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1. 发明公开

KR1020150106339A 종형 열처리 장치, 종형 열처리 장치의 운전 방법 및 기억 매체 审中-实审
标题翻译：垂直热处理装置，垂直加热处理装置的操作方法和储存介质
公开(公告)号：KR1020150106339A
公开(公告)日：2015-09-21
申请号：KR1020150029013
申请日：2015-03-02
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 모토야마,유타카 , 후쿠시마,고헤이 , 마츠나가,마사노부 , 초우,파오-화
IPC分类号： H01L21/22 , H01L21/324 , H01L21/02
CPC分类号： C23C16/46 , C23C16/345 , C23C16/45542 , C23C16/45578 , C23C16/4583 , H01L21/0217 , H01L21/02211 , H01L21/02274 , H01L21/0228 , H01L21/22 , H01L21/02263 , H01L21/324
摘要： 복수의 기판을 선반 형상으로 보유 지지한 보유 지지구를 반응 용기 내에 반입하고, 반응관 내에 처리 가스를 공급하여 성막 처리를 행함에 있어서, 기판 간의 막 두께의 균일성을 높게 함과 함께, 장치 운용의 수고 저감을 도모할 수 있는 기술을 제공하는 것이다. 상기 반응 용기 내에 성막 가스를 공급하기 위한 가스 공급부와, 상기 기판 보유 지지구에 보유 지지된 상기 복수의 피처리 기판의 배치 영역보다 상방 및 하방에 각각 위치하도록 설치되고, 석영에 의해 구성된 가스 분포 조정 부재를 구비하도록 장치를 구성한다. 그리고, 상기 가스 분포 조정 부재에서의 단위 영역당의 표면적을 S, 상기 피처리 기판의 표면적을 피처리 기판의 외형 치수에 기초하여 계산되는 표면적으로 나눈 단위 영역당의 표면적을 S0으로 하면, S를 S0으로 나눈 값(S/S0)이 0.8 이상으로 설정한다.
摘要翻译：本发明提供一种能够提高基板之间的膜厚均匀性并实现设备操作的努力减小的技术，其中保持和支撑元件保持并将多个基板以支架的形式支撑在反应容器中，并且通过将处理气体供应到反应管中进行膜沉积处理。一种垂直热处理装置包括：用于将膜沉积气体供应到反应容器中的气体供应部件; 以及气体分配调节构件，其安装在比被处理基板的布置区域的上侧和下侧，所述布置区域由基板保持和支撑元件保持和支撑，并且由石英形成。并且，当气体分配调节构件中的单位面积的表面积为S时，单位面积的表面积是通过将待处理基板的表面积除以基于基准的表面积而得到的单位面积要处理的基板的轮廓尺寸为S0，则将S除以S0获得的值（S / S0）设定为等于或大于0.8。

2. 发明授权

KR101905242B1 성막 장치 有权
公开(公告)号：KR101905242B1
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：KR1020150101822
申请日：2015-07-17
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 후쿠시마,고헤이 , 모토야마,유타카 , 초우,파오-화
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/285 , H01L21/314
CPC分类号： C23C16/4583 , C23C16/345 , C23C16/45542 , C23C16/45544
摘要： 종형의반응용기내에, 복수의기판을선반형상으로유지한기판유지구를배치한상태에서성막을행하는성막장치에있어서, 장치의생산성의향상을도모한다. 기판의배열방향을따른제1 기판유지영역및 제2 기판유지영역중, 제1 기판유지영역, 제2 기판유지영역에각각한정적으로원료가스를공급하는제1 원료가스공급부, 제2 원료가스공급부와, 반응가스공급부와, 제1 기판유지영역및 제2 기판유지영역중 어느한쪽에원료가스가공급되고있을때, 다른쪽에퍼지가스를공급하는퍼지가스공급부와, 상기기판유지구에있어서제1 기판유지영역과제2 기판유지영역의사이에유지되는구획용기판을구비하도록장치를구성한다. 그리고, 제1 기판유지영역, 제2 기판유지영역에의원료가스의공급과반응가스의공급으로이루어지는사이클이, 각각복수회행해지도록제어한다.

3. 发明公开

KR1020160017608A 성막 장치 审中-实审
标题翻译：电影制作装置
公开(公告)号：KR1020160017608A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：KR1020150101822
申请日：2015-07-17
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 후쿠시마,고헤이 , 모토야마,유타카 , 초우,파오-화
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/285 , H01L21/314
CPC分类号： C23C16/4583 , C23C16/345 , C23C16/45542 , C23C16/45544
摘要： 종형의반응용기내에, 복수의기판을선반형상으로유지한기판유지구를배치한상태에서성막을행하는성막장치에있어서, 장치의생산성의향상을도모한다. 기판의배열방향을따른제1 기판유지영역및 제2 기판유지영역중, 제1 기판유지영역, 제2 기판유지영역에각각한정적으로원료가스를공급하는제1 원료가스공급부, 제2 원료가스공급부와, 반응가스공급부와, 제1 기판유지영역및 제2 기판유지영역중 어느한쪽에원료가스가공급되고있을때, 다른쪽에퍼지가스를공급하는퍼지가스공급부와, 상기기판유지구에있어서제1 기판유지영역과제2 기판유지영역의사이에유지되는구획용기판을구비하도록장치를구성한다. 그리고, 제1 기판유지영역, 제2 기판유지영역에의원료가스의공급과반응가스의공급으로이루어지는사이클이, 각각복수회행해지도록제어한다.
摘要翻译：本发明涉及一种形成膜的成膜装置，同时将保持搁板形状的多个基板的基板保持部分设置在钟形反应容器上，以提高装置的生产率。成膜装置包括：第一原料气体供给单元和第二原料气体供给单元，其沿着基板的排列方向限制地向第一基板保持区域和第二基板保持区域供给原料气体; 反应气体供给单元; 当从第一基板保持区域和第二基板保持区域向原料气体供给原料气体时，净化气体供给单元向另一个供给单元供给吹扫气体。以及保持在所述基板保持部中的所述第一基板保持区域和所述第二基板保持区域之间的分隔基板。通过供给原料气体和向第一基板保持区域和第二基板供给反应气体而构成的循环被控制多次。

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