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1. 发明公开

KR1020090102616A 플라즈마 처리 장치, 플라즈마 처리 방법 및, 이 방법으로 처리된 피처리체 有权
标题翻译：等离子体处理装置，等离子体处理方法和方法处理的对象
公开(公告)号：KR1020090102616A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：KR1020080117400
申请日：2008-11-25
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 고쿠리츠 다이가쿠 호우징 나고야 다이가쿠
发明人： 나카오켄 , 모리야슈지 , 고우사카히로유키
IPC分类号： H05H1/24 , H05H1/30
CPC分类号： H05H1/46 , H05H2001/4622 , H05H2240/10 , H05H2245/123 , Y10T428/31678
摘要： PURPOSE: A plasma processing apparatus, a plasma processing method, and an object processed by the method are provided to form a film only at the inside of a member having a complicated internal shape or a ring-shaped member having an efficient length. CONSTITUTION: A plasma processing apparatus(10) includes an electro-wave generating source, an electro-wave inducing unit(13), a vacuum vessel of a dielectric, a target object, a gas supply unit, a gas-discharging unit and a voltage application unit. The electro-wave generating source generates an electro-wave, and the electro-wave inducing unit guides the electro-wave to a plasma igniting region. In the vacuum vessel of the dielectric, plasma is ignited inside the inner space. The gas supply unit supplies the processing gas to the inside of the object, and the discharge unit discharges the gas inside of the inner space of the object.
摘要翻译：目的：提供一种等离子体处理装置，等离子体处理方法和通过该方法处理的物体，以仅在具有复杂内部形状的构件的内部或具有有效长度的环形构件的内部形成膜。等离子体处理装置（10）包括电波发生源，电波诱导单元（13），电介质的真空容器，目标物体，气体供给单元，气体放电单元和电压应用单元。电波发生源产生电波，电波感应单元将电波引导到等离子体点火区域。在电介质的真空容器中，等离子体在内部空间内被点燃。气体供给单元将处理气体供给到物体的内部，排出单元排出物体的内部空间内的气体。

2. 发明授权

KR101022833B1 플라즈마 처리 장치, 플라즈마 처리 방법 및, 이 방법으로 처리된 피처리체 有权
标题翻译：等离子体处理装置，等离子体处理方法和方法处理的对象
公开(公告)号：KR101022833B1
公开(公告)日：2011-03-17
申请号：KR1020080117400
申请日：2008-11-25
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 고쿠리츠 다이가쿠 호우징 나고야 다이가쿠
发明人： 나카오켄 , 모리야슈지 , 고우사카히로유키
IPC分类号： H05H1/24 , H05H1/30
CPC分类号： H05H1/46 , H05H2001/4622 , H05H2240/10 , H05H2245/123 , Y10T428/31678
摘要： (과제) 배관 등에 충분한 길이를 갖는 고리 형상 부재나 복잡한 내부 형상을 갖는 부재의 내면에만 성막 처리를 행할 수 있는 플라즈마 처리 장치, 플라즈마 처리 방법 및, 이 방법으로 처리된 피처리체를 제공하는 것을 과제로 한다.
(해결 수단) 전자파를 발생하는 전자파 발생원과, 상기 전자파를 플라즈마 점화 영역으로 유도하는 전자파 유도부와, 상기 플라즈마 점화 영역으로 유도되는 전자파에 의해, 내부 공간 내에서 전자파 여기(excitation) 플라즈마가 점화되는 유전체제(製)의 진공 용기와, 상기 진공 용기에 진공적으로 접속되는 내부 공간을 갖는 피처리체와, 상기 피처리체의 내면에 시스(sheath)를 형성하기 위한 소정 전압을 상기 피처리체에 인가하는 전압 인가 수단을 포함하고, 상기 피처리체의 내면에 형성되는 시스에 의해 상기 피처리체의 내부로 유도되는 전자파 여기 플라즈마를 이용하여 상기 피처리체의 내면을 처리한다.
플라즈마, 진공 용기, 전자파

3. 发明公开

KR1020170127567A 패시베이션 처리 방법, 반도체 구조의 형성 방법 및 반도체 구조 审中-实审
标题翻译：钝化处理方法，半导体结构形成方法和半导体结构
公开(公告)号：KR1020170127567A
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：KR1020177030094
申请日：2016-04-06
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 린쥰 , 가와구치신이치 , 모리야슈지 , 무라키유스케
IPC分类号： H01L21/28 , H01L29/78
CPC分类号： H01L29/78
摘要： (과제) 게르마늄또는Ⅲ-V족의재료의표면의결함밀도를낮게하는것을목적으로한다. (해결수단) 게르마늄(Ge) 또는Ⅲ-V족의기판을처리실내의탑재대에탑재하는공정과, 황화수소(HS) 가스또는셀렌화수소(HSe) 가스와, 암모니아(NH) 가스를상기처리실내에공급하고, 상기기판위에유황(S) 또는셀렌(Se)을함유하는패시베이션막을성막하는공정을갖는패시베이션처리방법이제공된다.
摘要翻译： [问题]减少锗或III-V材料表面的缺陷密度。

4. 发明公开

KR1020140062166A 관 조인트 有权
标题翻译：管接头
公开(公告)号：KR1020140062166A
公开(公告)日：2014-05-22
申请号：KR1020147010244
申请日：2012-09-11
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 가부시키가이샤 후지킨
发明人： 오카베츠네유키 , 모리야슈지 , 사토겐이치 , 나카타도모히로 , 시노하라츠토무 , 야마지미치오
IPC分类号： F16L19/03 , F16J15/08 , F16L23/16
CPC分类号： F16L19/0212 , F16L19/0286
摘要： 본 발명은, 수나사 부재와 암나사 부재를 나사 결합시킬 때에 생긴 미립자가 유체 통로 내에 침입하는 것을 방지하여, 높은 청정도를 유지할 수 있는 관 조인트를 제공한다. 한쪽의 조인트 부재(2)에 설치된 수나사 부재(6)와 다른쪽의 조인트 부재(3)에 설치된 암나사 부재(7)에 의해 조인트 부재(2, 3)끼리가 결합된다. 수나사 부재(6)에, 양 조인트 부재(2, 3)의 맞대기부 외주면을 덮는 커버부(16)가 형성되어 있다.
摘要翻译：本发明提供一种能够防止将外螺纹部件和内螺纹部件拧入流体通路时产生的微小颗粒且维持高洁净度的管接头。接合构件2和3通过设置在一个接合构件2上的外螺纹构件6和设置在另一个接合构件3上的内螺纹构件7而彼此接合。外螺纹构件6形成有覆盖两个接合构件2的对接部的外周表面的覆盖部16，

5. 发明公开

KR1020130040705A 유량 제어 장치 및 처리 장치 有权
标题翻译：流量控制器和处理装置
公开(公告)号：KR1020130040705A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：KR1020120111257
申请日：2012-10-08
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 오카베츠네유키 , 모리야슈지 , 마츠노카즈시게
IPC分类号： G05D7/06 , G01F1/00
CPC分类号： G05D7/0635 , G01F1/68 , G01F5/00 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/8158 , G05D7/06 , G01F1/00
摘要： PURPOSE: A flow control device and a processing device are provided to control the flow of multiple kinds of gases without implementing complex manipulation. CONSTITUTION: A main gas pipe(50) is connected to a gas passage(28). A flow detection means(52) detects the flow of gas flowing in a main gas pipe for outputting a flow signal. A flow control valve tool(54) is installed at the main gas pipe. The flow control valve tool varies the opening degree of a valve for controlling the flow. A conversion data memorizing part(56) memorizes plurality of conversion data corresponding to multiple kinds of gases. A flow control main body(58) selects corresponding conversion data from the plurality of conversion data. The flow control main body secures target flow. The flow control main body controls a flow control valve tool. [Reference numerals] (50) Main gas pipe; (52) Flow detection means; (54) Flow control valve tool; (56) Conversion data memorizing part; (58) Flow control main body; (60) Communication part; (68) Sensor circuit; (74) Valve driving circuit; (AA) To a device control part(40); (S1) Flow signal; (S2) Valve driving signal; (Sa) Gas type selection signal; (Sb) Flow indication signal;
摘要翻译：目的：提供流量控制装置和处理装置，以控制多种气体的流动，而不需要进行复杂的操作。构成：主气体管道（50）连接到气体通道（28）。流量检测装置（52）检测在用于输出流量信号的主气体管道中流动的气体的流动。流量控制阀工具（54）安装在主气管上。流量控制阀工具改变用于控制流量的阀的开度。转换数据存储部分（56）存储对应于多种气体的多个转换数据。流量控制主体（58）从多个转换数据中选择相应的转换数据。流量控制主体确保目标流量。流量控制主体控制流量控制阀工具。（附图标记）（50）主气管; （52）流量检测装置; （54）流量控制阀工具; （56）转换数据记忆部分; （58）流量控制主体; （60）通讯部分; （68）传感器电路; （74）阀驱动电路; （AA）到设备控制部件（40）; （S1）流量信号; （S2）阀驱动信号; （Sa）气体类型选择信号; （Sb）流量指示信号;

6. 发明授权

KR101020476B1 가스 공급 장치, 반도체 제조 장치 및 가스 공급 장치용 부품 失效
标题翻译：气体供应装置，半导体制造装置和气体供应装置的组件
公开(公告)号：KR101020476B1
公开(公告)日：2011-03-08
申请号：KR1020080083307
申请日：2008-08-26
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 모리야슈지
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/00
摘要： 본 발명은, 종래에 비해 가스 공급 장치로부터 금속 불순물이 발생할 가능성을 저감할 수 있어, 생산성의 향상을 도모할 수 있는 가스 공급 장치, 반도체 제조 장치 및 가스 공급 장치용 부품을 제공한다.
가스 공급 장치(1)의 접속용 블럭(22)은, 가스에 대해서 내식성을 갖는 세라믹 또는 귀금속으로 이루어지며, 가스와 접촉하는 접촉 가스부를 구성하는 내식성 블럭 부재(22a)와, 내식성 블럭 부재(22a)를 감합(嵌合)시키기 위한 감합 구멍(28)을 가지며, 내식성 블럭 부재(22a)의 주위를 둘러싸도록 마련되어, 내식성 블럭 부재(22a)를 보호하는 금속제 블럭 부재(22b)로 구성되어 있다.

7. 发明公开

KR1020100024925A 유체 제어 장치 无效
标题翻译：流体控制装置
公开(公告)号：KR1020100024925A
公开(公告)日：2010-03-08
申请号：KR1020097025031
申请日：2008-05-26
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 가부시키가이샤 후지킨
发明人： 오카세와타루 , 모리야슈지 , 나카타도모히로 , 시노하라츠토무 , 야마지미치오
IPC分类号： F16K27/00 , F17D1/04 , C23C16/455 , H01L21/02
CPC分类号： F16K27/003 , Y10T137/598 , Y10T137/87885 , Y10T137/87917
摘要： Provided is a fluid control apparatus having a reduced number of part items and improved assembly operation efficiency. A pressure display (4), which has relatively high frequency of being removed, is connected to a base block (5) at the lower section with a male screw member (17) from above. An open/close valve (6), which has relatively low frequency of being removed, has an integrally arranged block-like main body (6a) at the lower section. The main body (6a) of the open/close valve (6) is connected to the base block (5) with a male screw member (18) from the front-rear direction.
摘要翻译：提供了具有减少的部件数量和改进的组装操作效率的流体控制装置。具有相对较高频率被去除的压力显示器（4）在上部与外部螺纹部件（17）连接在下部的基座（5）上。具有较低频率被去除的打开/关闭阀（6）在下部具有整体布置的块状主体（6a）。打开/关闭阀（6）的主体（6a）从前后方向与外螺纹部件（18）连接到基座（5）。

8. 发明授权

KR100781407B1 기판 처리 장치 失效
标题翻译：基板处理装置
公开(公告)号：KR100781407B1
公开(公告)日：2007-12-03
申请号：KR1020067018784
申请日：2005-06-17
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 모리야슈지 , 오카베츠네유키
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02
CPC分类号： G05D7/0658 , B01J4/008
摘要： 처리 가스를 공급하는 가스 공급계의 처리실(11)의 입구 근방에 마련된 개폐 밸브(13d, 14d)의 상류측으로부터 분기하고, 배기배관(17)에 접속된 분기배관(18)이 마련되어 있다. 이 분기배관(18)에는 가스유량 검출기구(19)가 개재 삽입되며, 유로를 처리실(11)측과 분기배관(18)으로 전환하기 위한 개폐 밸브(13h, 14h)가 마련되어 있다. 가스유량 검출기구(19)는 저항체에 가스를 통류시키고 그 양단의 압력을 측정해서 압력차로부터 가스유량을 검출한다. 이 검출값에 의해서, 매스플로 콘트롤러(13a, 14a)를 검정 또는 교정한다.

9. 发明授权

KR101658295B1 관 조인트 有权
公开(公告)号：KR101658295B1
公开(公告)日：2016-09-22
申请号：KR1020147010244
申请日：2012-09-11
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 가부시키가이샤 후지킨
发明人： 오카베츠네유키 , 모리야슈지 , 사토겐이치 , 나카타도모히로 , 시노하라츠토무 , 야마지미치오
IPC分类号： F16L19/03 , F16J15/08 , F16L23/16
CPC分类号： F16L19/0212 , F16L19/0286
摘要： 본발명은, 수나사부재와암나사부재를나사결합시킬때에생긴미립자가유체통로내에침입하는것을방지하여, 높은청정도를유지할수 있는관 조인트를제공한다. 한쪽의조인트부재(2)에설치된수나사부재(6)와다른쪽의조인트부재(3)에설치된암나사부재(7)에의해조인트부재(2, 3)끼리가결합된다. 수나사부재(6)에, 양조인트부재(2, 3)의맞대기부외주면을덮는커버부(16)가형성되어있다.

10. 发明授权

KR101572915B1 유량 제어 장치 및 처리 장치 有权
标题翻译：流量控制器和处理装置
公开(公告)号：KR101572915B1
公开(公告)日：2015-11-30
申请号：KR1020120111257
申请日：2012-10-08
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 오카베츠네유키 , 모리야슈지 , 마츠노카즈시게
IPC分类号： G05D7/06 , G01F1/00
CPC分类号： G05D7/0635 , G01F1/68 , G01F5/00 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/8158
摘要： (과제) 번잡한조작을행하는일 없이복수의가스종에대하여유량제어를행하는것이가능한유량제어장치를제공하는것이다. (해결수단) 가스통로(28)에흐르는가스유량을제어하는유량제어장치(30)에있어서, 주가스관(50)과, 이것에흐르는가스의유량을검출하여유량신호를출력하는유량검출수단(52)과, 유량을제어하는유량제어밸브기구(54)와, 외부로부터입력되는유량지시신호(Sb)와목표유량과의관계를나타내기위한, 복수의가스종에대응한복수의환산데이터를기억하는환산데이터기억부(56)와, 외부로부터입력되는가스종선택신호(Sa)에기초하여복수의환산데이터로부터대응하는환산데이터를선택함과함께유량지시신호(Sb)에기초하여상기목표유량을구하고, 목표유량과유량신호에기초하여유량제어밸브기구(54)를제어하는유량제어본체(58)를구비한다.

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