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热词
    • 81. 发明公开
    • 전도성 패턴을 포함하는 터치 패널
    • 包含导电图案的触控面板
    • KR1020130033994A
    • 2013-04-04
    • KR1020120107605
    • 2012-09-27
    • 주식회사 엘지화학
    • 황지영황인석최현이승헌
    • G06F3/041
    • G06F3/041G06F2203/04103G06F2203/04111G02F1/13338
    • PURPOSE: A touch panel including a conductive pattern is provided to laminate a transparent substrate which has a conductive pattern including an area of which the opening ratio is different, thereby improving a penetration ratio, a concealment property, and the uniformity of the conductive pattern. CONSTITUTION: A first conductive substrate includes a first transparent substrate and a first conductive pattern which is on the first transparent substrate. A second conductive substrate includes a second transparent substrate and a second conductive pattern which is on the second transparent substrate. The second conductive substrate is laminated on the first conductive substrate. The first conductive pattern includes an A area and a B area between which the opening ratio difference is over 0.5%. The second conductive pattern includes a C area, which is overlapped in the A area, and a D area, which is overlapped in the B area. [Reference numerals] (AA) A-B area; (BB,DD) A area; (CC) B area; (EE) C-D area; (FF,HH) C area; (GG) D area; (II) A X C area; (JJ) AB X CD area; (KK) B X D area;
    • 目的:提供一种包括导电图案的触摸面板,以对具有包括开口率不同的区域的导电图案的透明基板进行层压,从而提高穿透率,隐蔽性和导电图案的均匀性。 构成:第一导电衬底包括第一透明衬底和位于第一透明衬底上的第一导电图案。 第二导电衬底包括第二透明衬底和位于第二透明衬底上的第二导电图案。 第二导电基板层压在第一导电基板上。 第一导电图案包括A区域和开口比差超过0.5%的B区域。 第二导电图案包括在A区域中重叠的C区域和在B区域中重叠的D区域。 (附图标记)(AA)A-B区域; (BB,DD)面积; (CC)B区; (EE)C-D区; (FF,HH)C区; (GG)D区; (二)A X C区; (JJ)AB X CD区域; (KK)B X D区;
    • 87. 发明公开
    • 롤 프린팅 공정을 이용한 역테이퍼 패턴의 제조방법
    • 通过滚筒印刷工艺制作具有反向切割图案的基板
    • KR1020110130105A
    • 2011-12-05
    • KR1020100049572
    • 2010-05-27
    • 주식회사 엘지화학
    • 전경수이동욱최현이승헌황지영
    • B29C59/04B41C1/06
    • B29C59/04B29C59/002B29C59/022B29C2037/0035B29K2995/0074B41C1/06
    • PURPOSE: A reverse-tapered pattern producing method using a roll printing process is provided to effectively form reverse-tapered patterns by using a roll printing process instead of an existing wet or dry etching process. CONSTITUTION: A reverse-tapered pattern producing method using a roll printing process is as follows. A cliche having pattern grooves is filled with paste. A printing roll having a blanket touches the cliche and is rolled on the cliche in an axial direction to transfer the paste from the engraved parts of the cliche to the blanket. The printing roller touches a release film having a release layer and is rolled on the release film in an axial direction to form paste patterns on the release layer. The release film with the release layer having the paste patterns touches a base material to form the paste patterns on an attachment enhancing layer of the base material. The release film is separated from the base material.
    • 目的:提供使用辊印刷方法的反锥形图案制造方法,以通过使用辊印刷方法代替现有的湿法或干法蚀刻工艺来有效地形成反向锥形图案。 构成:使用辊压印刷工艺的反锥形图案制造方法如下。 具有图形凹槽的陈列物被填充。 具有橡皮布的印刷辊与草稿相接触,并在轴向方向上滚动在书写纸上,以将糊状物从书写的雕刻部分转印到毯子上。 印刷辊接触具有剥离层的剥离膜,并且在剥离膜上沿轴向滚动以在剥离层上形成糊状图案。 具有糊状图案的剥离层的剥离膜与基材接触,以在基材的附着增强层上形成糊状图案。 脱模膜与基材分离。
    • 88. 发明授权
    • 대면적 인쇄용 블랭킷 제조방법
    • 毯子印刷大空间的制作方法
    • KR101026561B1
    • 2011-03-31
    • KR1020080014813
    • 2008-02-19
    • 주식회사 엘지화학
    • 전경수문제민이승헌성지현
    • B41M5/00B41M5/40B41M5/42
    • 본 발명은 대면적 인쇄용 블랭킷 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르는 대면적 인쇄용 블랭킷 제조방법은, (S1) 제1코팅기재 상면에 인쇄층 제조용 탄성재를 코팅한 후, 이를 경화시켜 인쇄층 필름을 제조하고, 제2코팅기재 상면에 쿠션층 제조용 쿠션재를 코팅한 후, 이를 경화시켜 쿠션층 필름을 제조하되, 상기 인쇄층 필름 제조와 쿠션층 제조는 동시 또는 이시에 순차적으로 진행하는 단계; (S2) 상기 인쇄층 필름과 상기 쿠션층 필름의 각각 상부면에 점착층을 적층시키는 단계; 및 (S3) 상기 인쇄층 필름 상의 점착층과 쿠션층 필름 상의 점착층이 상호 대면되도록 배치하고, 그 사이에 중간 지지체를 개재시키면서 층간 합착시키는 단계;를 포함하여 진행하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 대면적으로 제조되는 인쇄용 블랭킷의 전체 면적에 걸쳐 층간 접착이나 접합이 균일하게 이루어지며, 적층 계면 내에 먼지나 기포 등의 이물질이 존재할 개연성을 최소화할 수 있으며, 층간 결합 계면 상의 점착성 등이 균일하게 구현될 수 있어 제품 안정성을 확보할 수 있으며, 제품의 대량생산에 최적화될 수 있는 장점이 있다.
      블랭킷, 대면적, 점착, 라미네이트, 엘라스토머, 쿠션층
    • 90. 发明授权
    • 건식에칭에 의해 요철면이 형성된 기재의 제조방법, 상기방법으로 제조된 기재, 및 상기 기재를 포함하는 광전자소자
    • 通过干蚀刻制备其具有纹理表面的基底的方法,使用其制备的基底和光电器件
    • KR100965744B1
    • 2010-06-24
    • KR1020060094875
    • 2006-09-28
    • 주식회사 엘지화학
    • 홍영준이승헌이기라강양구전경수
    • H01L33/20H01L21/31
    • 본 발명은 a)기재 상에, 금속 또는 금속산화물 입자와 유기고분자 물질을 포함하는 막을 형성하는 단계; b)제 1건식에칭을 이용하여 상기 막 중 금속 또는 금속산화물 입자를 제외한 부분을 제거하는 단계; 및 c)제 2건식에칭을 이용하여, 상기 금속 또는 금속산화물 입자와 기재를 함께 에칭하여, 상기 기재 표면에 상기 금속 또는 금속 산화물 입자의 형상 및 3차원 망상구조(network structure)의 배열형태가 전사된 요철면을 형성하는 단계; 를 포함하여, 요철면이 형성된 기재를 제조하는 방법, 상기 방법으로 제조된 기재, 상기 기재의 중간체, 및 상기 기재를 포함하는 광전자 소자를 제공한다. 본 발명은 금속 또는 금속산화물 입자와 유기고분자 물질이 포함된 막을 기재 상에 형성하고, 1단계로 유기물 만을 에칭한 후, 2단계로 금속 또는 금속산화물 입자와 기재를 함께 에칭함으로써, 대량으로 용이하게 기재 상의 요철면을 형성할 수 있으며, 요철면의 크기 및 형상 등도 쉽게 제어가 가능하여 다양한 저반사 패턴을 쉽게 제작할 수 있다. 또한, 기재의 종류 및 결정성 등에 상관없이 다양한 저반사 패턴을 제작할 수 있으므로, 원하는 반사율을 가진 기재를 용이하게 제작할 수 있다.
      건식에칭, 저반사패턴, 요철면, 광전자소자,