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    • 1. 发明授权
    • 내진용 입상배관 지지장치
    • KR101923629B1
    • 2018-11-30
    • KR1020170021053
    • 2017-02-16
    • 김상문
    • 김대식김상문
    • F16L5/00F16L3/10F16L55/00E04B1/98
    • 본발명은건물의바닥벽상에놓여지는보일러, 책장, 수납장등과같은다양한적재물이지진파와같은외부충격으로인해쓰러질경우그 쓰러지는적재물에입상배관이부딪힐경우그 적재물에부딪히는입상배관을대항지지하는지지수단이건물내부의벽을이루는공간상의세 개의벽면인바닥벽을지지하는지지수단, 가로축벽을지지하는지지수단및 세로축벽을지지하는지지수단을통해세로다른세 군데에서 3차원입체적으로고정지지함으로써, 전달되는외부충격에도입체적인 3차원의각 지지수단을통해강력하게지지되어입상배관의지지성능을최대한유지시켜주는내진용입상배관지지장치에관한것으로, 바닥벽(BW)을관통하는입상배관(101)과; 중앙부분이상기입상배관(101)의일측부에접촉되고, 그중앙부분에서연장되는양측가장자리부분이돌출되는일측가로클램프(110)와; 중앙부분이상기입상배관(101)의타측부에접촉되고, 그중앙부분에서연장되는양측가장자리부분이돌출되되, 상기일측가로클램프(110)의양측가장자리부분과대응되는타측가로클램프(120)와; 바닥벽(BW)에일측이고정지지되고, 타측이상기일측가로클램프(110)의한쪽가장자리부분및 상기타측가로클램프(120)를이루는한쪽가장자리부분에고정되는수직측바닥벽고정브라켓(130)과; 세로측벽(VW)에일측이고정지지되고, 타측이상기일측가로클램프(110)의다른한쪽가장자리부분및 상기타측가로클램프(120)를이루는다른한쪽가장자리부분에고정되는수평측세로측벽고정브라켓(140);으로이루어진다.
    • 2. 发明公开
    • 배관용 흔들림 방지 버팀대
    • KR1020180089999A
    • 2018-08-10
    • KR1020170014853
    • 2017-02-02
    • 김상문
    • 김대식김상문
    • F16L3/10F16L55/00F16B4/00
    • 본발명은관체인브레이싱바의상측내외면및 하측내외면과더불어브레이싱바의좌우측면을각각움직이지않도록단단하게고정시켜줌으로써, 지진파와같은외부충격의전달시에도브레이싱바의양측연결부위에서유격의발생을차단시켜주어, 브레이싱바의한쪽에연결된배관이지진파와같은외부충격에도최대한안전하게유지될수 있게제공하여주는배관용흔들림방지버팀대에관한것으로, 관체의브레이싱바(100)와; 건물내부의벽체쪽에고정되는것으로, 내부가개방되어배치공간(210)이형성된일측고정몸체(200)와; 상기일측고정몸체(200)와대응되는형상을갖아상기일측고정몸체(200)의배치공간(210)에배치되는일측회동몸체(300)와; 양측부를각각절개하여상측돌출편(410), 중측돌출편(420) 및하측돌출편(430)이돌출되고, 상측진입홈(441) 및하측진입홈(442)이형성되며, 그형성된상측진입홈(441)에상기일측회동몸체(300)의중앙부및 상기브레이싱바(100)인관체의일단상측쪽이진입되어끼움되고, 그형성된하측진입홈(442)에상기브레이싱바(100)인관체의일단하측쪽이진입되어끼움되게하는일측유격제거체(400)와; 상기일측고정몸체(200), 상기일측회동몸체(300) 및상기일측유격제거체(400) 간을연결시켜상기일측고정몸체(200)에내재된상기일측회동몸체(300)가회동연결될수 있게안내하는연결축(510)과; 상기브레이싱바(100)의타측에연결되는것으로, 배관을고정시키는클램프(C);로이루어진다.
    • 9. 发明公开
    • 실리콘 웨이퍼 재생방법 및 그 재생장치
    • 硅胶回收方法及其回收方式
    • KR1020090121527A
    • 2009-11-26
    • KR1020080047478
    • 2008-05-22
    • 박한영김상문박우영
    • 박한영김상문박우영
    • H01L21/02
    • PURPOSE: A recycling method of a silicon wafer and its recycled device is provided to maintain a surface as a mirror through uniform stripping by removing layers one by one with a chemical method without physical impact to the surface of the wafer. CONSTITUTION: A recycling method of a silicon wafer and its recycled device is comprised of the steps: colleting a disused silicon wafer and cleaning and drying the surface of the wafer(S1); forming a protective film by processing the rear side in which the circuit of a silicon wafer is not formed through annealing coating(S2); chemical-etching the surface in which the circuit of the silicon wafer in reverse procedure of forming semiconductor film(S3); and cleaning the etching-silicon wafer and polishing the surface(S4).
    • 目的:提供硅晶片及其再循环装置的回收方法,以通过均匀的汽提将表面保持为镜面,通过化学方法逐个除去层而不会对晶片的表面产生物理冲击。 构成:硅晶片及其回收装置的回收方法包括以下步骤:收集废弃硅晶片并清洁和干燥晶片表面(S1); 通过处理不通过退火涂层形成硅晶片的电路的后侧来形成保护膜(S2); 在形成半导体膜的相反过程中化学蚀刻硅晶片的电路的表面(S3); 并清洗蚀刻硅晶片并抛光表面(S4)。