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    • 3. 发明公开
    • 반도체 기억소자의 퓨즈 영역
    • 半导体存储器件的保险丝区域
    • KR1020060099314A
    • 2006-09-19
    • KR1020050020690
    • 2005-03-11
    • 삼성전자주식회사
    • 이원철
    • H01L21/82
    • H01L23/5258
    • 퓨즈 및 방습장벽을 갖는 반도체소자의 퓨즈 영역을 제공한다. 상기 퓨즈 영역은 반도체 기판 상에 하부 층간절연막을 포함한다. 상기 하부 층간절연막 상에 서로 이격된 제1 및 제2 하부배선들이 배치된다. 상기 제1 및 제2 하부 배선들 및 상기 하부 층간절연막을 갖는 상기 반도체 기판 상에 중간 층간절연막이 배치된다. 상기 중간 층간절연막 상에 차례로 적층된 상부 층간절연막, 하부 금속 층간절연막 및 상부 금속 층간절연막이 배치된다. 상기 상부 층간절연막 또는 상기 하부 금속 층간절연막 상에 상기 제1 및 제2 하부 배선들에 전기적으로 접속된 양 단들을 갖는 퓨즈가 배치된다. 적어도 상기 중간 층간절연막, 상기 상부 층간절연막, 상기 하부 금속층간절연막 및 상기 상부 금속층간절연막을 관통하고 상기 퓨즈를 둘러싸는 방습장벽이 배치된다. 상기 방습장벽은 상기 제1 및 제2 하부 배선들과 전기적으로 절연된다.
      리페어공정, 리던던트 셀, 퓨즈, 방습장벽
    • 5. 发明公开
    • 불휘발성 메모리 장치 및 그것의 데이터 처리 방법
    • 非易失性存储器件及其数据处理方法
    • KR1020140104189A
    • 2014-08-28
    • KR1020130018066
    • 2013-02-20
    • 삼성전자주식회사
    • 정다운윤정호김민철서영일이원철
    • G06F12/00G06F13/14G11C16/06
    • G06F11/1666G06F11/073G06F11/0751G06F12/0246G06F2212/7202G11C29/76
    • The present invention relates to a nonvolatile memory device and a data processing method thereof. According to the present invention, the nonvolatile memory device receives data requested to be written and a logical address thereof from a host. The nonvolatile memory device includes a nonvolatile memory which includes a memory block consisting of a plurality of pages; and a controller which controls the nonvolatile memory to write the data requested to be written in the memory block, wherein when a part of the pages is the bad pages, the controller maps the logical address of the data requested to be written to a physical address of the nonvolatile memory such that the data requested to be written can be written in an area except bad pages, with reference to a bad page map, and wherein the controller controls the nonvolatile memory to write dummy data in the bad pages when a writing operation of the data requested to be written is performed. According to the present invention, the nonvolatile memory device and the data processing method thereof can improve lifetime and accuracy by managing lifetime in page units.
    • 非易失性存储器件及其数据处理方法技术领域本发明涉及非易失性存储器件及其数据处理方法。 根据本发明,非易失性存储装置从主机接收请求写入的数据及其逻辑地址。 非易失性存储器件包括非易失性存储器,其包括由多页构成的存储块; 以及控制器,其控制非易失性存储器将请求写入的数据写入存储器块中,其中当一部分页面是坏页面时,控制器将请求写入的数据的逻辑地址映射到物理地址 的非易失性存储器,使得要写入的数据可以被写入除了坏页面之外的区域,参考不良页面映射,并且其中当写入操作时,控制器控制非易失性存储器将伪数据写入坏页面 执行要被写入的数据。 根据本发明,非易失性存储器件及其数据处理方法可以通过以页面单位管理寿命来提高寿命和精度。
    • 10. 发明公开
    • 반도체 소자
    • 半导体器件
    • KR1020170103243A
    • 2017-09-13
    • KR1020160025770
    • 2016-03-03
    • 삼성전자주식회사
    • 박동식이원철
    • H01L21/768H01L21/02
    • H01L21/3003H01L21/76816H01L21/76849H01L21/76852H01L23/485H01L23/522H01L23/5226H01L23/528H01L23/5329H01L27/10894H01L28/90H01L29/34
    • 본발명에서는반도체소자가개시된다. 본발명의일 실시예에따른반도체소자는기판; 상기기판상에형성되고수소이온을포함하고있는수소제공절연층; 상기기판상에형성되고제1 배선및 제2 배선을포함하는제1 레벨층; 제3 배선을포함하고, 상기기판으로부터상기제1 레벨층과다른레벨에형성되는제2 레벨층; 상기제1 레벨층과상기제2 레벨층사이에형성되는층간절연막; 상기제3 배선과접하도록형성되는확산방지층; 상기층간절연막을관통하여상기제2 배선및 상기제3 배선을전기적으로연결하는콘택플러그; 및상기층간절연막을관통하여상기제1 레벨층및 제2 레벨층과접촉하고, 상기확산방지층과이격되며, 수소이온의이동경로를제공하는더미콘택플러그를포함한다.
    • 本发明公开了一种半导体器件。 根据本发明实施例的半导体器件包括:衬底; 在衬底上形成并含有氢离子的氢供应绝缘层; 第一级层,形成在所述基板上并且包括第一布线和第二布线; 第二层级,其包括第三布线并且在与所述第一层级不同的水平处形成于所述衬底; 层间绝缘层,形成在第一层和第二层之间; 形成为与第三布线接触的扩散防止层; 接触插塞,通过层间绝缘膜电连接第二布线和第三布线; 以及通过层间绝缘膜与第一层和第二层接触并且与扩散防止层间隔开并提供用于传输氢离子的路径的伪接触插塞。