专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR101261632B1 가접착 심지를 제조하기 위한 방법 有权
标题翻译：制造铁联接线的方法和获得的铁电连接
公开(公告)号：KR101261632B1
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：KR1020050042303
申请日：2005-05-20
申请人： 레니에르 드 피카르디 베쎄
发明人： 르빼브르,장 , 라브르,프랑소아 , 르우아르네,이브
IPC分类号： B32B5/02 , D04H1/58 , D06Q1/12
CPC分类号： D06M17/00 , D06M10/008 , D06M17/08
摘要： 가접착심지(iron-on interlining)를제조하는방법은직물또는부직물(woven or non-woven fabric, 2)의표면에직접점들(spots)을침적시키기위한실크스크린인쇄(silkscreen printing)에존재하며, 상기얼룩들은하층(underlayer, 3a)에상기핫-스틱중합체(hot-stick polymer)의외층(outer layer, 3b)을침적시킬때 그리고상기핫-스틱중합체를상기보호용하층(protective underlayer, 3a)위에녹이기위해상기직물(2)을열처리(heat treatment) 할때, 보호용하층을형성하는중합체이다. 상기하층(3a)을형성하는중합체는경화될수 없는, 그러나전자충격(electron bombardment)을가함으로써경화될수 있든중합체이고, 또한그것은상기외층(3b)의핫-스틱중합체의구조와양립될수 있는중합체구조(polymeric structure)이다. 열처리이후에, 상기심지(2)는상기하층(3a)의중합체를경화시키기위해복사(irradiation), 특히전자충격의작용을받게된다. 상기하층(3a)의중합체및 상기외층(3b)의중합체는바람직하게는코폴리아미드(copolyamide) 또는폴리에틸렌(polyethylene)으로만들어진상기와동일한중합체구조를갖는다.

2. 发明公开

KR1020060048034A 가접착 심지를 제조하기 위한 방법 有权
标题翻译：制造铁联接线的方法和获得的铁电连接
公开(公告)号：KR1020060048034A
公开(公告)日：2006-05-18
申请号：KR1020050042303
申请日：2005-05-20
申请人： 레니에르 드 피카르디 베쎄
发明人： 르빼브르,장 , 라브르,프랑소아 , 르우아르네,이브
IPC分类号： B32B5/02 , D04H1/58 , D06Q1/12
CPC分类号： D06M17/00 , D06M10/008 , D06M17/08
摘要： 아이언온 심지(iron-on interlining)를 제조하는 방법은 직물 또는 부직물(woven or non-woven fabric, 2)의 표면에 직접 점들(spots)을 침적시키기 위한 실크스크린 인쇄(silkscreen printing)에 존재하며, 상기 얼룩들은 하층(underlayer, 3a)에 상기 핫-스틱 중합체(hot-stick polymer)의 외층(outer layer, 3b)을 침적시킬 때 그리고 상기 핫-스틱 중합체를 상기 보호용 하층(protective underlayer, 3a)위에 녹이기 위해 상기 직물(2)을 열처리(heat treatment) 할 때, 보호용 하층을 형성하는 중합체이다. 상기 하층(3a)을 형성하는 중합체는 경화될 수 없는, 그러나 전자 충격(electron bombardment)을 가함으로써 경화될 수 있든 중합체이고, 또한 그것은 상기 외층(3b)의 핫-스틱 중합체의 구조와 양립될 수 있는 중합체 구조(polymeric structure)이다. 열처리 이후에, 상기 심지(2)는 상기 하층(3a)의 중합체를 경화시키기 위해 복사(irradiation), 특히 전자 충격의 작용을 받게 된다. 상기 하층(3a)의 중합체 및 상기 외층(3b)의 중합체는 바람직하게는 코폴리아미드(copolyamide) 또는 폴리에틸렌(polyethylene)으로 만들어진 상기와 동일한 중합체 구조를 갖는다.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式