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    • 1. 发明授权
    • 근적외선 흡수 조성물
    • 近红外吸收组合物
    • KR100565475B1
    • 2006-03-30
    • KR1020050076882
    • 2005-08-22
    • 나노씨엠에스(주)
    • 김시석이활종이경미
    • C09K3/00
    • 본 발명은 근적외선 흡수 조성물에 관한 것으로서, 800∼1200nm의 넓은 근적외선 파장대에서 높은 흡수능을 나타내는 근적외선 흡수 조성물을 제공하는데 그 목적이 있으며, 상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 하기 화학식 2의 구조를 갖는 코퍼프탈로시아닌 화합물과, 하기 화학식 3의 구조를 갖는 바나딜프탈로시아닌 화합물 및 하기 화학식 4의 구조를 갖는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물로 이루어짐을 특징으로 하는 근적외선 흡수 조성물을 제공한다.




      상기 화학식 3에서 R은 탄소수 2∼8의 알킬기 또는 알콕사이드기이다.


      상기 화학식 4에서 M
      1 과 M
      2 는 각각 비금속, 금속, 금속 산화물 또는 금속 할라이드에서 선택된 것으로서 서로 같거나 다른 것일 수 있으며, R
      1 내지 R
      16 은 각각 수소원자, 할로겐원자, 수산기, 아미노기, 히드록시술포닐기, 아미노술포닐기, 알킬기, 탄소수 1∼20의 치환기를 갖는 알킬기이고, SR
      17 , SR
      18 , OR
      19 , NHR
      20 또는 NHR
      21 이며, 선택된 것으로 각각 동일하거나 다른 것일 수 있으며, 여기서, R
      17 은 치환기를 가진 페닐기, 알킬기 또는 탄소수 1∼20의 알킬기이고, R
      18 은 탄소수 1∼20의 알콕시기를 가진 페닐기이며, R
      19 , R
      20 은 각각 치환기를 가진 페닐기, 아릴알킬기 또는 탄소수 1∼20의 알킬기이고, R
      21 은 치환기를 가진 탄소수 1∼20의 알킬기이며, n은 1∼20의 정수이다.
    • 具有以下结构,以提供近红外线吸收组合物中的本发明表现出在宽波长范围内的高吸收能力的近红外和800〜1200nm的这一目的,为了达到上述目的,本发明涉及式(2)涉及一种近红外线吸收组合物 到的铜酞菁化合物,并且具有下式结构的酞菁氧钒化合物(3)提供了一种根据权利要求由具有式(4)的结构的一个交联性聚酞菁化合物的近红外线吸收组合物。
    • 8. 发明授权
    • 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물 및 이를 함유하는근적외선 흡수 잉크조성물
    • 聚桥酞菁化合物和含有其的近红外吸收油墨组合物
    • KR100528155B1
    • 2005-11-15
    • KR1020050067396
    • 2005-07-25
    • 나노씨엠에스(주)
    • 김시석이활종이경미
    • C09B47/04
    • 본 발명은 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물 및 이를 함유하는 근적외선 흡수 잉크조성물에 관한 것으로서, 근적외선 흡수제로 유용하게 사용될 수 있는 하기 화학식 3의 구조를 갖는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물을 제공한다.


      상기 화학식 3에서 M
      1 과 M
      2 는 각각 무금속, 금속, 금속 산화물 또는 금속 할라이드에서 선택된 것으로서 서로 같거나 다른 것일 수 있으며, R
      1 내지 R
      16 은 각각 수소원자, 할로겐원자, 수산기, 아미노기, 히드록시술포닐기, 아미노술포닐기, 알킬기, 탄소수 1∼20의 치환기를 갖는 알킬기이고, SR
      17 , SR
      18 , OR
      19 , NHR
      20 또는 NHR
      21 이며, 선택된 것으로 각각 동일하거나 다른 것일 수 있으며, 여기서, R
      17 은 치환기를 가진 페닐기, 알킬기 또는 탄소수 1∼20의 알킬기이고, R
      18 은 탄소수 1∼20의 알콕시기를 가진 페닐기이며, R
      19 , R
      20 은 각각 치환기를 가진 페닐기, 아릴알킬기 또는 탄소수 1∼20의 알킬기이고, R
      21 은 치환기를 가진 탄소수 1∼20의 알킬기이며, n은 1∼20의 정수이다.