专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

81. 发明授权

KR100843472B1 액정표시장치 및 그의 제조방법 有权
标题翻译：液晶显示及其制作方法
公开(公告)号：KR100843472B1
公开(公告)日：2008-07-03
申请号：KR1020010014219
申请日：2001-03-20
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 이경묵 , 권오남
IPC分类号： G02F1/136
摘要： 본 발명은 구리배선의 불량을 방지하도록 한 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 액정표시장치는 기판상에 형성된 게이트전극 및 게이트라인과, 게이트전극 및 게이트라인 상에 형성된 게이트절연막과, 게이트절연막 상에 형성된 활성층 및 오믹접촉층과, 오믹접촉층 상에 형성된 소스 및 드레인전극과, 게이트라인과 교차되게 형성된 데이터라인;을 포함하고, 게이트전극, 게이트라인, 데이터라인, 소스 및 드레인전극은 식각공정시 하층물질과 막분리가 가능한 구리(Cu)로 이루어진 제1 금속층과, 제1 금속층과 다른 계면특성을 가짐으로써 하층물질과 상기 제1 금속층 사이의 계면특성을 보상하기 위한 타이타늄(Ti), 탄탈늄(Ta) 및 니켈(Ni) 중 어느 하나로 이루어진 제2 금속층을 포함하여 이루어진다.
이에 따라, 구리배선 아래에 타이타늄층을 형성시킴으로써 식각공정시 막분리를 방지할 수 있으며, 소정 온도이상에서 반도체층과의 화학 반응을 방지할 수 있다.

82. 发明公开

KR1020080060823A 인쇄판의 제조 방법 및 이를 이용한 액정 표시 장치의 제조방법 有权
标题翻译：制造印刷版的方法及使用其制造液晶显示装置的方法
公开(公告)号：KR1020080060823A
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：KR1020060135364
申请日：2006-12-27
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 권오남
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： G02F1/136209 , G02F1/133516 , G02F2001/136222 , G02F2001/13625
摘要： A manufacturing method of a print panel and a manufacturing method of an LCD(Liquid Crystal Display) by using the same are provided to enhance the aspect ratio of the depth and width of a trench formed on a print plate. The first metal layer pattern formed on a substrate(200) has the first opening portion. Thereafter, the substrate is etched by means of the first metal layer pattern(210) so that the first trench(155) is formed. The second metal layer(117) is formed on the substrate including the surface of the first trench by the electro-less plating manner. The second metal layer is removed selectively so that the second metal layer pattern is formed within the first trench located at the lower portion of the first metal layer. The substrate is etched by means of the first and second metal layer patterns so that the second trench is formed. In the first metal layer pattern formation process, the first metal layer is deposited on the substrate and thereafter the first metal layer is etched by means of the first photosensitive film pattern(220) having an opening portion corresponding to the first opening portion.
摘要翻译：提供一种打印面板的制造方法和使用该打印面板的LCD（液晶显示器）的制造方法，以增强形成在印版上的沟槽的深度和宽度的纵横比。形成在基板（200）上的第一金属层图案具有第一开口部。此后，通过第一金属层图案（210）蚀刻衬底，从而形成第一沟槽（155）。第二金属层（117）通过无电镀方式形成在包括第一沟槽的表面的基板上。选择性地去除第二金属层，使得第二金属层图案形成在位于第一金属层下部的第一沟槽内。通过第一和第二金属层图案蚀刻衬底，从而形成第二沟槽。在第一金属层图案形成工艺中，第一金属层沉积在基板上，之后通过具有对应于第一开口部分的开口部分的第一感光膜图案（220）来蚀刻第一金属层。

83. 发明授权

KR100766317B1 액정표시장치용 에천트 조성물 및 저저항 배선 제조방법 有权
标题翻译：用于液晶显示器的蚀刻剂复合材料和低电阻分布的电线制造方法
公开(公告)号：KR100766317B1
公开(公告)日：2007-10-11
申请号：KR1020040104387
申请日：2004-12-10
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 권오남
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： C23F1/16 , C23F1/20 , C23F1/26 , G02F2001/13629 , G02F2001/136295
摘要： 본 발명은 액정표시장치용 에천트 조성물에 관한 것으로 특히, 몰리브덴과 알루미늄 합금(Mo/AlNd)의 이중층으로 구성되는 저저항 배선을 식각하기 위한 것이다.
본 발명은 63.5 ~ 64.5wt%의 인산, 8 ~ 9wt%의 질산, 8 ~ 12wt%의 초산을 주성분으로 하여 플루오르(F) 이온계 첨가제 1 ~ 4wt% 및 잔량의 물을 포함하는 에천트를 구성하는 것이다.
이로 인하여, 기존의 에천트를 사용함으로써 발생되었던 몰리브덴 자국(tail) 등으로 인한 화질 상의 얼룩불량과 같은 문제점을 미연에 방지할 수 있으며, 이중 배선 형성 시 발생하는 오버행(overhang)을 없애므로 단락(short) 및 배선의 오픈(open) 불량을 줄일 수 있다.

84. 发明公开

KR1020070053438A 인쇄판, 인쇄판의 제작방법 및 그를 이용한 액정표시소자제작방법 有权
标题翻译：制造印刷版和印刷版的方法
公开(公告)号：KR1020070053438A
公开(公告)日：2007-05-25
申请号：KR1020050111226
申请日：2005-11-21
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 권오남 , 조흥렬
IPC分类号： G02F1/1333 , G02F1/13
CPC分类号： G02F1/1333 , G02F1/133514 , G02F1/1339 , G02F1/1341 , G02F2001/13625 , H01L21/306
摘要： 본 발명은 기판 상에 소정 패턴의 마스크층을 형성하는 공정; 상기 소정 패턴의 마스크층을 이용하여 상기 기판에 트렌치를 형성하는 공정; 상기 기판의 트렌치가 형성된 영역 상에 네가티브 포토레지스트를 도포하는 공정; 상기 기판의 전면에 광을 조사하는 공정; 상기 마스크층이 형성된 기판 상에 소정 패턴의 포지티브 포토레지스트층을 형성하는 공정; 상기 마스크층 중 포지티브 포토레지스트층에 의해 도포되지 아니한 부분을 식각하는 공정; 상기 네가티브 포토레지스트를 현상하는 공정; 상기 기판을 양극산화피막처리하는 공정; 및 상기 포지티브 포토레지스트층, 마스크층, 네가티브 포토레지스트를 제거하는 공정으로 이루어진 인쇄판 제작방법에 관한 것으로서,
본 발명에 따르면, 종래의 등방성 식각 공정을 그대로 이용하면서, 산화피막의 형성을 통해 트렌치에 형성된 식각 오차를 줄일 수 있어, 미세패턴의 형성이 가능한 인쇄판의 제작이 가능해지고, 종래 인쇄판에서 인쇄시 트렌치의 가장자리 부분에 패턴물질이 전사될 우려를 덜 수 있어 정밀한 패턴의 형성이 가능해진다.
인쇄판, 트렌치
摘要翻译：本发明提供一种制造半导体器件的方法，包括：在衬底上形成具有预定图案的掩模层; 使用预定图案的掩模层在衬底中形成沟槽; 在形成沟槽的衬底的区域上施加负光刻胶; 将光照射到衬底的整个表面上; 在其上形成掩模层的衬底上形成预定图案的正性光致抗蚀剂层; 蚀刻未被正型光致抗蚀剂层覆盖的掩模层的一部分; 显影负性光刻胶; 阳极氧化基材; 以及去除正光阻层，掩模层和负光阻的步骤，

85. 发明公开

KR1020070027784A 인쇄판의 제조방법 有权
标题翻译：打印板制造方法
公开(公告)号：KR1020070027784A
公开(公告)日：2007-03-12
申请号：KR1020050079594
申请日：2005-08-29
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 권오남 , 조흥렬
IPC分类号： G02F1/1335
CPC分类号： G03F7/00
摘要： A method of manufacturing a printing plate is provided to fabricate a fine printing plate by minimizing a variation in etch CD(Critical Dimension). A hard mask(62a) having an opening is formed on an insulating substrate(61). A first trench having a first depth is formed in the insulating substrate using the hard mask. A first etch stopper layer(65) and a first photoresist film(66) are sequentially formed on the overall surface of the insulating substrate including the first trench. The first photoresist film is exposed and developed using the hard mask. A second trench having a second depth greater than the first depth is formed in the insulating substrate using the hard mask. A second etch stopper layer(68) and a second photoresist film(69) are sequentially formed on the overall surface of the insulating substrate including the second trench. The second photoresist film is exposed and developed using the hard mask. A third trench(70) having a third depth greater than the second depth is formed in the insulating substrate using the hard mask. The hard mask, the first and second etch stopper layers and the first and second photoresist films are removed.
摘要翻译：提供一种制造印版的方法，以通过最小化蚀刻CD（临界尺寸）的变化来制造精细印刷版。在绝缘基板（61）上形成具有开口的硬掩模（62a）。使用硬掩模在绝缘基板中形成具有第一深度的第一沟槽。在包括第一沟槽的绝缘基板的整个表面上依次形成第一蚀刻停止层（65）和第一光致抗蚀剂膜（66）。使用硬掩模对第一光致抗蚀剂膜进行曝光和显影。使用硬掩模在绝缘基板中形成具有大于第一深度的第二深度的第二沟槽。在包括第二沟槽的绝缘基板的整个表面上依次形成第二蚀刻停止层（68）和第二光致抗蚀剂膜（69）。使用硬掩模对第二光致抗蚀剂膜进行曝光和显影。使用硬掩模在绝缘基板中形成具有大于第二深度的第三深度的第三沟槽（70）。去除硬掩模，第一和第二蚀刻停止层以及第一和第二光致抗蚀剂膜。

86. 发明授权

KR100690000B1 액정표시소자 및 그 제조방법 有权
标题翻译：液晶显示元件及其制造方法
公开(公告)号：KR100690000B1
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：KR1020000008304
申请日：2000-02-21
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 권오남
IPC分类号： G02F1/136
摘要： 본 발명은 게이트라인의 단차에 의한 데이터라인의 단선을 방지할 수 있는 액정표시소자와 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 액정표시소자는 신호배선이 형성되어질 홈부가 마련된 투명기판과, 투명기판의 홈부에 형성되며 데이터라인 및 게이트라인과 박막트랜지스터의 게이트전극을 이루는 제1 금속패턴과, 데이터라인과 중첩되게 형성되어진 박막트랜지스터의 소스 및 드레인 전극을 포함하는 제2 금속패턴과, 제1 금속패턴과 제2 금속패턴 사이에 위치하는 게이트절연막과, 게이트절연막 표면에 형성되며 소스 및 드레인 전극에 접촉되는 활성층과, 박막트랜지스터를 보호하기 위한 보호막과, 보호막에 형성되어진 제1 컨택홀을 통해 드레인 전극에 전기적으로 접촉된 화소전극과, 상기 보호막의 표면에 형성되며 제2 컨택홀을 통해 상기 데이터라인과 상기 소스 전극을 전기적으로 접속시키기 위한 링크전극을 구비한다.
본 발명에 의하면, 투명기판에 형성되어진 트렌치에 데이터라인과 게이트라인을 단차없이 형성함으로써 종래의 게이트라인 단차에 의한 데이터라인의 단선을 방지할 수 있게 된다.
摘要翻译：液晶显示元件及其制造方法技术领域本发明涉及一种液晶显示元件及其制造方法，该液晶显示元件及其制造方法能够防止由于栅极线的阶梯差导致的数据线的断开。

87. 发明公开

KR1020070003004A 액정 표시 장치의 제조 방법 및 장치 有权
标题翻译：制造液晶显示器的方法和装置
公开(公告)号：KR1020070003004A
公开(公告)日：2007-01-05
申请号：KR1020050058723
申请日：2005-06-30
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 권오남 , 류순성 , 조흥렬 , 남승희
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： H01L27/1288 , H01L27/1214 , Y10S438/951
摘要： A method and an apparatus for manufacturing an LCD is provided to improve efficiency of a lift-off process by forming a plurality of stripper penetration paths in a sacrificial layer through a heat treatment process using a difference in a thermal expansion coefficient between a photoresist pattern and the sacrificial layer. A first thin film is formed on a substrate. A photoresist pattern(152) is formed on the first thin film. The first thin film is etched. A second thin film is formed on the substrate including the photoresist pattern. A plurality of stripper penetration paths are formed in the second thin film by a difference in a thermal expansion coefficient between the photoresist pattern and the second thin film through a heat treatment process. The photoresist pattern and the second thin film thereon are removed by a stripper penetrating through the stripper penetration paths.
摘要翻译：提供一种用于制造LCD的方法和装置，以通过使用光致抗蚀剂图案和光致抗蚀剂图案之间的热膨胀系数的差异通过热处理工艺在牺牲层中形成多个剥离器穿透路径来提高剥离过程的效率牺牲层。在基板上形成第一薄膜。在第一薄膜上形成光致抗蚀剂图案（152）。第一个薄膜被蚀刻。在包括光致抗蚀剂图案的基板上形成第二薄膜。通过热处理工艺，通过光致抗蚀剂图案和第二薄膜之间的热膨胀系数的差异，在第二薄膜中形成多个剥离器穿透路径。在其上的光致抗蚀剂图案和其上的第二薄膜通过穿透剥离器穿透路径的汽提器去除。

88. 发明公开

KR1020070002621A 식각액, 이를 이용한 금속배선 형성방법 및 액정표시장치 제조방법 有权
标题翻译：蚀刻剂，使用其的金属线的成型方法和使用其的LCD的制造方法
公开(公告)号：KR1020070002621A
公开(公告)日：2007-01-05
申请号：KR1020050058230
申请日：2005-06-30
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 권오남 , 류순성 , 남승희
IPC分类号： C09K13/04
摘要： Provided are an etchant for etching a Cu/ITO dual layer simultaneously, a method for forming a metal wiring by using the etchant, and a method for preparing a liquid crystal display device by using the etchant. The etchant comprises 17.5-20.5 wt% of HNO3; 0.5-1.5 wt% of H2O2; 0.01-0.1 wt% of H2MoO4; and 0.1-2.0 wt% of a Cu inhibitor. Preferably the Cu inhibitor is an azole-based compound, and the azole-based compound is imidazole. Optionally the etchant comprises further 1.0-2.0 wt% of amino-tetrazole, 0.5-1.0 wt% of methyl benzotriazole and 0.25-0.75 wt% of an antiaging chelating agent. Preferably the antiaging chelating agent is EDTA or ethylene diamine.
摘要翻译：提供了同时蚀刻Cu / ITO双层的蚀刻剂，通过使用蚀刻剂形成金属布线的方法以及通过使用蚀刻剂制备液晶显示装置的方法。蚀刻剂包含17.5-20.5重量％的HNO 3; 0.5-1.5重量％的H 2 O 2; 0.01-0.1重量％的H 2 MoO 4; 和0.1-2.0重量％的Cu抑制剂。优选地，Cu抑制剂是唑类化合物，唑类化合物是咪唑。任选地，蚀刻剂还包含1.0-2.0重量％的氨基四唑，0.5-1.0重量％的甲基苯并三唑和0.25-0.75重量％的抗老化螯合剂。抗衰老螯合剂优选为EDTA或乙二胺。

89. 发明公开

KR1020060124986A 액정표시장치의 배향막 러빙 장치 有权
标题翻译：用于润滑液晶显示装置的对准层的装置和用于橡胶的方法
公开(公告)号：KR1020060124986A
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：KR1020050046724
申请日：2005-06-01
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 조흥렬 , 류순성 , 권오남 , 남승희
IPC分类号： G02F1/1337
CPC分类号： G02F1/133784 , G02F1/1303
摘要： An apparatus and a method for rubbing an alignment layer of an LCD are provided to uniformly perform a rubbing process and prevent the generation of static electricity between a rubbing cloth and an alignment layer, by rubbing the alignment layer after injecting a liquid on the alignment layer. A rubbing unit rotates in one direction while keeping in contact with a surface of an alignment layer(120) while performing a rubbing process. A liquid injector(110) injects a liquid onto the alignment layer while the rubbing unit rubs the alignment layer. The rubbing unit is composed of a rubbing roller(101), a rubbing cloth(102) attached on the outer circumferential surface of the rubbing roller, a rotary shaft(103) for rotating the rubbing roller, and a rotary motor(104).
摘要翻译：提供用于摩擦LCD的取向层的装置和方法，以均匀地进行摩擦处理，并且通过在将取向层注入到取向层上之后摩擦取向层，防止摩擦布和取向层之间的静电产生。摩擦单元在进行摩擦处理的同时在与定向层（120）的表面保持接触的同时沿一个方向旋转。液体喷射器（110）在摩擦单元摩擦对准层时将液体注射到取向层上。摩擦单元由摩擦辊（101），安装在摩擦辊的外周面上的摩擦布（102），用于旋转摩擦辊的旋转轴（103）和旋转马达（104）组成。

90. 发明授权

KR100623419B1 쉐도우 마스크 및 그의 제조 방법 有权
标题翻译：阴影掩模及其制造方法
公开(公告)号：KR100623419B1
公开(公告)日：2006-09-13
申请号：KR1020050057317
申请日：2005-06-29
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 권오남 , 류순성
IPC分类号： H01L21/027

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式