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61. 发明授权

KR101009776B1 통신 시스템에서 인접 기지국 정보 송수신 시스템 및 방법 有权
标题翻译：在通信系统中发送接收的邻域基站信息的系统和方法
公开(公告)号：KR101009776B1
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：KR1020070049412
申请日：2007-05-21
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 강현구 , 황인석 , 정진관 , 조민희 , 김광식
IPC分类号： H04B7/26
CPC分类号： H04W36/0061 , H04W48/12 , H04W84/045
摘要： 본 발명은 통신 시스템의 기지국이 상기 기지국의 인접 기지국들이 m개의 공공(public) 인접 기지국과 n개의 사설(private) 인접 기지국인 경우, 상기 m개의 공공 인접 기지국에 대한 정보를 포함하는 제1인접 기지국 광고 메시지를 상기 기지국으로부터 서비스를 제공받는 모든 이동 단말기들에게 주기적으로 브로드캐스팅(broadcasting)하고, 상기 이동 단말기들 중 상기 n개의 사설 인접 기지국 중 어느 하나로부터 서비스를 제공받는 이동 단말기인 제1이동 단말기에게, 상기 제1이동 단말기에게 전용으로 할당된 식별자를 사용하여, 상기 n개의 사설 인접 기지국에 대한 정보를 포함하는 제2인접 기지국 광고 메시지를 유니캐스팅(unicasting)하며, 상기 m과 n은 각각 1 이상인 정수임을 특징으로 한다.
IEEE 802.16 통신 시스템, 핸드오버, 인접 기지국 광고(MOB_NBR-ADV: Mobile Neighbor Advertisement) 메시지, 브로드캐스팅, 유니캐스팅, 방송 연결 식별자(BCID: Broadcast Connection IDentifier), 중요 연결 식별자(PCID: Primary Connection Identifier)

62. 发明公开

KR1020080049302A 이동통신 시스템에서 이종망간 핸드오버를 위한 장치 및방법 无效
标题翻译：移动通信系统异构网络之间切换的装置和方法
公开(公告)号：KR1020080049302A
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：KR1020060119719
申请日：2006-11-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김광식 , 김정대 , 강현구 , 조중근
IPC分类号： H04W92/02 , H04B7/26 , H04L29/06
CPC分类号： H04W36/005 , H04W36/0016 , H04W36/14 , H04W80/00 , H04W84/14 , H04W92/02
摘要： An apparatus and a method for handover between heterogeneous networks in a mobile communication system are provided to transmit corresponding information by using a defined event when the topology of a wireless communication network changes as a repeater or a mesh node moves in the wireless communication network, thereby enabling a terminal to perform the handover more efficiently between the heterogeneous networks. A method for processing a link event in a broadband wireless communication network comprises the following steps of: checking whether network topology changes according to the movement of a mobile repeater(600); generating a link event for the change of the link event(602); generating an MIH(Media Independent Handover) event for the change of the topology(604); transmitting changed topology configuration information to an MIH information server(606); and maintaining the latest network topology information(608).
摘要翻译：提供移动通信系统中的异构网络之间切换的装置和方法，用于当无线通信网络的拓扑结构随着中继器或网状节点在无线通信网络中移动时，通过使用定义的事件来发送相应的信息，从而使得终端能够在异构网络之间更有效地执行切换。一种用于处理宽带无线通信网络中的链路事件的方法，包括以下步骤：根据移动中继器（600）的移动来检查网络拓扑是否发生变化; 生成链接事件改变的链接事件（602）; 生成用于改变拓扑的MIH（媒体独立切换）事件（604）; 将改变的拓扑配置信息发送到MIH信息服务器（606）; 并维护最新的网络拓扑信息（608）。

63. 发明公开

KR1020070084866A 무선 통신 시스템에서 제어국 선택 방법 无效
标题翻译：在无线通信系统中选择控制站的方法
公开(公告)号：KR1020070084866A
公开(公告)日：2007-08-27
申请号：KR1020060017196
申请日：2006-02-22
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김광식 , 윤수웅 , 이효진 , 장병기
IPC分类号： H04W48/06 , H04W88/08 , H04W88/12 , H04L12/28
摘要： A control station selection method in a wireless communication system is provided to enable an RAS(Radio Access Station) to receive a recommended ACR(Access Control Router) list from an ACR and to conduct a call processing action by selecting an optimum ACR, thereby effectively executing network entering and DSA(Dynamic Service Addition) processes. A recommended ACR list including at least one piece of ACR information is received from an NMS(Network Management System) taking charge of maintenance of ACRs and an RAS(502,504). A particular ACR is selected by considering priority described in the list(506). Capability negotiation is conducted with the selected particular ACR(508). If the capability negotiation is successful, a call processing action is performed with the particular ACR(510,512).
摘要翻译：提供无线通信系统中的控制台选择方法，使得RAS（无线接入站）能够从ACR接收推荐的ACR（接入控制路由器）列表，并通过选择最佳ACR来进行呼叫处理动作，从而有效地执行网络进入和DSA（动态服务添加）过程。从负责维护ACR和RAS（网络管理系统）的网管（网管系统）收到至少包含一条ACR信息的ACR列表（502,504）。通过考虑列表（506）中描述的优先级来选择特定ACR。使用所选择的特定ACR进行能力协商（508）。如果能力协商成功，则用特定ACR（510,512）执行呼叫处理动作。

64. 发明授权

KR100586032B1 기판 정렬 방법 및 장치, 이를 이용한 기판의 패턴 검사방법 및 장치 失效
标题翻译：基板对准方法和装置，以及使用该基板检测基板上的图案的方法和装置
公开(公告)号：KR100586032B1
公开(公告)日：2006-06-01
申请号：KR1020040058145
申请日：2004-07-26
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김용주 , 김광식
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F9/7011 , G03F9/7019 , G03F9/7088 , G03F9/7092
摘要： 기판 정렬 방법에 따르면, 반도체 공정이 수행된 기판 상의 정렬 마크로부터 새로운 마크 이미지를 획득한다. 새로운 마크 이미지를 공정 전의 정렬 마크로부터 기 설정된 기준 이미지와 비교한다. 이어서, 비교 결과에 따라, 정렬 마크가 기준 이미지 또는 새로운 마크 이미지에 상응하도록 기판을 정렬한다. 따라서, 기준 이미지를 후속 정렬 공정에 선택적으로 사용할 수가 있게 되므로, 정렬 시간이 대폭 단축된다.

65. 发明公开

KR1020050004551A 웨이퍼 재검사 장치 无效
标题翻译：通过使用光学显微镜和原子力显微镜检查波形缺陷的抛光装置
公开(公告)号：KR1020050004551A
公开(公告)日：2005-01-12
申请号：KR1020030044779
申请日：2003-07-03
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김경호 , 김광식
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01Q30/025 , G01Q30/04
摘要： PURPOSE: A wafer review apparatus is provided to perform rapidly a process for reviewing defects of a wafer by using an optical microscope and an atomic force microscope. CONSTITUTION: A storage unit(200) stores a defect map received from a wafer inspection system. An optical microscope(300) is used for reviewing defects on the defect map by using an object lens and an eyepiece. An atomic force microscope(400) reviewing defects on the defect map in atom units by using a cantilever. An input unit(500) selects one of the optical microscope and the atomic force microscope. A display unit(600) forms the defects as images. A stage(700) is used for supporting the wafer having the defects. A control unit(800) controls the storage unit, the optical microscope, the atomic force microscope, the input unit, the display unit, and the stage.
摘要翻译：目的：提供一种晶片检查装置，用于通过使用光学显微镜和原子力显微镜快速执行用于检查晶片缺陷的处理。构成：存储单元（200）存储从晶片检查系统接收的缺陷图。光学显微镜（300）用于通过使用物镜和目镜来检查缺陷图上的缺陷。原子力显微镜（400）通过使用悬臂来检查原子单元上的缺陷图上的缺陷。输入单元（500）选择光学显微镜和原子力显微镜中的一个。显示单元（600）作为图像形成缺陷。级（700）用于支撑具有缺陷的晶片。控制单元（800）控制存储单元，光学显微镜，原子力显微镜，输入单元，显示单元和台。

66. 发明公开

KR1020040042186A 반도체 소자 제조에 사용되는 노즐 장치 失效
标题翻译：用于制造半导体器件的喷嘴装置
公开(公告)号：KR1020040042186A
公开(公告)日：2004-05-20
申请号：KR1020020070355
申请日：2002-11-13
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김일우 , 김광식
IPC分类号： H01L21/00
摘要： PURPOSE: A nozzle apparatus for manufacturing a semiconductor device is provided to restrain the reaction gas supplied to a chamber from being heated in a flow path by forming a groove between the outer wall of a nozzle pipe and the flow path. CONSTITUTION: A nozzle apparatus for manufacturing a semiconductor device is provided with a nozzle housing(120) having a hole(121) at its inner portion and a nozzle pipe(122) inserted into the hole. The nozzle pipe has a flow path(123) and at least one groove(124) between the flow path and the outer wall of the nozzle pipe for enclosing the flow path. The nozzle apparatus further includes a gas supply pipe(125) connected with the nozzle pipe for supplying gas to the flow path and a heat insulating part inserted into the groove.
摘要翻译：目的：提供一种用于制造半导体器件的喷嘴装置，用于通过在喷嘴管的外壁和流路之间形成凹槽来限制供应到腔室的反应气体在流路中被加热。构成：用于制造半导体器件的喷嘴装置设置有在其内部具有孔（121）的喷嘴壳体（120）和插入孔中的喷嘴管（122）。喷嘴管具有在流路和喷嘴管的外壁之间的流路（123）和至少一个凹槽（124），用于封闭流路。喷嘴装置还包括与用于向流路供给气体的喷嘴管连接的气体供给管（125）和插入到槽中的绝热部。

67. 发明授权

KR100375102B1 반도체 장치의 제조에서 화학 기상 증착 방법 및 이를수행하기 위한 장치 失效
标题翻译：在这种情况下，我们可以为您的工作提供最佳的解决方案。
公开(公告)号：KR100375102B1
公开(公告)日：2003-03-08
申请号：KR1020000061264
申请日：2000-10-18
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이희태 , 박윤세 , 김광식 , 김종우
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： B08B7/00 , B08B7/0035 , C23C16/4401 , C23C16/4405 , Y10T137/7724
摘要： An apparatus and a method for performing a chemical vapor deposition process that reduces particle contamination of a wafer, wherein a cleaning gas including a fluorine radical is introduced into the process chamber to clean the chamber. After loading a wafer in the process chamber, a deposition gas is introduced into the chamber to form a film on the wafer. An inert gas as a back flow-preventing gas is introduced into the process chamber through a cleaning gas supply line to prevent the deposition gas from flowing back toward the cleaning gas supply line. Thus, the cleaning gas supply line is prevented from being contaminated by the deposition gas and particle formation on the wafer during deposition of the film is reduced, so that yield and reliability of the semiconductor device may be improved.
摘要翻译：一种用于执行化学气相沉积工艺的设备和方法，所述化学气相沉积工艺减少晶片的颗粒污染，其中将包含氟自由基的清洁气体引入到处理室中以清洁室。在处理室中装载晶片之后，沉积气体被引入到室中以在晶片上形成膜。通过清洁气体供应管线将惰性气体作为回流防止气体引入到处理室中，以防止沉积气体回流到清洁气体供应管线。因此，可以防止清洁气体供应管线被沉积气体污染，并且在沉积薄膜期间晶片上的颗粒形成减少，从而可以提高半导体器件的成品率和可靠性。

68. 发明公开

KR1020000020886A 반도체장치 제조용 공정설비 无效
标题翻译：制造半导体器件的工艺设备
公开(公告)号：KR1020000020886A
公开(公告)日：2000-04-15
申请号：KR1019980039677
申请日：1998-09-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김광식
IPC分类号： H01L21/20
摘要： PURPOSE: A process equipment for fabricating a semiconductor device is provided to prevent a pressure state of a quartz chamber from changing caused by attack resulting from repeated contact of a teflonring with a chuck thereunder. CONSTITUTION: A processing equipment for fabricating a semiconductor device comprises a quartz chamber(20), a teflonring(22), a chuck(24), and a supporter(28). A semiconductor fabricating process is performed in the quartz chamber(20). The chuck(24) inserts and ejaculates a wafer in the quartz chamber(20) by performing up-and-down movement under the teflonring(22) closely adhered to a lower portion of the quartz chamber(20). The supporter(24) contacts with the chuck under the teflonring.
摘要翻译：目的：提供一种用于制造半导体器件的工艺设备，以防止石英腔的压力状态由于特氟龙与卡盘的重复接触而引起的攻击。构成：用于制造半导体器件的加工设备包括石英腔（20），特氟龙（22），卡盘（24）和支撑件（28）。在石英室（20）中进行半导体制造工艺。卡盘（24）通过在紧密粘附到石英室（20）的下部的特氟隆（22）下进行上下运动，将晶片插入并喷射在石英室（20）中。支撑件（24）在特氟龙下与卡盘接触。

69. 发明公开

KR1019990086052A 반도체 제조장치의 정보 관리 시스템 无效
标题翻译：半导体制造设备的信息管理系统
公开(公告)号：KR1019990086052A
公开(公告)日：1999-12-15
申请号：KR1019980018839
申请日：1998-05-25
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조희록 , 우선용 , 이용철 , 김광식
IPC分类号： H01L21/66
摘要： 본 발명은 반도체 제조장치의 정보 관리 시스템에 관한 것으로, 새로 입고되는 반도체 제조장치마다 팝 단말기를 설치해야하기 때문에, 설치비 부담과 설치공간의 확대로 시스템의 확장성이 떨어지는 문제점을 극복하기 위하여, 팝(POP) 기능이 추가된 설비 제어 모니터가 각각 설치된 복수의 반도체 제조장치로서, 설비 제어 모니터를 통하여 반도체 제조장치를 제어하고, 반도체 제조장치의 기초정보를 단위 공정 서버, 공장 서버 및 관리 터미널에 전송할 수 있는 반도체 제조장치의 정보 관리 시스템을 제공한다. 특히, 본 발명에 따른 반도체 제조장치의 정보 관리 시스템은 반도체 제조장치와, 단위 공정 서버 및 관리 터미널이 실시간 통신망에 의해 연결된 것을 특징으로 한다.

70. 发明公开

KR1019980053055A 반도체장치의 제조방법 无效
公开(公告)号：KR1019980053055A
公开(公告)日：1998-09-25
申请号：KR1019960072103
申请日：1996-12-26
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김광식
IPC分类号： H01L21/30
摘要： 반도체장치의 신뢰도를 개선시킨 반도체장치의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명은, 반도체 기판 상의 소정영역에 아모퍼스 실리콘의 결정구조를 변형시키기 위하여 에이치에스지공정을 수행하는 반도체장치의 제조방법에 있어서, 상기 아모퍼스 실리콘의 결정구조를 변형시키기 위한 에이치에스지공정은 510℃ ∼ 520℃ 정도의 온도조건으로 수행하여 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 에이치에스지공정수행시 그 온도조건을 달리하여 반도체장치의 신뢰도가 향상되는 효과가 있다.

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