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    • 81. 发明授权
    • 저온 플라즈마 발생 장치 및 방법
    • 温度等离子体生成方法与装置
    • KR100489508B1
    • 2005-05-16
    • KR1020020032342
    • 2002-06-10
    • 황정남최진문정광호
    • 최진문정광호황정남
    • H05H1/48
    • 본 발명은 대기압 또는 저진공 상태에서의 저온 플라즈마 발생방법 및 장치에 관한 것으로, 일측으로 가스가 유입되어 타측으로 배출되는 플라즈마 챔버(50)와; 플라즈마 챔버(50)의 입구측으로 설치되어 인입되는 가스의 온도를 검출하는 온도센서(30); 인입되는 가스를 선택적으로 가열하는 히터(40); 플라즈마 챔버(50)의 내에 위치되어 플라즈마를 발생시키기 위한 시드플라즈마방전을 일으키는 적어도 두 개 이상의 시드플라즈마전극봉(60)(62)과; 상기 플라즈마 챔버(50)의 내측에서 전극봉(60)(62)을 중심으로 해서 전극봉에서 발생된 플라즈마를 외측으로 확산시키는 복수의 전극판(70~75); 상기 전극봉(60)(62)에 고전압을 한시적으로 인가하기 위한 고압전원부(90)와; 상기 고압전원부(90)로부터 출력되는 전압보다 작은 저압전원을 상기 전극판(70~75)에 지속적으로 인가하기 위한 저압전원부(94); 상기 전극판(70~75)에 고압전원을 인가하여 시드플라즈마를 확산시키는 펄스형 고압전원부(96); 챔버(50)의 외측에 배치되어 챔버내에 자기력선을 형성하는 영구자석(100)으로 구성되어 대기압 및 저진공 상태에서 저온 플라즈마 발생효율을 향상시키고 플라즈마 밀도를 높게 하고, 에너지의 절감 및 구조를 단순화할 수 있는 것이다.