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热词
    • 1. 发明授权
    • DC기기용 전원회로
    • 直流电源电路
    • KR101797230B1
    • 2017-11-13
    • KR1020110011413
    • 2011-02-09
    • 삼성전자주식회사
    • 진현철서한솔박현수
    • H02M7/06H02M1/32
    • H02M7/062Y10S323/908
    • DC기기용전원회로가개시된다. 본발명에따른 DC기기용전원회로는제1단자와제1단자의하측에위치하는제2단자를포함하여 DC전류를입력받는입력부, 입력부를통해입력된 DC전류를출력하기위해제3단자와제3단자의하측에위치하는제4단자를포함하는출력부, 제1도선과제1도선의하측에위치하는제2도선을포함하여입력부와출력부를연결하는연결부, 제1다이오드, 제2다이오드, 제3다이오드및 제4다이오드가브리지다이오드의형태로제1단자와제2단자사이에연결되어입력된 DC전류를정류시키는정류부, 정류부와직렬연결되어 DC전류의급변시점서부터입력된 DC전류를점차증가시키는인덕터부, 인덕터부와직렬연결되어인덕터부를통과한전류에따라전압을충전하고 DC전류의급변시점서부터충전된전압을출력부측으로방전하는콘덴서부를포함한다. 따라서, 본발명에따른 DC기기용전원회로는입력 DC전류가급변하여도안전하게출력부측으로 DC전류를출력할수 있다.
    • 公开了一种用于DC装置的电源电路。 根据本发明的和用于通过输入单元,输出直流电流输入,输入接收的直流电流并且其中位于所述第一端的第二端和所述第一端部的下侧的第三端子,用于将DC机器的电源电路 第四端子连接,第一二极管,连接输入和输出部分,包括其位于所述输出部分的下侧的第二引线,该第一导线项目第一引线包括一个定位在3端子第二二极管的下侧, 第三二极管和第四二极管整流,整流部分是串联增加DC电流输入seobuteo改变DC电流的点逐渐整顿形状罗塞塔第一端子和所述直流电流输入被连接在二极管电桥的所述第二端之间 其中包括电感器部,电感器部,并且被串联连接到装有根据通过电容器部的电流流通用于排出带电seobuteo改变对输出部的直流电流的点处的电压的电压的电感器单元。 因此,对于根据本发明的一个直流电机的电源电路能够输出的输入直流电流变化部hayeodo安全输出的直流电流侧。
    • 2. 发明授权
    • 디씨기기용 플러그
    • 插入DC设备
    • KR101737052B1
    • 2017-05-18
    • KR1020110011412
    • 2011-02-09
    • 삼성전자주식회사성균관대학교산학협력단
    • 진현철서한솔박현수이병국전준영
    • H01R13/53H01R13/04H01R13/66H01R24/28H01R103/00
    • H01R24/28H01R13/6666H01R2103/00
    • DC기기용플러그가개시된다. 본발명에따른 DC기기용플러그는콘센트에삽입되는양극단자와음극단자를포함하여 DC전류를입력받는입력부, 입력부를통해입력된 DC전류를전기기기로출력하도록양극단자와음극단자를포함하는출력부, 입력부와출력부사이를연결하기위해양극전선과음극전선을포함하는연결부,입력부의양극단자와음극단자사이에연결되어입력된 DC전류를정류하는정류부,정류부와직렬연결되어입력되는 DC전류의증가시플러그내부전류를점차증가시키는인덕터부; 및인덕터부와직렬연결되어인덕터부를통과한전류에따라전압을충전하고입력부로부터의 DC전류입력이중단되면충전된전압을출력부로방전하는콘덴서부를포함한다. 따라서, 본발명에따른 DC기기용플러그는간단한회로의구성만으로도전기기기, 플러그및 도선의내구성이증가될수 있고사용자측면에서도안전하게 DC전류를이용할수 있게한다.
    • 公开了用于DC设备的插头。 根据本发明插头直流电机中,输出包括一个正端子和负端子,以输出一个直流电流通过输入时,包括正端子和被插入插座的输入单元,用于接收DC电流的负端,输入到所述电动机 在输入和输出副连接部,保持部的部件,直流电流精馏段是串联在输入用于整流耦合在负输入正端子和负端子的输入之间的DC电流包括正极导线及负极导线,以便连接它们 电感单元,用于在增加时逐渐增加插头内部电流; 和充电根据电流通过的电压时,停止从用于排出充电电压到所述输出电容器的输入单元的DC电流输入的电感器连接在与所述电感器单元系列。 因此,根据本发明的用于直流设备的插头可以是只有一个简单的电路结构提高了电机的耐用性,插头和电线将能够使用,并允许DC电流安全地在用户侧。
    • 3. 发明授权
    • 직류 전원 장치
    • KR101861728B1
    • 2018-05-30
    • KR1020120011427
    • 2012-02-03
    • 삼성전자주식회사성균관대학교산학협력단
    • 진현철김선진서한솔신승민이병국전준영
    • H01M10/48G01R19/00H02J7/00
    • G05F5/00H02H11/002
    • 본발명은외부의직류전원을입력받는입력부; 외부의직류전원의극성을정정하는복수의극성정정부; 복수의극성정정부와각각대응하여설치되는복수의스위치부; 복수의극성정정부의전류흐름을검출하는검출부; 검출부로부터전송된검출신호에기초하여직류전원의전류가흐르는극성정정부를판단하고, 판단된극성정정부에대응되는스위치부를온 제어하여직류전원의전류가온 제어된스위치부를통해흐르도록하는제어부를포함한다. 본발명은제1, 2 단자에연결된직류전원의극성에따라전류의경로를변경함으로써제1, 2 단자에정해진극성이아닌다른극성의직류전원이인가되어도정상극성의직류전원을부하에인가할수 있다. 이에따라직류전원을입력으로하는전기기기의안정성과효율성을높일수 있고또한전기기기의신뢰성을확보할수 있다. 또한외부의직류전원을부하에인가시 다이오드를통해직류전원을인가한후 스위치부를온 구동시켜스위치부를통해직류전원을인가함으로써다이오드의전압강하에의한손실및 다이오드의내부저항에의한손실을줄 일수 있다. 이에따라전기기기의전력손실을줄 일수 있다.
    • 5. 发明公开
    • 웨이퍼 지지용 서셉터를 구비하는 반도체 소자 제조 장치
    • 半导体器件制造设备具有支撑波形的SUSCEPTOR
    • KR1020040028267A
    • 2004-04-03
    • KR1020020059414
    • 2002-09-30
    • 삼성전자주식회사
    • 진현철
    • H01L21/205
    • PURPOSE: Semiconductor device manufacturing equipment having a susceptor for supporting wafer is provided to be capable of reducing the maintenance cost of the equipment and preventing the generation of product failure due to the malfunction of the equipment. CONSTITUTION: Semiconductor device manufacturing equipment is provided with a reaction chamber for carrying out predetermined processes, a susceptor(112) installed at the inner portion of the reaction chamber for supporting a wafer, and a pneumatic distribution assembly(120) installed at the outer portion of the reaction chamber for controlling the vacuum pressure applied to the susceptor and the volume of fluid supplied to the susceptor. At this time, the pneumatic distribution assembly includes a plurality of ports.
    • 目的:提供具有用于支撑晶片的基座的半导体器件制造设备,以能够降低设备的维护成本并防止由于设备故障而产生的产品故障。 构成:半导体装置制造装置设置有用于进行预定处理的反应室,安装在用于支撑晶片的反应室内部的基座(112)和安装在外部的气动分配组件(120) 的反应室,用于控制施加到基座的真空压力和供应到基座的流体的体积。 此时,气动分配组件包括多个端口。
    • 6. 发明公开
    • 안테나 장치 및 그것을 포함하는 전자 장치
    • 天线和电子设备
    • KR1020170019846A
    • 2017-02-22
    • KR1020150114252
    • 2015-08-13
    • 삼성전자주식회사
    • 김민석진현철박성원박성철
    • H01Q1/24H01Q1/48H01Q1/52H04M1/02
    • H01Q1/243H01Q1/245H01Q1/50H01Q5/364H01Q9/0421H01Q13/103
    • 다양한실시예에따르면, 하우징과, 상기하우징의일부를형성하거나, 상기하우징의내부에적어도일부배치된제 1 도전성부재(a first conductive member)와, 상기하우징의다른일부를형성하는제 2 도전성부재로서, 상기제 1 도전성부재의일부분에인접하여배치된부분을포함하는제 2 도전성부재와, 상기제 1 도전성부재의일부분과상기제 2 도전성부재의일부사이에배치된비도전성부재와, 상기제 1 도전성부재및 제 2 도전성부재사이에연결된정전식 (capacitive) 연결(coupling) 구조와, 상기제 1 도전성부재에전기적으로연결된통신회로및 상기제 1 도전성부재에전기적으로연결된센서를포함하는것을특징으로하는전자장치를제공할수 있다. 다양한실시예들이가능하다.
    • 根据各种实施例,提供一种电子设备,包括:壳体; 第一导电构件,其形成所述壳体的一部分并且至少部分地设置在所述壳体内; 第二导电构件,其形成所述壳体的另一部分,并且包括邻近所述第一导电构件的一部分设置的部分; 设置在所述第一导电构件的所述部分和所述第二导电构件的一部分之间的非导电构件; 耦合在所述第一导电构件和所述第二导电构件之间的电容耦合结构; 电连接到第一导电构件的通信电路; 以及电耦合到所述第一导电构件的传感器。 可以进行各种其它实施例。
    • 7. 发明公开
    • DC기기용 전원회로
    • 直流电器电路
    • KR1020120091571A
    • 2012-08-20
    • KR1020110011413
    • 2011-02-09
    • 삼성전자주식회사
    • 진현철서한솔박현수
    • H02M7/06H02M1/32
    • H02M7/062Y10S323/908H02M2001/322
    • PURPOSE: A power circuit for a DC appliance is provided to return the residual current at the time of cut off of DC current to an output part by arranging a rectifier unit and a condenser unit. CONSTITUTION: An input part(110) comprises a first terminal and a second terminal located under the first terminal. A connecting part(130) includes first and second wires for connecting the input part to an output part(120). The connecting part is connected to a rectifier part(140), an inductor part(150), and a condenser part(160). The rectifier part has a bridge diode structure including first to fourth diodes. The inductor part comprises an inductor serially connected to the rectifier part. The condenser part comprises a condenser serially connected to the inductor part.
    • 目的:提供直流电器的电源电路,通过布置整流器单元和冷凝器单元,将截止直流电流时的剩余电流返回到输出部分。 构成:输入部分(110)包括位于第一端子下方的第一端子和第二端子。 连接部分(130)包括用于将输入部分连接到输出部分(120)的第一和第二导线。 连接部分连接到整流器部分(140),电感器部分(150)和冷凝器部分(160)。 整流器部分具有包括第一至第四二极管的桥二极管结构。 电感器部分包括串联连接到整流器部分的电感器。 电容器部分包括串联连接到电感器部分的电容器。
    • 10. 发明公开
    • 자동 세척장치를 갖는 화학 기상 증착 장치
    • 具有自动清洗装置的化学气相沉积系统
    • KR1020020083562A
    • 2002-11-04
    • KR1020010022936
    • 2001-04-27
    • 삼성전자주식회사
    • 진현철
    • H01L21/205
    • PURPOSE: A CVD(Chemical Vapor Deposition) system is provided to easily and automatically remove particles existing in a wafer intake and a vacuum intake without disassembling and reassembling by installing an inert gas supply part in the vacuum intake. CONSTITUTION: The CVD system(11) comprises a wafer holder(5) having a plurality of vacuum holes(150), a chamber(10), a gas inlet(13), a wafer intake(101) including a tube(140), a filter(130) and a valve(120), and a vacuum intake(201) including a tube(240), a filter(230) and a valve(220). The wafer intake(101) further includes an inert gas supply part(160) connected to the tube(140) between the filter(130) and the valve(120), a subsidiary tube(141), and a subsidiary valve(121). Also, the vacuum intake(201) further includes an inert gas supply part(260), a subsidiary tube(241) and a subsidiary valve(221).
    • 目的:提供CVD(化学气相沉积)系统,以便通过在真空入口中安装惰性气体供应部件来轻松自动地去除存在于晶片进料和真空进样器中的颗粒,而无需拆卸和重新组装。 构成:CVD系统(11)包括具有多个真空孔(150)的晶片保持器(5),室(10),气体入口(13),包括管(140)的晶片进料口(101) ,过滤器(130)和阀(120)以及包括管(240),过滤器(230)和阀(220)的真空入口(201)。 晶片进料(101)还包括在过滤器(130)和阀(120)之间连接到管(140)的惰性气体供应部分(160),辅助管(141)和辅助阀(121) 。 此外,真空吸入口(201)还包括惰性气体供给部(260),辅助管(241)和辅助阀(221)。