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1. 发明公开

KR20200132943A 도열층, 감광층, 감광성 조성물, 도열층의 제조 방법, 및 적층체와 반도체 디바이스 审中-公开
公开(公告)号：KR20200132943A
公开(公告)日：2020-11-25
申请号：KR20207029563
申请日：2019-04-15
申请人： FUJIFILM CORP
发明人： YAMASHITA KOSUKE , SHIMADA KAZUTO
IPC分类号： C08K3/013 , C08L33/00 , C08L79/08 , C08L101/06 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/26
摘要： 적어도 1종의필러를포함하고, 열확산율이 5.0×10-7m2s-1 이상이며, 체적저항율이 1.0×1011Ω·cm 이상인도열층을사용한다. 또한, 본발명은, 이도열층을응용한감광층, 감광성조성물, 도열층의제조방법, 및적층체와반도체디바이스에관한것이다.

2. 发明公开

KR20200126402A 부직포, 파이버 형성 방법 및 부직포 제조 방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20200126402A
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：KR20207027759
申请日：2019-02-21
申请人： FUJIFILM CORP
发明人： NAKAGAWA YOSUKE , KANEMURA KAZUHIDE , TAKEGAMI RYUTA , KAMINAGA KUNIYUKI
IPC分类号： D04H1/4382 , D01D5/00 , D04H1/4258 , D04H1/728
摘要： 폭신감이있는부직포와, 파이버형성방법, 부직포제조방법을제공한다. 부직포제조설비(20)는, 용액(25)으로부터파이버(11)를형성하여, 부직포를제조한다. 부직포(10)는, 파이버(11)로형성되어있다. 부직포(10)에는, 공극(13)이형성되어있다. 파이버(11)의평균직경(DF)은 0.10μm 이상 5.00μm 이하의범위내이다. 부직포(10)는, 공극률이적어도 90%이다. 평균구멍직경은 0.5μm 이상 50μm 이하의범위내이며, 또한구멍직경의표준편차는 1.5μm 이하이다.

3. 发明公开

KR20180071425A 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물의 제조 방법 및 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물 审中-公开
公开(公告)号：KR20180071425A
公开(公告)日：2018-06-27
申请号：KR20187017514
申请日：2015-03-13
申请人： FUJIFILM CORP
发明人： FUJIMORI TORU , MORI HIROKI
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要： 본발명의과제는, 감활성광선성또는감방사선성수지조성물의제조방법, 및이 제조방법에의하여제조된감활성광선성또는감방사선성수지조성물을제공하는것에있다. 본발명의감활성광선성또는감방사선성수지조성물의제조방법은, 감활성광선성또는감방사선성수지조성물을필터에통과시켜여과하는여과공정을포함하고, 당해여과공정은, 감활성광선성또는감방사선성수지조성물을구멍직경 10nm 이하의제1 필터에 5회이상통과시켜행해진다.

4. 发明公开

KR20180042352A 레지스트 조성물과, 이를 이용한 레지스트막, 패턴 형성 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20180042352A
公开(公告)日：2018-04-25
申请号：KR20187007851
申请日：2016-09-09
申请人： FUJIFILM CORP
发明人： TAKADA AKIRA , HIRANO SHUJI , SHIMOJU NAOYA , TAKAHASHI TOSHIYA , MOCHIZUKI HIDEHIRO
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/075
摘要： 방향환기를갖는반복단위 (a)와, 측쇄에규소원자를갖는반복단위 (b)를갖는수지 (A)를함유하는레지스트조성물에의하여, 특히초미세(예를들면, 선폭 50nm 이하)의패턴의형성에있어서, 패턴붕괴성능이우수한패턴을형성할수 있는레지스트조성물과, 이를이용한레지스트막, 패턴형성방법및 전자디바이스의제조방법을제공한다.

5. 发明公开

KR20100108227A El device, light-sensitive material for forming conductive film, and conductive film 审中-公开
标题翻译： EL器件，形成导电膜的光敏材料和导电膜
公开(公告)号：KR20100108227A
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：KR20100024359
申请日：2010-03-18
申请人： FUJIFILM CORP
发明人： TOKUNAGA TSUKASA
IPC分类号： H01L31/12 , H01L51/00
CPC分类号： H05B33/10 , H05B33/145 , H05B33/26 , Y10T428/24876 , Y10T428/24893 , H01L31/12
摘要： PURPOSE: An EL component, a photosensitive material for forming conductive layer, and a conductive layer are provided to improve the adhesion between the conductive layer and the photosensitive material by including the silica in the conductive layer. CONSTITUTION: A conductive layer(2) is formed on the transparent supporter. A fluorescent material layer(3) is formed on the conductive film. A reflection insulating layer(4) is formed on the fluorescent material layer. A back plate(5) is formed on the reflection insulating layer. An insulating paste(9) is spread in the fluorescent material layer.
摘要翻译：目的：提供EL组件，用于形成导电层的感光材料和导电层，以通过在导电层中包含二氧化硅来改善导电层和感光材料之间的粘合性。构成：在透明支撑体上形成导电层（2）。在导电膜上形成荧光材料层（3）。在荧光材料层上形成反射绝缘层（4）。背板（5）形成在反射绝缘层上。绝缘膏（9）扩散在荧光材料层中。

6. 发明公开

KR20080102995A PHOTOSENSITIVE MATERIAL TURNING MEMBER AND DEVELOPING APPARATUS 审中-公开
标题翻译：感光材料开发成员和开发设备
公开(公告)号：KR20080102995A
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：KR20080046816
申请日：2008-05-20
申请人： FUJIFILM CORP
发明人： MATSUDA TOYOMI
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03D13/08
摘要： A strip-shaped photosensitive material redirection member and the developer are provided to suppress the treatment disorder of the width direction by preventing the generation of the silver stain, the scratch, the film exfoliation etc. The photosensitive material redirection member floats the strip-shaped photosensitive material about the photosensitive material redirection member. The strip-shaped photosensitive material does not contact with the photosensitive material redirection member and is direction-turned. The photosensitive material redirection member includes the delivering opening of a plurality of slit types ejecting the process solution to the length direction; the first cylindrical member(34) having the delivering openings; the second cylindrical member(38) having a nozzle(40) showing the process solution.
摘要翻译：提供条形感光材料重定向构件和显影剂，以通过防止银污染，划痕，膜剥落等的产生来抑制宽度方向的处理障碍。感光材料重定向构件将带状感光材料关于感光材料重定向构件的材料。带状感光材料不与感光材料重定向构件接触并且被转向。感光材料重定向构件包括将处理溶液喷射到长度方向的多个狭缝类型的输送口; 所述第一圆柱形构件（34）具有所述输送开口; 第二圆柱形构件（38）具有示出处理溶液的喷嘴（40）。

7. 发明公开

KR20200141490A 편광판 및 그 제조 방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20200141490A
公开(公告)日：2020-12-18
申请号：KR20207032523
申请日：2019-05-14
申请人： FUJIFILM CORP
发明人： SASADA YASUYUKI , HISANAGA KAZUYA , WAKIZAKA DAIKI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B7/023 , B32B7/12 , C09J5/00 , C09J11/06 , C09J201/00 , G02B1/04 , G02B5/22
摘要： 본발명은, 기재필름과광학필름이적층되어이루어지고, 또한상기기재필름과상기광학필름이적절한밀착성을갖는박리성적층필름, 상기박리성적층필름을이용한편광판, 및편광판의제조방법을제공하는것을과제로하며, 광학필름으로의침윤이없고, 1종이상의중합성화합물을포함하는접착제를포함하여경화를촉진한박리성적층필름을이용한편광판, 박리성적층필름을이용한편광판의제조방법을제공한다.

8. 发明公开

KR20200133018A 착색 조성물, 2색성 색소 화합물, 광흡수 이방성막, 적층체 및 화상 표시 장치 审中-公开
公开(公告)号：KR20200133018A
公开(公告)日：2020-11-25
申请号：KR20207033190
申请日：2017-03-06
申请人： FUJIFILM CORP
发明人： MIZUMURA MASATOSHI , KATOU TAKASHI , HOSHINO WATARU
IPC分类号： C09K19/60 , B32B7/02 , C09B31/043 , G02B5/30 , G02F1/1335
摘要： 본발명의과제는, 우수한 2색비를갖는광흡수이방성막을형성할수 있는착색조성물, 2색성색소화합물, 광흡수이방성막, 적층체및 화상표시장치를제공하는것이다. 본발명의착색조성물은, 한센용해도파라미터가 17.5 이상이고, 또한하기식 (1)로나타나는구조를갖는 2색성색소화합물과, 액정성화합물을함유한다. TIFFpat00019.tif6126 상기식 (1) 중, A1, A2 및 A3은각각독립적으로, 치환기를갖고있어도되는 2가의방향족기를나타낸다. 단, A1, A2 및 A3 중어느하나가치환기를갖고있어도되는 2가의티에노싸이아졸기를나타낸다. 상기식 (1) 중, L1 및 L2는각각독립적으로, 치환기를나타낸다.

9. 发明公开

KR20200131296A 고체 전해질 조성물, 전고체 이차 전지용 시트, 전고체 이차 전지용 전극 시트와 전고체 이차 전지, 및 전고체 이차 전지용 시트와 전고체 이차 전지의 제조 방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20200131296A
公开(公告)日：2020-11-23
申请号：KR20207029349
申请日：2019-04-15
申请人： FUJIFILM CORP
发明人： YASUDA KOJI
IPC分类号： H01M10/0562 , H01B1/06 , H01M4/62 , H01M10/052 , H01M10/0585
摘要： 주기율표제1족혹은제2족에속하는금속의이온의전도성을갖는무기고체전해질과, 특정의식으로나타나는수지를포함하는바인더입자를함유하는고체전해질조성물, 이고체전해질조성물을이용한, 전고체이차전지용시트, 전고체이차전지용전극시트와전고체이차전지, 및전고체이차전지용시트와전고체이차전지의제조방법을제공한다.

10. 发明公开

KR20180038512A 마이크로니들 어레이 审中-公开
公开(公告)号：KR20180038512A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：KR20187006622
申请日：2016-09-07
申请人： FUJIFILM CORP
发明人： KABATA KOKI , YOSHIDA JUNYA , OYAMADA TAKAYOSHI
IPC分类号： A61K9/00 , A61K9/70 , A61K47/26 , A61K47/30 , A61M37/00
CPC分类号： A61K9/00 , A61K38/00 , A61K39/00 , A61K39/39 , A61K47/26 , A61K47/32 , A61K47/34 , A61K47/36 , A61M37/00 , A61M2037/0053
摘要： 본발명의과제는, 시트부및 바늘부로구성되는매크로니들어레이로서, 높은약효를달성할수 있는마이크로니들을제공하는것이다. 본발명에의하면, 시트부, 및시트부의상면에존재하는복수의바늘부를갖는마이크로니들어레이로서, 바늘부가, 수용성고분자및 약물을포함하고, 바늘부의전체고형분의 50질량% 이상이수용성고분자이며, 바늘부선단을포함하는영역으로서, 바늘부전체높이의 20%의길이에상당하는높이를갖는바늘부선단영역에있어서, 수용성고분자와약물이, 하기식 1의질량비율로존재하고, 시트부가, 수용성고분자를포함하는, 마이크로니들어레이가제공된다. 식 1; 수용성고분자:약물=0.05~0.9:1

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