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    • 8. 发明授权
    • 반도체 제조 공정용 테이프의 기재필름
    • 用于半导体生产过程的胶带基膜
    • KR101682726B1
    • 2016-12-12
    • KR1020100100488
    • 2010-10-14
    • 아키레스 가부시키가이샤
    • 코바야시,슈이치
    • H01L21/683
    • 중간층과그 양측의외층으로이루어지는삼층적층필름을전자선조사에의해가교시켜서이루어지는반도체제조공정용테이프의기재필름에있어서, 상기양 외층은굽힘탄성률이 160MPa 이하에서비캣연화점이 70℃이상이고, 메타크릴산(MAA) 함유율이 12wt% 이하인에틸렌메타크릴산공중합체(EMAA) 수지로이루어지는층이며, 또한, 상기중간층이 100KGY 이상의전자선조사에의해겔분율 80% 이상이되도록가공된것을특징으로하는, 반도체제조공정용테이프의기재필름.
    • 目的:提供用于制造半导体的胶带的基膜,以通过在切割工艺中减少切割片来提高切割性能。 构成:基膜由中间层和中间层两侧的外层构成。 外层由乙烯甲基丙烯酸共聚物树脂制成。 乙烯甲基丙烯酸共聚物具有耐热性和膨胀性。 外层,中间层和外层的厚度比为1:4:1〜1:20:1。中间层包括100MPa以下的乙烯共聚物。
    • 9. 发明公开
    • 반도체 제조 공정용 테이프의 기재 필름
    • 用于半导体生产工艺的胶带基膜
    • KR1020150139458A
    • 2015-12-11
    • KR1020150077840
    • 2015-06-02
    • 아키레스 가부시키가이샤
    • 코바야시,슈이치무라타,미노루
    • H01L21/683C09J7/02
    • 본발명은반도체제조공정용테이프의기재필름에관한것이며, A) 특정 2원공중합체를금속이온으로가교한아이오노머수지, 및 B) 특정 3원공중합체를금속이온으로가교한아이오노머수지를포함하고, 상기성분 A)와성분 B)의질량비가 50:50 내지 5:95인반도체제조공정용테이프의기재필름, 및중간층과그 양측의외층으로이루어진반도체제조공정용테이프의기재필름으로서, 상기중간층은 A) 특정 2원공중합체를금속이온으로가교한아이오노머수지, 및 B) 특정 3원공중합체를금속이온으로가교한아이오노머수지를포함하고, 상기성분 A)와성분 B)의질량비가 50:50 내지 5:95인반도체제조공정용테이프의기재필름을제공한다.
    • 本发明涉及一种用于半导体生产方法的胶带的基膜,其包括:A)通过将特定二元共聚物与金属离子桥接而制成的离聚物树脂; 和B)通过用金属离子桥接特定的三元共聚物制成的离聚物树脂。 物质A)和物质B)的质量比为50〜50〜5〜95。本发明的半导体制造方法的带的基膜由中间层和两面的外部层构成 的中间层。 中间层包括:A)通过用特定的二元共聚物与金属离子桥连制得的离聚物树脂; 和B)通过用金属离子桥接特定的三元共聚物制成的离聚物树脂。 物质A)和物质B)的质量比为50〜50〜5〜95。