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1. 发明公开

KR1019990010761A 디퓨져를 이용하는 반도체 장치 제조 장치 无效
标题翻译：使用扩散器的半导体器件制造设备
公开(公告)号：KR1019990010761A
公开(公告)日：1999-02-18
申请号：KR1019970033636
申请日：1997-07-18
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 안상엽
IPC分类号： H01L21/20
摘要： 디퓨져(diffuser)를 이용하는 반도체 장치 제조 장치를 개시한다. 본 발명은 척부와 상기 척부에 대향되게 도입되는 디퓨져를 포함한다. 또한 상기 디퓨져를 냉각시키며 상기 디퓨져의 내부가 격막에 의해서 분할되어 형성된 다수의 냉각 라인을 포함한다. 이때, 다수의 냉각 라인은 상기 격막에 의해서 동심원 형태로 상기 디퓨져의 내부가 분할되어 형성된다. 또한, 상기 척부 및 디퓨져를 내포하는 챔버를 포함한다.

2. 发明公开

KR1019970072055A 반도체 제조 장비의 웨이퍼트레이 无效
标题翻译：半导体制造设备的晶圆托盘
公开(公告)号：KR1019970072055A
公开(公告)日：1997-11-07
申请号：KR1019960012519
申请日：1996-04-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 안상엽
IPC分类号： H01L21/205
摘要： 반도체 제조장비의 웨이퍼 트레이가 개시되어 있다. 본 발명은 평평한 패널과, 상기 패널의 한 쪽 면의 소정 영역에 웨이퍼가 놓여지도록 일정 직경 및 일정 깊이를 갖는 원형의 포케트 영역과, 상기 포케트 영역의 바닥을 관통하는 적어도 3개 이상의 구멍과, 상기 포케트 영역의 중심을 지나는 직경이 연장된 일직선 상에 위치하고, 상기 포케트 영역과 연결되면서 그 주변부에 일정 폭, 일정 길이 및 상기 일정 깊이 이상의 깊이를 갖는 복수의 홈을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 웨이퍼 트레이를 제공한다. 본 발명에 의하면, 웨이퍼의 중심과 포케트 영역의 중심이 일치하도록 웨이퍼를 로딩시킬 수 있다. 따라서, 웨이퍼를 로딩시키거나 언로딩시킬 때 웨이퍼가 손상되는 현상을 방지할 수 있다.

3. 发明公开

KR1020080026746A 증착 챔버 세정 방법 无效
标题翻译：清洗沉积室的方法
公开(公告)号：KR1020080026746A
公开(公告)日：2008-03-26
申请号：KR1020060091691
申请日：2006-09-21
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 배병재 , 박영림 , 안상엽 , 조성래 , 이진일 , 박혜영 , 임지은
IPC分类号： H01L21/02
摘要： A method for cleaning a deposition chamber is provided to improve operational efficiency of deposition equipment and to secure a stable process condition by reducing a cleaning process time. A wafer unloading process is performed to unload a wafer from a chamber for performing a deposition process under a predetermined deposition condition(10). A cleaning gas supply process is performed to supply a cleaning gas into the chamber without causing a change of deposition temperature and a change of process atmosphere(20). An excitation process is performed to excite the cleaning gas within the chamber(30). A reactant exhausting process is performed to exhaust a reactant by inducing a reaction between the excited cleaning gas and a deposit within the chamber(40).
摘要翻译：提供了用于清洁沉积室的方法，以提高沉积设备的操作效率并通过减少清洗处理时间来确保稳定的工艺条件。执行晶片卸载处理以在预定沉积条件（10）下从用于执行沉积工艺的室中卸载晶片。执行清洁气体供应过程以将清洁气体供应到室中而不引起沉积温度的改变和处理气氛的变化（20）。执行激发过程以激发腔室（30）内的清洁气体。通过引发被激发的清洁气体与室（40）内的沉积物之间的反应来进行反应物排出过程以排出反应物。

4. 发明授权

KR100475017B1 반도체 장치의 제조설비에 있어서의 서셉터 및 그 제조방법 失效
标题翻译：半导体器件制造设备中的基座及其制造方法
公开(公告)号：KR100475017B1
公开(公告)日：2005-05-27
申请号：KR1019970069971
申请日：1997-12-17
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 안상엽
IPC分类号： H01L21/00
摘要： 본 발명은 반도체 장치의 제조설비중 서셉터에 관해 개시한다. 본 발명의 서셉터는 웨이퍼가 로딩되는 면과 반대되는 백 사이드에 다양한 형태의 홈을 구비하고 있다. 이러한 형태의 서셉터는 히트 블록으로부터 웨이퍼로 열전달 균일성을 높인다. 이에 따라, 웨이퍼의 전면에 걸쳐 균일한 두께로 박막을 형성할 수 있다. 또한, 본 발명에 의한 서셉터의 재질은 아몰퍼스 카본이다. 따라서, 불산을 이용한 화학적 세정에 의해 서셉터가 손상되어 특성이 저하되는 것을 방지할 수 있다.

5. 发明公开

KR1019980011736A 반도체 제조장치의 진공라인 无效
标题翻译：半导体制造设备的真空线
公开(公告)号：KR1019980011736A
公开(公告)日：1998-04-30
申请号：KR1019960031087
申请日：1996-07-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 안상엽
IPC分类号： H01L21/18

6. 发明公开

KR1019990050788A 반도체 장치의 제조설비에 있어서의 서셉터 및 그 제조방법 失效
公开(公告)号：KR1019990050788A
公开(公告)日：1999-07-05
申请号：KR1019970069971
申请日：1997-12-17
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 안상엽
IPC分类号： H01L21/00
摘要： 본 발명은 반도체 장치의 제조설비중 서셉터에 관해 개시한다. 본 발명의 서셉터는 웨이퍼가 로딩되는 면과 반대되는 백 사이드에 다양한 형태의 홈을 구비하고 있다. 이러한 형태의 서셉터는 히트 블록으로부터 웨이퍼로 열전달 균일성을 높인다. 이에 따라, 웨이퍼의 전면에 걸쳐 균일한 두께로 박막을 형성할 수 있다. 또한, 본 발명에 의한 서셉터의 재질은 아몰퍼스 카본이다. 따라서, 불산을 이용한 화학적 세정에 의해 서셉터가 손상되어 특성이 저하되는 것을 방지할 수 있다.

7. 发明公开

KR1019990027893A 서셉터를 구비한 반도체 제조 장치 无效
标题翻译：一种具有基座的半导体制造设备
公开(公告)号：KR1019990027893A
公开(公告)日：1999-04-15
申请号：KR1019970050423
申请日：1997-09-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 안상엽 , 이기영
IPC分类号： H01L21/02
摘要： 캡(cap)이 AHPF로 코팅되어 있는 서셉터를 구비한 반도체 제조 장치에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 반도체 제조 장치는 웨이퍼를 지지하는 서셉터를 구비하고, 상기 서셉터는 알루미늄 위에 애노다이징 코팅(anodizing coating) 처리되어 구성되고, 상기 서셉터 상부에 착탈 가능하게 설치된 AHPF 소재로 이루어진 캡을 더 포함한다.

8. 发明公开

KR1020110092046A 모세관 노즐을 포함하는 마이크로어레이 프로브 합성 장치 및 이를 이용한 마이크로어레이 프로브 합성 방법 无效
标题翻译：包含毛细喷嘴的微波探针合成装置和使用其合成微阵列探针的方法
公开(公告)号：KR1020110092046A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：KR1020100011474
申请日：2010-02-08
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김명순 , 정성욱 , 지성민 , 안상엽
IPC分类号： C12M1/00 , B05B17/00 , G01N33/48
CPC分类号： C40B60/14 , B01J19/0046 , B01J2219/0036 , B01J2219/00367 , B01J2219/00373 , B01J2219/00484 , B01J2219/00659 , B01J2219/00686 , B01L3/0262 , B01L3/0268 , B01L2300/0819 , B01L2400/022 , B01L2400/0406 , B01L2400/0487
摘要： PURPOSE: A microarray probe synthesis apparatus having a capillary nozzle is provided to effectively synthesize microarray probes. CONSTITUTION: A microarray probe synthesis apparatus(1) comprises: a fixing part(10) for fixing a substrate; and a liquid sprayer(30) having a capillary nozzle(300) and a support(310). The surface(312) of the support is separated from the fixing part and is movably placed to the top or bottom. A liquid container contains a solution containing biochemical substances necessary for a microarray probe synthesis. The biochemical substance is a nucleotide or peptide molecule. The capillary nozzle is made of glass, quartz, Teflon, and chemical resistant polymer.
摘要翻译：目的：提供具有毛细管喷嘴的微阵列探针合成装置，以有效地合成微阵列探针。构成：微阵列探针合成装置（1）包括：用于固定基板的固定部分（10）; 和具有毛细喷嘴（300）和支撑件（310）的液体喷雾器（30）。支撑体的表面（312）与固定部分分离并且可移动地放置在顶部或底部。液体容器包含含有微阵列探针合成所必需的生物化学物质的溶液。生化物质是核苷酸或肽分子。毛细管喷嘴由玻璃，石英，特氟隆和耐化学性聚合物制成。

9. 发明公开

KR1020060123812A 밸브 시스템 无效
标题翻译：阀门系统
公开(公告)号：KR1020060123812A
公开(公告)日：2006-12-05
申请号：KR1020050045389
申请日：2005-05-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 안상엽
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205
摘要： A valve system is provided to exhaust smoothly a process source in a closing state thereof by forming an inflow port, an outflow port, and a bypass port thereto. A valve housing(132) is installed at a fluid tube line for connecting a process chamber and a fluid supply unit to each other. The valve housing includes an inflow port(134) for receiving fluid from the fluid supply unit, an outflow port(136) for supplying the fluid to the process chamber, and a bypass port(138) for bypassing the fluid to the inflow port. A connecting part is installed in the valve housing in order to connect selectively the inflow port, the outflow, and the bypass port.
摘要翻译：提供一种阀系统，通过在其中形成流入口，流出口和旁通端口，使其在关闭状态下平稳地排出处理源。阀壳体（132）安装在用于将处理室和流体供应单元彼此连接的流体管线处。阀壳体包括用于从流体供应单元接收流体的流入端口（134），用于将流体供应到处理室的流出端口（136）和用于将流体旁路到流入端口的旁路端口（138）。连接部安装在阀壳体中，以便选择性地连接流入口，流出口和旁通端口。

10. 实用新型

KR200129797Y1 반도체 제조장치에 사용되는 탑 플레이트 失效
标题翻译：顶级薄膜半导体器件
公开(公告)号：KR200129797Y1
公开(公告)日：1999-02-01
申请号：KR2019950021713
申请日：1995-08-22
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 안상엽
IPC分类号： H01L21/3205
摘要： 본 고안은 반도체 제조장치에 사용되른 탑 플레이트에 관한 것으로,특히 오링 홈을 갖는 탑 플레이트에 관해 개시한다.
본 고안의 탑 플레이트는 탑 플에이트 중앙의 가스유입구, 상기가스유입구 좌,우에 대칭으로 형성되어 탑 플레이트의 이상유무를 검사하도록 일정한 간격을 갖는 제1 구멍, 상기 가스유입구 좌,우에서 상기 제1 구멍사이에 형성된 그 둘레에 오 링을 갖는 제2 구멍, 상기가스유입구의 좌,우에 대칭적으로 형성되고 탑 플에이트의 양단가장자리에 형성된 제3 구멍 및 탑 플레이트를 챔버에 고정시키는복수개의 나사 구멍을 구비하는 반도체장치의 탑 플레이트에 있어서, 상기 제2 구멍은 오 링을 고정시키는 오링 홈을 그 둘레에 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 고안에 의하면 상기 본 고안은 탑 플레이트에 오링 홈을구비함으로써, 오링을 홈에 고정시킬 수 있고 따라서 외부장치를 반응챔버에 연결할 때마다 발생하는 오링의 튀김(chiping) 및 튀김에 의한 탑 플레이트에 스크레치 (scratch) 등을 막을 수 있다. 또한 오 링이 고정됨으로서, 반응챔버로부터의 반응가스 및 냉각수의 누설(leak)을방지할 수 있다.

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