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71. 发明公开

KR1020060046021A 희석 ＮＦ３를 사용하는 저온 ＣＶＤ 챔버 세정 失效
标题翻译：使用稀释NF3的低温CVD室清洁
公开(公告)号：KR1020060046021A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：KR1020050038899
申请日：2005-05-10
申请人： 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드
发明人： 릿지웨이로버트고든 , 지빙 , 마룰리스피터제임스
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： C23C16/4405 , B08B7/00 , B08B7/0035 , H01J37/32862
摘要： 본 발명은 공정 열 소모 비용이 서셉터 온도 상승의 최소화를 요하는, 저온 플라즈마 강화 화학 증착(PECVD) 챔버 및 하드웨어에서 증착 부산물을 계내(in-situ) 세정하는 방법에 관한 것이다. 기본적인 계내 PECVD 공정에서, 증착 부산물의 막을 제거하기에 충분한 온도에서 충분한 시간 동안 세정 기체를 상기 챔버에 도입하고, 그 후 증착 부산물을 함유하는 세정 기체를 상기 PECVD 챔버로부터 제거한다. 세정 과정에서 저온 PECVD 챔버의 서셉터 온도 상승을 최소화하기 위한 방법은, 플라즈마 강화 저온 화학 증착 챔버의 세정 중 발생된 열을 제거하기에 충분한 양의 헬륨으로 희석되고, 상기 챔버의 세정을 위한 NF
3 로 실질적으로 구성된 세정 기체를 사용하는 것을 포함한다. 서셉터는 150℃ 이하로 유지한다.
PECVD, CVD 챔버 세정

72. 发明授权

KR100575393B1 세라믹 제품의 세정방법 失效
标题翻译：陶瓷制品清洗工艺
公开(公告)号：KR100575393B1
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：KR1020037001056
申请日：2001-07-23
申请人： 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드
发明人： 해얼앤드류쥐.
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： C04B41/009 , B08B3/08 , B08B7/00 , B08B7/02 , C04B41/53 , C04B41/91 , C04B35/00 , C04B35/565
摘要： A method for cleaning ceramic workpieces such as SiC boats used in semiconductor fabrication is disclosed. The method comprises washing a virgin or used ceramic workpiece with a chemical stripping agent and then using a pelletized CO2 cleaning process on the acid-washed component. The inventive method has been found to produce a workpiece having a very low level of metallic and particulate contaminants on its surface.

73. 发明授权

KR100505065B1 증착 챔버 세정 방법 및 인시튜 세정이 가능한 증착 장치 有权
标题翻译：沉积室清洗方法和能够进行原位清洗的沉积设备
公开(公告)号：KR100505065B1
公开(公告)日：2005-07-29
申请号：KR1020020084218
申请日：2002-12-26
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 임은택 , 박영욱 , 박인성 , 최한메 , 김경석
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： C23C16/4405 , B08B7/00 , B08B7/0035 , H01J37/32862 , H01L21/3162 , Y10S438/905
摘要： 본 발명은 증착 챔버 세정 방법 및 인시튜 세정이 가능한 증착 장치가 개시되어 있다. 금속 산화물이 증착되어 있는 증착 챔버 내에 상기 금속 산화물에 포함되는 금속과 반응하여 반응물을 생성시키는 제1 가스와 상기 반응물을 분해시키는 제2 가스를 유입한다. 이어서, 상기 금속 산화물과 상기 제1 및 제2 가스를 반응시켜 상기 금속 산화물을 제거하여 증착 챔버를 세정한다. 상기 방법에 의하면, 증착 챔버를 열거나 분리하지 않은 상태로 단시간 내에 세정을 수행할 수 있다.

74. 发明公开

KR1020050042174A 광 조사 장치 有权
标题翻译：紫外线辐射器
公开(公告)号：KR1020050042174A
公开(公告)日：2005-05-04
申请号：KR1020057003848
申请日：2003-09-10
申请人： 가부시키가이샤 지에스 유아사
发明人： 호소타니고지 , 사카모토히로미 , 에자키신고 , 요시카와도모야
IPC分类号： H01J65/04 , F21V19/00 , B08B7/00
CPC分类号： B08B7/00
摘要： A light irradiator in which a lamp itself is protected against fracture even if a lamp house is twisted by preventing the lamp itself from being twisted, and a constant distance can be kept between the surface of the discharge container of the lamp and the surface of a glass substrate for precise cleaning, or the like, by sustaining the lamp position fixedly. One supporting part principally supports the lamp rotatably and the other supporting part supports the lamp while limiting the rotation.
摘要翻译：一种光照射器，其中通过防止灯本身扭曲而使灯本身受到保护以防止灯泡扭曲，并且可以在灯的放电容器的表面和灯的表面之间保持恒定的距离用于精确清洁的玻璃基板等，通过固定地维持灯的位置。一个支撑部分主要是可旋转地支撑灯，而另一个支撑部件在限制旋转的同时支撑灯。

75. 发明公开

KR1020030092675A 반도체기판의 세정방법 失效
标题翻译：清洗半导体基板的方法
公开(公告)号：KR1020030092675A
公开(公告)日：2003-12-06
申请号：KR1020020030416
申请日：2002-05-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 한동균 , 고형호 , 김영준 , 박기종
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/02065 , B08B7/00
摘要： PURPOSE: A method for cleaning a semiconductor substrate is provided to prevent a metal layer from being corroded or etched even if the semiconductor substrate includes a tungsten layer by eliminating organic residue as contaminant of the semiconductor substrate while using ozone gas and deionized water vapor. CONSTITUTION: The semiconductor substrate is introduced to the inside of a cleaning chamber(S210). Ozone gas and deionized water vapor are induced to the inside of the cleaning chamber to remove the organic residue(S220). The semiconductor substrate is drawn out from the cleaning chamber(240).
摘要翻译：目的：提供一种用于清洁半导体衬底的方法，以便即使半导体衬底通过在使用臭氧气体和去离子水蒸汽的同时通过消除作为半导体衬底的污染物的有机残留物而包含钨层来防止金属层被腐蚀或蚀刻。构成：半导体衬底被引入到清洁室的内部（S210）。将臭氧气体和去离子水蒸汽引入清洁室内部以除去有机残余物（S220）。半导体衬底从清洁室240中抽出。

76. 发明授权

KR100362009B1 미생물을이용한부품세척기 失效
公开(公告)号：KR100362009B1
公开(公告)日：2003-03-29
申请号：KR1019970701963
申请日：1995-09-29
申请人： 챔프리 코포레이션 , 지모 인터내셔날 인코퍼레이티드
发明人： 멕큐르,제임스씨. , 메어즈,에릭엘. , 화이트맨쥐.,로브 , 마크스,프란시스에이. , 스트레인지,리렌드제이. , 맥날리,토마스더블유.
IPC分类号： B08B3/02
CPC分类号： C02F3/344 , B08B3/006 , B08B7/00 , C02F3/04 , C02F3/10 , C02F3/34 , C02F3/343 , C02F2103/44 , C12P1/00 , C12R1/00 , Y02W10/15
摘要： 유체와 접촉하여 부품을 세척하는 제 1 기계요소와 부품으로부터 제거된 유기물질을 생분해하는 제 2 기계요소를 포함하고, 제 1 기계요소는 제 2 기계요소와 연결되어 유체가 제 1 기계요소와 제 2 기계요소 사이에 순환한다. 세척방법은 제 1 실에 물체를 위치하고, 제 2 실로부터 제 1 실로 세척액을 순환시켜 액체와 접하는 물체의 표면을 세척하고, 다공성매체를 통하여 세척액이 이동하고 제 1 실로부터 제 2 실로 세척액이 배수되고, 세척액으로부터 유기물질이 제거되고 제 2 실로부터 제 1 실로 세척액을 순환시키는 것으로 구성된 장치를 제공한다.
摘要翻译：一种设备包括用于通过使部件与流体接触来清洁部件的第一机械部件，以及用于生物降解从部件移除的有机物的第二机械部件。第一机械部件与第二机械部件连通，使得流体在第一和第二机械部件之间再循环。一种清洗部件的方法包括以下步骤：将物品放置在第一腔室（20）中，使清洗液体（82）从第二储存器（80）循环到第一储存器（20）以清洗接触物品的表面（82）通过多孔介质（38），将洗涤液从第一室（20）排入第二室（80），除去洗涤液（82）中的有机物并再循环还提供了从第二腔室（80）到第一腔室（20）的清洗液体。＆lt;图像＆GT;

77. 发明公开

KR1020030014754A 세척용 시이트, 이를 사용한 반송부재, 및 이를 사용한기판가공장치 세척법 有权
标题翻译： 세척용시이트，이를사용한반송부재，및이를이를사용한기판가공장치세척법
公开(公告)号：KR1020030014754A
公开(公告)日：2003-02-19
申请号：KR1020037000523
申请日：2001-05-08
申请人： 닛토덴코 가부시키가이샤
发明人： 나미카와마코토 , 데라다요시오 , 도요다에이지
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： B08B1/00 , B08B7/00 , B08B7/0028 , Y10T428/1462 , Y10T428/1476 , Y10T428/1481 , Y10T428/28 , Y10T428/2839 , Y10T428/2891
摘要： 세척용 시이트는 표면 저항이 1×10
13 Ω/□ 이상인 세척층을 보유한다. 세척 기능을 갖는 반송부재를 제조하는 방법에서, 활성 에너지에 의해 중합/경화되는 접착제로 구성된 세척층이 기재 물질의 한면에 제공되고 통상적인 접착층이 기재 물질의 다른면에 제공된 세척용 시이트를, 반송부재의 형태보다 큰 형태를 갖는 통상적인 접착층에 접착하는 단계, 및 반송부재의 형태에 따라 세척용 시이트를 절단하는 단계를 포함하고, 여기서 세척용 시이트를 반송부재의 형태에 따라 절단한 후에 세척층의 중합/경화 반응을 수행한다.
摘要翻译：清洁片具有表面电阻率不小于1×10 13Ω/平方的清洁层。在制造具有清洁功能的传送部件的方法中，为了粘贴清洁片，其中由基于活性能量聚合/固化的粘合剂形成的清洁层被设置在基材和普通粘合剂的一个表面上层通过普通粘合剂层设置在其另一表面上，具有比传送部件的形状更大的形状，然后沿着传送部件的形状切割清洁片，其中聚合/固化反应在清洁片被切割成传送部件的形状之后执行清洁层的清洁。

78. 发明公开

KR1020020081213A 기판의 처리방법 및 처리 장치 失效
标题翻译：基板处理方法及其设备
公开(公告)号：KR1020020081213A
公开(公告)日：2002-10-26
申请号：KR1020027006775
申请日：2001-06-12
申请人： 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 , 시마다리카고교가부시끼가이샤
发明人： 노다세이지 , 호리베히데오 , 미야모토마코토 , 오야이즈미 , 구즈모토마사키
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/02071 , B08B7/00 , H01L21/31133 , H01L21/67051
摘要： 본발명은습윤오존함유가스와염기성가스를함유하는혼합가스에의해기판표면상의유기오염물질을제거하는기판의처리방법으로서, 염기성가스의도입량을제어함으로써기판상에미리형성된금속배선의부식을완전히억제하고, 유기오염물질을제거하는기판의처리방법및 처리장치를제공한다. 또한, 본발명의기판처리장치는기판의온도를실온보다높은온도로유지시키기위한기판가열수단(4); 습윤오존함유가스를수득하기위한습윤수단(7); 상기기판표면의피처리물에습윤오존함유가스를공급하기위한공급수단(5); 상기습윤수단과공급수단을접속시키는송기관(8); 상기기판표면의피처리물에염기성가스함유가스를공급하기위한공급수단(18); 및상기습윤수단, 공급수단, 및송기관을각각상기기판의온도이상으로가열하기위한가스가열수단(9)을포함한다.
摘要翻译：提供一种通过使用含湿臭氧的气体和碱性气体的混合气体去除基板表面上的有机污染物来处理基板的方法，其中控制碱性气体的引入量，从而完全防止金属的腐蚀预先形成在基板上的布线及其装置。本发明的基板处理装置包括用于将基板保持在高于室温的基板加热装置（4），用于获得含湿臭氧的气体的润湿装置（7），用于向基材表面上的待处理物质供给含湿臭氧的气体，用于连接润湿装置和供给装置的送气管（8），用于将碱性气体气体供给至物质的供给装置在基板表面上处理的气体加热装置（9），用于将每个润湿装置，供给装置和送气管加热到等于或高于基板的温度的气体加热装置（9）。

79. 发明公开

KR1020010025767A 자기장을 이용한 관석제거장치 失效
标题翻译：使用磁场的电子去角度测量装置
公开(公告)号：KR1020010025767A
公开(公告)日：2001-04-06
申请号：KR1019990030879
申请日：1999-07-28
申请人： 손창현 , 김원대
发明人： 손창현 , 김원대
IPC分类号： F28G13/00
CPC分类号： F28G13/00 , B08B6/00 , B08B7/00 , B08B9/027
摘要： PURPOSE: An electronic de-scaling apparatus using magnetic field is provided to achieve a de-scaling operation even at the velocity lower than a threshold level. CONSTITUTION: A method of winding a lead wire along an outer wall of a pipeline is characterized in that the ion passing through the portion wounded with the lead wire has a flow direction which is maintained perpendicular to the direction of magnetic field, to thereby allow ions to have maximum force. Thus, Lorentz force is generated even at the velocity lower than a threshold level where a micro vibration does not occur. Accordingly, ions are provided with an energy permitting calcite structure, thus preventing fouling from being deposited at the wall of the pipeline.
摘要翻译：目的：提供使用磁场的电子缩放装置，即使在低于阈值水平的速度下也能实现去缩放操作。构成：沿着管线的外壁卷绕引线的方法的特征在于，穿过受引线缠绕的部分的离子具有垂直于磁场方向的流动方向，从而允许离子有最大的力量。因此，即使在低于不发生微振动的阈值水平的速度下也产生洛伦兹力。因此，离子具有能量允许的方解石结构，从而防止污物沉积在管道的壁处。

80. 发明授权

KR100238234B1 반도체소자용 인-시튜 세정장치 및 그를 이용한 반도체 소자의 세정방법 失效
标题翻译： INSITU清洁装置和半导体工艺方法
公开(公告)号：KR100238234B1
公开(公告)日：2000-01-15
申请号：KR1019970009557
申请日：1997-03-20
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 장규환 , 송재인 , 박흥수 , 고영범
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67028 , B08B3/04 , B08B7/00 , Y10S134/902
摘要： 본 발명은 건식 세정 수단, 습식 세정 수단 및 이들을 연결하는 공통 세정조를 포함하는 반도체 소자용 세정장치 및 그를 이용한 반도체 소자의 세정방법에 관한 것이다. 본 발명의 세정장치는 건식 세정수단과 습식 세정수단이 공통 세정조를 통하여 서로 연결된 구조를 갖는다. 따라서, 본 발명의 세정 장치를 이용하면 건식 세정 이후에 반도체 소자가 대기중에 방치되는 일이 없이 바로 습식 세정될 수 있기 때문에 자연 산화막 등과 같은 이차 오염 발생을 최대한 방지할 수 있을 뿐 아니라, 건식 세정이나 습식 세정만으로는 얻을 수 없는 탁월한 세정 효과, 즉 입자상 물질, 폴리머, 금속성 오염물질 등 대부분의 오염물질에 대하여 탁월한 세정 효과를 갖는다.

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