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1. 发明授权

KR102092336B1 포토레지스트 박리액 조성물 有权
公开(公告)号：KR102092336B1
公开(公告)日：2020-03-23
申请号：KR1020130163562
申请日：2013-12-26
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이유진 , 고경준 , 김성식
IPC分类号： G03F7/42

2. 发明授权

KR102009532B1 레지스트 박리액 조성물 有权
公开(公告)号：KR102009532B1
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：KR1020130101154
申请日：2013-08-26
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 김정현 , 고경준 , 김성식
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/027 , G02F1/13

3. 发明授权

KR101936938B1 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법 有权
公开(公告)号：KR101936938B1
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：KR1020120125212
申请日：2012-11-07
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이유진 , 고경준 , 김성식
IPC分类号： C11D11/00 , C11D3/43 , C11D3/30 , G03F7/42

4. 发明授权

KR101880308B1 ＴＦＴ 제조용 레지스트 박리제 조성물 및 이를 이용한 ＴＦＴ의 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101880308B1
公开(公告)日：2018-07-19
申请号：KR1020120055638
申请日：2012-05-24
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 김정현 , 고경준 , 김성식
IPC分类号： G03F7/42 , C11D7/32 , C11D7/50 , C11D11/00 , H01L21/027 , H01L29/49
摘要： 본발명은 (a) 실란올화합물; (b) 알칸올아민; (c) 다가알콜을배제한수용성극성용매; 및 (d) 부식방지제를포함하는것을특징으로하는 TFT 제조용포토레지스트박리제조성물에관한것이다. 본발명은 TFT 제조용포토레지스트박리제조성물에의하여포토레지스트를박리하는공정을포함하는것을특징으로하는 TFT의제조방법에관한것이다.

5. 发明授权

KR101805188B1 폴리이미드 제거용 세정제 조성물 有权
标题翻译：用于去除聚酰亚胺的清洁剂组合物
公开(公告)号：KR101805188B1
公开(公告)日：2017-12-06
申请号：KR1020100128633
申请日：2010-12-15
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 홍헌표 , 이유진 , 고경준
IPC分类号： C11D7/32 , G02F1/13
摘要： 본발명은조성물총 중량에대하여, (A) 하기화학식 1로표시되는제4급암모늄수산화물 0.1~10 중량%; (B) 글리콜에테르계화합물 50~90 중량%; (C) 글리세린 5~20 중량%; (D) 당류및 당알코올류중에서선택되는 1종이상 0.01~8 중량%; (E) 아졸계화합물 0.01~5 중량%; 및 (F) 잔량의물을포함하는폴리이미드제거용세정제조성물을제공한다: [화학식 1] [N-(R)]·OH상기식에서, R은탄소수 1~5의알킬기이다.
摘要翻译：（A）0.1〜10重量％的下述式（1）所示的氢氧化季铵盐。（B）50〜90重量％的二醇醚化合物; （C）5至20重量％的甘油; （D）0.01-8重量％的选自糖和糖醇中的至少一种; （E）唑类化合物0.01〜5重量％并且（F）剩余量的水。[式1] [N-（R）] .OH其中R是具有1至5个碳原子的烷基。

6. 发明公开

KR1020170021587A 레지스트 박리액 조성물 审中-实审
标题翻译：抵抗剥离剂溶液组成
公开(公告)号：KR1020170021587A
公开(公告)日：2017-02-28
申请号：KR1020150116162
申请日：2015-08-18
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 최한영 , 고경준 , 이유진
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/02
摘要： 본발명은레지스트박리액조성물에관한것으로, 보다상세하게는에탄올아민, 화학식 1로표시되는아마이드및 벤젠고리에 2개이상의치환기를갖는벤조트리아졸계부식방지제를포함함으로써, 우수한박리력을나타내면서이와동시에하부금속배선, 절연막에대한부식은최소화할 수있고, 경시안정성이우수하여자체반응에의한레지스트박리력저하, 부산물생성등의문제점을근본적으로억제할수 있는레지스트박리액조성물에관한것이다.
摘要翻译：本发明中，通过包括具有为基于苯并三唑的缓蚀剂，更具体地，在胺，酰胺，和苯环的两个或多个取代基的由式（1）根据该抗蚀剂剥离剂组合物来表示，而在同一时间表现出优异的剥离强度底层金属布线的腐蚀，绝缘膜可被最小化，但对抗蚀剂剥离力减小时间yiwoosu稳定性，抗蚀剂可以从根本上抑制到一个问题，例如作为副产物由反应本身产生剥离剂组合物。

7. 发明公开

KR1020170002930A 스트리퍼 폐액을 재생하는 방법 审中-实审
标题翻译：废汽提器的回收过程
公开(公告)号：KR1020170002930A
公开(公告)日：2017-01-09
申请号：KR1020150092879
申请日：2015-06-30
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 최한영 , 김성식 , 고경준
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/02
摘要： 본발명은스트리퍼폐액재생방법에관한것으로, 스트리퍼폐액으로부터용제및 아민류를증류하여재사용함에있어, 산소제거제를첨가한후 증류함으로써스트리퍼폐액을증류할때 발생하는암모니아및 아미노산의발생을억제하여악취및 구리배선의부식을방지할수 있는특징이있다.

8. 发明公开

KR1020160059634A 레지스트 박리액 조성물 및 이를 이용한 레지스트의 박리방법 审中-实审
标题翻译：抗剥离剂组合物和使用其剥离抗蚀剂的方法
公开(公告)号：KR1020160059634A
公开(公告)日：2016-05-27
申请号：KR1020140161337
申请日：2014-11-19
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 최한영 , 고경준 , 김성식 , 백성호 , 최선미
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , C11D11/0047 , G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/40 , G03F7/422 , H01L21/0273
摘要： 본발명은디메틸부틸아마이드, 글리콜아민및 글리콜에테르를포함하는레지스트박리용조성물및 이를이용한레지스트의박리방법에관한것으로, 본발명의레지스트박리용조성물은공정손실이적으며, 저장안정성이우수하고, 레지스트의박리속도가우수한장점이있다.
摘要翻译：本发明涉及包含二甲基丁酰胺，二醇胺和乙二醇醚的抗蚀剂剥离组合物以及使用该抗剥离组合物剥离抗蚀剂的方法。根据本发明的抗蚀剂剥离组合物具有低的工艺损失，具有优异的储存稳定性，并且具有高抗蚀剂剥离速度。

9. 发明公开

KR1020160024573A 레지스트 박리액 조성물 및 이를 이용한 레지스트의 박리방법 审中-实审
标题翻译：耐腐蚀剥离剂组合物和使用它的剥离材料的方法
公开(公告)号：KR1020160024573A
公开(公告)日：2016-03-07
申请号：KR1020140111527
申请日：2014-08-26
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 최한영 , 고경준 , 최선미 , 김병묵
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/306
CPC分类号： G03F7/422 , H01L21/02068
摘要： 본발명은화학식 1 및화학식 2로표시되는화합물중에서선택되는 1종이상의아미드화합물, 화학식 3으로표시되는글리콜아민, 및화학식 4로표시되는글리콜에테르를포함하는레지스트박리액조성물및 이를이용한레지스트의박리방법을제공한다.
摘要翻译：本发明涉及包含至少一种选自化学式1和2所示化合物的酰胺化合物的抗蚀剂剥离溶液组合物; 由化学式3表示的乙醇胺; 和由化学式4表示的二醇醚。本发明还涉及一种剥离使用其的抗蚀剂的方法。根据本发明，剥离溶液具有高极性，因此表现出优异的去除在湿法或干蚀刻之后转化的抗蚀剂图案的能力。

10. 发明授权

KR101543827B1 레지스트 박리액 조성물 및 이를 이용한 레지스트의 박리방법 有权
标题翻译：抗剥离剂组合物和使用其剥离抗蚀剂的方法
公开(公告)号：KR101543827B1
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：KR1020120032662
申请日：2012-03-29
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 김성식 , 고경준 , 김정현
IPC分类号： G03F7/42 , G03F7/34
摘要： 본발명은 (a)화학식 1의구조식을갖는하이드록시디옥솔란계화합물및 (b)알칼리계화합물을포함하는레지스트박리액조성물; 및상기레지스트박리액조성물에 (c)수용성극성용매및 (d)탈이온수중에서선택되는 1종이상을추가한것을특징으로하는레지스트박리액조성물에관한것이다.

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