嘴将洗涤液喷射到基板支撑部件的下侧。

6. 发明公开

KR1020110057679A 아이피에이 공급 장치 无效
标题翻译： IPA供应设备
公开(公告)号：KR1020110057679A
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：KR1020090114171
申请日：2009-11-24
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 오래택 , 이택엽 , 김춘식
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67034 , B05C11/1042
摘要： PURPOSE: An IPA supply device is provided to safely heat IPA processing solutions through constant temperature water by installing a heat exchanger on an arm close to a nozzle. CONSTITUTION: A nozzle is installed on a spray head unit(414) for spraying IPA processing solutions to a substrate. An arm unit(416) includes a spray head unit. A support axis(418) is installed on the arm unit and is lifted and rotated by a driving unit. A processing solution supply line supplies the IPA processing solutions to the nozzle. A heat exchanger(600) heats the IPA processing solutions by using constant temperature water.
摘要翻译：目的：提供IPA供应装置，通过在靠近喷嘴的手臂上安装热交换器，通过恒温水安全地加热IPA处理解决方案。构成：将喷嘴安装在喷头单元（414）上，用于将IPA处理溶液喷涂到基板上。臂单元（416）包括喷头单元。支撑轴（418）安装在臂单元上，并由驱动单元提升和旋转。处理溶液供应管路将IPA处理解决方案提供给喷嘴。热交换器（600）通过使用恒温水加热IPA处理溶液。

7. 发明公开

KR1020110055500A 기판 연마 장치 无效
标题翻译：基板抛光装置
公开(公告)号：KR1020110055500A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：KR1020110034681
申请日：2011-04-14
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 권오진 , 김춘식
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： B24B37/04 , H01L21/67046
摘要： PURPOSE: A substrate polishing apparatus is provided to perform a polishing process and a cleaning process in one container unit, thereby omitting a substrate transfer process between a grinding process and a cleaning process. CONSTITUTION: A substrate support member(100) supports and fixes a substrate. A substrate support unit is contained in a container unit(200). A polishing unit(300) polishes the substrate mounted on the substrate support member. A processing liquid supplying unit(400) sprays fluid used for a polishing process of the substrate onto a substrate mounted on a substrate support member. A brush unit(600) physically cleans the substrate.
摘要翻译：目的：提供一种基板抛光装置，用于在一个容器单元中执行抛光处理和清洁处理，从而省略了研磨过程和清洁过程之间的基板转印过程。构成：衬底支撑构件（100）支撑并固定衬底。基板支撑单元容纳在容器单元（200）中。抛光单元（300）抛光安装在基板支撑构件上的基板。处理液体供给单元（400）将用于基板的抛光处理的流体喷射到安装在基板支撑部件上的基板上。毛刷单元（600）物理地清洁基底。

8. 发明公开

KR1020100122705A 기판 처리 장치 有权
标题翻译：用于处理基板的装置
公开(公告)号：KR1020100122705A
公开(公告)日：2010-11-23
申请号：KR1020090041733
申请日：2009-05-13
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 안효준 , 김춘식
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/304 , H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67017
摘要： PURPOSE: An apparatus for processing a substrate is provided to improve the efficiency of liquid process by equally setting the concentration and temperature conditions of processing solutions which are finally supplied to process units. CONSTITUTION: A plurality of processing units(110) process a substrate. A distribution line(134) is connected to one of the processing units and has a supply line which distributes processing solutions to the processing unit. At least one distribution line is connected to the supply line. A pipe volume control line has a coil shape.
摘要翻译：目的：提供一种处理基板的设备，通过同时设置最终提供给处理单元的处理溶液的浓度和温度条件来提高液体处理的效率。构成：多个处理单元（110）处理基板。分配线路（134）连接到处理单元之一并具有将处理方案分配给处理单元的供应线路。至少一条分配线连接到电源线。管道体积控制线具有线圈形状。

9. 发明授权

KR100944949B1 제어유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 失效
标题翻译：控制单元和用控制单元处理基板的装置
公开(公告)号：KR100944949B1
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：KR1020070101868
申请日：2007-10-10
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 박귀수 , 김장현 , 김춘식
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명은 설비를 전기적으로 제어하는 제어유닛 및 이를 구비하여 기판을 처리하는 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 제어유닛에서 발생되는 고온의 공기를 제어유닛의 유닛몸체 측벽을 통해 배출시킨다. 따라서, 본 발명은 제어유닛의 배기시 제어유닛으로부터 배출되는 공기가 기판 처리 공정이 수행되는 유닛으로 유입되는 것을 방지하여, 기판 처리 공정의 효율을 향상시킨다.
반도체, 웨이퍼, 세정, 웨트 스테이션, 배기, 제어

10. 发明公开

KR1020090059286A 오존수혼합액 공급장치 및 방법, 그리고 이를 구비하는기판 처리 설비 有权
标题翻译：臭氧水混合物供应设备和方法，以及用设备处理废物的设施
公开(公告)号：KR1020090059286A
公开(公告)日：2009-06-11
申请号：KR1020070126055
申请日：2007-12-06
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 오래택 , 배정용 , 김춘식
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： B01F3/0876 , B01F3/088 , B01F5/0077 , B01F5/061 , B01F15/0429 , B01F2003/04886 , B01F2215/0096 , B08B2203/005 , H01L21/67017
摘要： An apparatus and a method for supplying ozonated water mixture and a substrate processing facility are provided to control the concentration of the ozonated water mixture by mixing the ozone water and a process liquid through a mixing line. An ozonated water mixture supply unit includes a process liquid supply line(32), an ozone water supply line(34) and a mixing line(36). The mixing line receives the process liquid and the ozone water from the process liquid supply line and the ozone water supply line and generates the ozonated water mixture by mixing the process liquid and the ozone water. A manifold receives the ozonated water mixture. A distribution line supplies the ozonated water mixture from the manifold to the process unit.
摘要翻译：提供用于提供臭氧水混合物的装置和方法以及基板处理设备，以通过混合线混合臭氧水和处理液来控制臭氧水混合物的浓度。臭氧水混合物供应单元包括处理液体供应管线（32），臭氧水供应管线（34）和混合管线（36）。混合线从工艺液体供应管线和臭氧水供应管路接收处理液体和臭氧水，并通过混合处理液体和臭氧水产生臭氧水混合物。歧管接收臭氧水混合物。分配线将臭氧水混合物从歧管提供给处理单元。

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