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1. 发明授权

KR100487132B1 나선형 임플란트 失效
标题翻译：螺旋植入
公开(公告)号：KR100487132B1
公开(公告)日：2005-05-03
申请号：KR1020030018745
申请日：2003-03-26
申请人： 설영택
发明人： 설영택
IPC分类号： A61C8/00 , A61C13/00
CPC分类号： A61C8/0022
摘要： 본 발명은 나선형 임플란트에 관한 것으로, 본 발명에 따른 나선형 임플란트는 나사산이 형성된 나선형 임플란트에 있어서, 상기 나사산의 나사사면은 한개 이상의 요함부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 나선형 임플란트는 매식부위와의 접촉면적을 증가시켜 임플란트의 기계적 결합력을 강화시키고 매식부위의 로드를 분산시키는 효과가 있다.

2. 发明公开

KR1020040083995A 나선형 임플란트 失效
标题翻译：螺旋形植入物可以通过抑制植入部分的应力集中来减少植入部分的生理负荷
公开(公告)号：KR1020040083995A
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：KR1020030018745
申请日：2003-03-26
申请人： 설영택
发明人： 설영택
IPC分类号： A61C8/00 , A61C13/00
CPC分类号： A61C8/0022
摘要： PURPOSE: A screw-shaped dental implant is provided which has strengthened mechanical bondability and an increased contact area between the same and an implanted portion by forming micro-patterns on a screw slope, and which reduces a physiological load applied to the implanted portion by suppressing stress concentration on the implanted portion. CONSTITUTION: The screw-shaped implant having a screw comprises: a plurality of recesses and projections formed on a slope(10a) of the screw and defined as micro-patterns(100a) having various shapes and an arbitrary number enough to increase the contact area of the slope(10a), the recesses and projections having arcuate cross-sections having the same curvature and length.
摘要翻译：目的：提供一种螺钉状牙科植入物，其通过在螺钉斜面上形成微图案而增强机械粘合性和增加其与植入部分之间的接触面积，并且通过抑制施加到植入部分的生理负荷来降低植入部分的应力集中。构成：具有螺钉的螺旋形植入体包括：形成在螺钉的斜面（10a）上的多个凹部和突起，并且被限定为具有各种形状和任意数量的微图形（100a），足以增加接触面积的斜面（10a），所述凹部和凸起具有相同曲率和长度的弓形横截面。

3. 发明公开

KR1020120013648A 임플란트용 표면금속 산화물, 이를 이용한 임플란트 또는 장치 및 그의 제조방법 有权
标题翻译：用于植入物，植入物或装置的表面金属氧化物及其制造方法
公开(公告)号：KR1020120013648A
公开(公告)日：2012-02-15
申请号：KR1020100075760
申请日：2010-08-06
申请人： 설영택
发明人： 설영택
IPC分类号： A61L27/30 , A61L27/04 , C23C8/40 , C23C8/52
CPC分类号： A61L27/30 , A61L27/04 , A61L27/306 , C23C8/40 , C23C8/52
摘要： PURPOSE: A surface metal oxides for implants is provided to have excellent osteo conductivity, and to bond to implants strongly and quickly. CONSTITUTION: A surface metal oxides for implants is combined to a metal implant or the surface of a device, and comprises the compound of chemical formula: [KMOOHCN], or the compound of chemical formula: [KMOOHCNF]. In chemical formula [KMOOHCN] and [KMOOHCNF], M is metal selected from titanium, titanium alloy, tantalum, zirconium, vanadium, molybdenum, tungsten, hafnium, iron, chrome, and nickel.
摘要翻译：目的：提供用于植入物的表面金属氧化物以具有优异的骨质导电性，并且强烈且快速地与植入物结合。构成：用于植入物的表面金属氧化物与金属植入物或器件表面结合，并且包含化学式为[KMOOHCN]的化合物或化学式：[KMOOHCNF]的化合物。在化学式[KMOOHCN]和[KMOOHCNF]中，M是选自钛，钛合金，钽，锆，钒，钼，钨，铪，铁，铬和镍的金属。

4. 发明公开

KR1020040046248A 마그네슘 티타네이트 산화막 임플란트 및 그 제조방법 有权
标题翻译：具有钛酸钡氧化物层的植入物及其制备
公开(公告)号：KR1020040046248A
公开(公告)日：2004-06-05
申请号：KR1020020074091
申请日：2002-11-26
申请人： 설영택
发明人： 설영택
IPC分类号： A61L27/06
摘要： PURPOSE: Provided is an implant having a magnesium titanate oxide layer for use in a medical field as a bio-implant material, which has improved biocompatibility and bioactivity. CONSTITUTION: The magnesium titanate implant comprises: an implant main body comprising titanium or titanium alloys; and a magnesium titanate oxide layer formed on the surface of the main body. Additionally, the implant is manufactured by the method comprising the steps of: irradiating the implant main body with UV in distilled water; dipping the UV-irradiated main body into an electrolyte solution containing magnesium; and applying a magnesium titanate oxide layer on the main body by anodic oxidation at an electric voltage of 60-500 V.
摘要翻译：目的：提供一种植入物，其具有用于医疗领域的钛酸镁氧化物层，作为生物植入材料，其具有改善的生物相容性和生物活性。构成：钛酸镁植入物包括：植入物主体，其包含钛或钛合金; 以及形成在主体的表面上的钛酸镁氧化物层。另外，通过包括以下步骤的方法制造植入物：在蒸馏水中用UV照射植入物主体; 将紫外线照射的主体浸入含镁的电解液中; 并在60-500V的电压下通过阳极氧化在主体上施加钛酸镁氧化物层。

5. 发明授权

KR101233279B1 임플란트용 표면금속 산화물, 이를 이용한 임플란트 또는 장치 및 그의 제조방법 有权
标题翻译：用于植入物，植入物或装置的表面金属氧化物及其制造方法
公开(公告)号：KR101233279B1
公开(公告)日：2013-02-14
申请号：KR1020100075760
申请日：2010-08-06
申请人： 설영택
发明人： 설영택
IPC分类号： A61L27/30 , A61L27/04 , C23C8/40 , C23C8/52
摘要： 본 발명은 하기 화학식 1 내지 5의 화합물을 포함하며 금속 임플란트 또는 장치의 표면에 형성되는 새로운 생활성 표면금속 산화물, 이를 이용한 임플란트 또는 장치 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명의 임플란트 또는 장치는 인체에 적용 시 표면에서 일어나는 생물적 분해 및 박리문제를 개선시킬 뿐만 아니라 우수한 골전도성 및 강력하고 신속한 결합력을 가짐으로써 임플란트의 성공률을 향상시킬 수 있다. 또한, 본 발명의 새로운 생활성 표면금속 산화물은 K, C, N, -CN, -OH, COOH 또는 F의 음전하 및/또는 양전하를 가지는 콜로이드화된 이온 착물이 상기 금속 임플란트 또는 장치에 증착되어 제조됨으로써 제조하는 방법을 간결화시키며 제조단가를 낮출 수 있는 이점이 있다.
화학식 1

화학식 2

화학식 3

화학식 4

화학식 5

상기 화학식 1 내지 5에서 M은 금속임.

6. 发明授权

KR100814355B1 티타네이트 산화막 임플란트의 제조 방법 및 그 방법에의해 제조되는 티타네이트 산화막 임플란트 有权
标题翻译：钛酸盐植入物和钛酸盐植入物的预处理方法
公开(公告)号：KR100814355B1
公开(公告)日：2008-03-18
申请号：KR1020070019696
申请日：2007-02-27
申请人： 주식회사 신흥엠에스티 , 설영택
发明人： 설영택
IPC分类号： A61C8/00 , A61F2/28 , B82Y5/00
CPC分类号： A61C8/0015 , A61C13/0007 , A61C13/02 , A61F2/28 , A61F2/30767 , A61F2002/30906 , A61F2310/00616 , A61K6/0235 , A61L27/306 , A61L2400/12 , A61L2400/18
摘要： A method for manufacturing a titanate oxide implant and a titanate oxide implant by the same are provided to solve a current concentrating problem by inducing even dielectric breakdown through pretreatment process of bipolar oxidation, so as to prevent chronic inflammation in tissues around the implant. A method for manufacturing a titanate oxide implant includes the steps of: a blasting process where ceramic powder within a size range of 10~300 micrometers is sprayed evenly on the surface of implant in 0.5/110sec~1/10sec of spray speed; an immersion treatment where a nano-tube is formed on the surface of implant by immersing the ceramic powder treated implant in 5~30% hydrogen peroxide solution at 30~100 deg.C, which includes additionally either 0.1~1% of sodium hydroxide solution or calcium hydroxide solution; and irradiating the implant immersed in the hydrogen peroxide solution with UV.
摘要翻译：提供了一种用于制造钛酸酯氧化物植入物和钛酸盐氧化物植入物的方法，以通过诱导通过双极氧化的预处理过程引起均匀的电介质击穿来解决电流集中问题，从而防止植入物周围的组织中的慢性炎症。制造钛酸酯氧化物植入物的方法包括以下步骤：喷射方法，其中以0.5 / 110sec〜1 / 10sec喷雾速度将10〜300微米尺寸范围内的陶瓷粉末均匀地喷涂在植入物表面上; 通过将陶瓷粉末处理的植入物浸入30〜100℃的5〜30％过氧化氢溶液中，在植入物的表面上形成纳米管的浸渍处理，其还包括0.1〜1％的氢氧化钠溶液或氢氧化钙溶液; 并用UV照射浸渍在过氧化氢溶液中的植入物。

7. 发明授权

KR100487119B1 마그네슘 티타네이트 산화막 임플란트 및 그 제조방법 有权
标题翻译：诱导性钛酸镁植入物及其制造方法
公开(公告)号：KR100487119B1
公开(公告)日：2005-05-03
申请号：KR1020020074091
申请日：2002-11-26
申请人： 설영택
发明人： 설영택
IPC分类号： A61L27/06
摘要： 본 발명은 치과, 정형외과, 악안면외과, 성형외과 등의 의료 분야에서 사용되는 생체 내 삽입을 목적으로 하는 마그네슘 티타네이트 산화막 임플란트 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 마그네슘 티타네이트 산화막 임플란트는 티타늄 또는 티타늄 합금의 표면에 마그네슘이 포함된 티타늄 산화막(마그네슘 티타네이트 산화막)이 형성되어 이루어진다. 본 발명에 따른 임플란트의 제조방법은 1) 티타늄 또는 티타늄 합금으로 구성된 임플란트 본체를 증류슈 속에서 자외선에 2시간 이상 조사하는 단계; 2) 상기 자외선에 조사된 임플란트 본체를 마그네슘이 포함된 전해질 용액에 침지하는 단계; 및 3) 60 내지 500V의 전압에서 양극 산화법에 의하여 상기 침지된 임플란트 본체에 마그네슘 티타네이트 산화막을 피복시키는 단계를 포함한다. 이러한 본 발명에 의해 양극산화법에 의해 형성된 티타늄 산화막의 생활성(bioactivity)을 증가시킨 임플란트를 제공할 수 있게 되고, 환자에게 시술되는 마그네슘 티타네이트(Ti
x Mg
y O
z ) 임플란트의 최상의 성공적 골유착(osseointegration)을 위해 최적의 마그네슘 티타네이트 (Ti
x Mg
y O
z ) 산화막 두께를 제공한다.

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