专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

61. 发明授权

KR101266525B1 전도성 고분자 코팅 조성물, 그를 이용한 코팅필름의 제조방법 및 그 코팅필름 有权
标题翻译：导电聚合物涂料组合物，使用其的涂膜的制备方法和涂膜
公开(公告)号：KR101266525B1
公开(公告)日：2013-05-27
申请号：KR1020060081166
申请日：2006-08-25
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 손정현 , 박종대 , 주한복
IPC分类号： C09D5/24 , C09J9/02 , C09J7/02
摘要： 상기전도성고분자코팅조성물은전도성고분자수분산액; 수용성바인더수지; 알콜용매; 유기용매; 물; 수용성올레핀왁스; 및불소계수지를포함한다. 또한, 상기전도성고분자코팅필름의제조방법은상기전도성고분자코팅조성물을기판에코팅하는단계; 및상기코팅된조성물을건조하는단계를포함한다.

62. 发明授权

KR101090913B1 화학 기계적 연마를 위한 산화세륨 연마입자 분산액 및 그제조방법 失效
标题翻译：用于化学机械抛光的氧化铈研磨悬浮液及其制备方法
公开(公告)号：KR101090913B1
公开(公告)日：2011-12-08
申请号：KR1020040063290
申请日：2004-08-11
申请人： 에스케이하이닉스 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박형순 , 정종구 , 손현철 , 박종대 , 공현구 , 이봉상 , 박준홍
IPC分类号： C09K3/14 , B82B3/00
摘要： 반도체다층구조를형성하기위한화학기계적연마공정에적합한산화세륨연마입자분산액및 그제조방법이개시된다. 상기연마입자분산액은산화세륨연마입자, 연마입자분산제, pH조절제및 물을포함하고, 상기연마입자분산액의제조방법은산화세륨연마입자, 연마입자분산제, pH조절제및 물을혼합하는혼합공정; 상기혼합용액내의산화세륨연마입자를분쇄하는밀링공정; 및상기분쇄된연마입자의다분산도를조절하기위한분급공정을포함한다. 이와같은연마입자분산액은분산안정성, 연마균일도가우수하고, 특히웨이퍼표면에미세스크래치의발생이적어, 반도체소자제조공정의수율을향상시킬수 있다.

63. 发明公开

KR1020110101312A 임프린트 리소그래피 공정을 이용한 ＣＭＰ용 연마패드 및 그 제조 방법 无效
标题翻译：使用凸版印刷加工的CMP抛光垫及其制备方法
公开(公告)号：KR1020110101312A
公开(公告)日：2011-09-16
申请号：KR1020100020239
申请日：2010-03-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박종대 , 김병욱
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명은 임프린트 리소그래피 공정을 이용한 CMP용 연마패드의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 아크릴계 공중합 수지 100중량부에 대하여, 가교성 단량체 1 내지 60 중량부 및 광중합 개시제 0.1 내지 10 중량부를 함유하는 임프린트 리소그래피 공정을 이용한 CMP용 연마패드 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 임프린트 리소그래피 공정을 이용한 CMP용 연마패드 수지 조성물 및 제조 방법은 정밀하고 오염도가 없는 CMP용 연마패드 수지 조성물을 생산할 수 있으며, 폴리우레탄 연마패드에 Groove 및 Micro pore를 한번의 리소그래피공정으로 형성함으로써 생산성이 높은 효과가 있다.

64. 发明公开

KR1020110082223A 고속 연마용 화학-기계적 연마 슬러리 조성물 无效
标题翻译：用于快速抛光的化学机械抛光浆料组合物
公开(公告)号：KR1020110082223A
公开(公告)日：2011-07-19
申请号：KR1020100002104
申请日：2010-01-11
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김택래 , 공현구 , 박종대
IPC分类号： C09K3/14
CPC分类号： C09G1/02 , C09G1/04 , C09K3/1463 , H01L21/30625
摘要： PURPOSE: A chemical mechanical polishing slurry composition is provided to ensure excellent a polishing rate and selectivity for a copper layer, to reduce polishing defects, and to enable rapid polishing. CONSTITUTION: A chemical mechanical polishing slurry composition comprises oxidizing agents, anticorrosive agents, surfactants as selectivity improvers, abrasives, polishing improvers, and water. The polishing improver is selected from the group consisting of a selenium compound, a tellurium compound, and a sulfur compound. The abrasive is selected from the group consisting of collodial silica, fumed silica, alumina, ceria, titania, zirconia, zenania, and mixture thereof.
摘要翻译：目的：提供化学机械抛光浆料组合物，以确保铜层的抛光速率和选择性优异，减少抛光缺陷，并能快速抛光。构成：化学机械抛光浆料组合物包含氧化剂，防腐剂，作为选择性改进剂的表面活性剂，研磨剂，抛光改进剂和水。抛光改进剂选自硒化合物，碲化合物和硫化合物。研磨剂选自胶体二氧化硅，热解二氧化硅，氧化铝，二氧化铈，二氧化钛，氧化锆，二氧化钛及其混合物。

65. 发明公开

KR1020100123385A 초임계 유체를 이용한 전이 금속 실리사이드의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 전이 금속 실리사이드 有权
标题翻译：使用超临界流体和过渡金属硅化物制备过渡金属硅化物的方法
公开(公告)号：KR1020100123385A
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：KR1020090042594
申请日：2009-05-15
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 임진혁 , 박종대 , 공현구 , 김종원
IPC分类号： C01B33/06 , C09K3/14 , H01L21/304
CPC分类号： Y02P20/544 , C01B33/06 , C09K3/1454 , H01L21/30625
摘要： PURPOSE: A method for manufacturing a transition metal silicide using supercritical fluid and the transition metal silicide are provided to make a transition metal compound react with a silicon compound by the supercritical fluid, thereby increasing a yield of the transition metal silicide. CONSTITUTION: A transition metal compound and organic solvent are inputted to a reaction tank. The organic solvent is heated and pressed so that the organic solvent reaches to a supercritical state. A silicone compound is inputted into the reaction tank(S20). Mixed solution is transferred to an impurity removing tank. The organic solvent and a not reacted substance are removed from the mixed solution(S30). Alcohol with 1 to 5 carbon atoms, ketone, and ether can be used as the organic solvent.
摘要翻译：目的：提供使用超临界流体和过渡金属硅化物制造过渡金属硅化物的方法，以使过渡金属化合物通过超临界流体与硅化合物反应，从而提高过渡金属硅化物的产率。构成：将过渡金属化合物和有机溶剂输入反应槽。将有机溶剂加热并加压，使有机溶剂达到超临界状态。将硅酮化合物输入反应槽（S20）。将混合溶液转移到杂质去除罐中。从混合溶液中除去有机溶剂和未反应物质（S30）。可以使用具有1至5个碳原子的醇，酮和醚作为有机溶剂。

66. 发明公开

KR1020100045295A 화학-기계적 연마 슬러리 조성물 无效
标题翻译：化学机械抛光浆料组合物
公开(公告)号：KR1020100045295A
公开(公告)日：2010-05-03
申请号：KR1020080104413
申请日：2008-10-23
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김택래 , 박종대 , 공현구
IPC分类号： C09K3/14
CPC分类号： C09G1/02 , C09G1/04 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/30625
摘要： PURPOSE: A chemical and mechanical polishing slurry composition is provided to reduce the content rate of an abrasive, to reduce the material cost, and to improve productivity of a copper metal film. CONSTITUTION: A chemical and mechanical polishing slurry composition contains transformed triazole, abrasive, oxidizer, water, anticorrosive agent, and alpha-ketoglutaric acid as complexing agent. The chemical and mechanical polishing slurry composition comprises 0.1~10wt% of abrasive, 0.1~10wt% of oxidizer, 0.005~0.5wt% of transformed triazole, and 0.01~10wt% of alpha-ketoglutaric acid. The abrasive is selected from the group consisting of colloidal silica, fumed silica, alumina, ceria, titania, zirconia, genania, and their mixture.
摘要翻译：目的：提供化学和机械抛光浆料组合物，以降低磨料的含量，降低材料成本，提高铜金属膜的生产率。构成：化学和机械抛光浆料组合物含有转化的三唑，研磨剂，氧化剂，水，防腐剂和α-酮戊二酸作为络合剂。化学和机械抛光浆料组合物包含0.1〜10重量％的磨料，0.1〜10重量％的氧化剂，0.005〜0.5重量％的转化的三唑和0.01〜10重量％的α-酮戊二酸。研磨剂选自胶体二氧化硅，热解二氧化硅，氧化铝，二氧化铈，二氧化钛，氧化锆，基因组及其混合物。

67. 发明公开

KR1020090100651A 염료감응 태양전지의 제조방법 有权
标题翻译：制备感光度太阳能电池的方法
公开(公告)号：KR1020090100651A
公开(公告)日：2009-09-24
申请号：KR1020080025962
申请日：2008-03-20
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 손정현 , 이상규 , 주한복 , 박종대
IPC分类号： H01L31/04 , H01L31/18
CPC分类号： H01G9/2077 , H01G9/2031 , H01G9/2059 , H01L51/448 , Y02E10/542 , Y02P70/521
摘要： PURPOSE: A method of preparing the dye-sensitized solar cell is provided to increase the processing efficiency by increasing the efficiency of the glass frit sealing. CONSTITUTION: The glass frit is applied on the combining surface of the upper plate or the coupling plane which unites with the upper plate along the airtight line of the dye-sensitized solar cell. The light curing resin composition is applied on the location surrounding the combining surface of the upper plate or the coupling plane. A combination structure is made by attaching the upper plate and coupling plane. Light is projected to the light curing resin composition to cure. Laser is projected along the glass frit of the attached combination structure.
摘要翻译：目的：提供一种制备染料敏化太阳能电池的方法，以通过提高玻璃料密封的效率来提高加工效率。构成：将玻璃料涂敷在上板或与染料敏化太阳能电池的气密线连接的上板的结合面上。将光固化树脂组合物施加在上板或耦合平面的组合表面周围的位置上。通过连接上板和联接平面来组合结构。将光投射到光固化树脂组合物上以固化。激光沿附着的组合结构的玻璃料投影。

68. 发明授权

KR100891612B1 구리 배선 공정에 대한 연마 효율 및 선택비가 우수한화학-기계적 연마 슬러리 조성물 有权
标题翻译：化学机械抛光浆料组合物具有改善的抛光速度和铜金属化过程的选择性
公开(公告)号：KR100891612B1
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：KR1020020081762
申请日：2002-12-20
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 임종흔 , 김민호 , 박종대
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/00
摘要： 구리 배선 공정에 대한 연마 효율 및 선택비가 우수하여, 구리 배선을 형성하기 위한 상감법 공정에서 서로 다른 조성을 가지는 복수의 연마제를 사용할 필요가 없을 뿐만 아니라, 공정 단계를 줄일 수 있는 화학-기계적 연마 슬러리 조성물이 개시된다. 상기 화학-기계적 연마 슬러리 조성물은 절연막의 연마속도를 낮추어, 금속막과 절연막과의 선택비를 향상시키기 위한 절연막 연마억제제, 산화제 및 물을 포함하며, 상기 절연막 연마억제제는 분자량 1,000 내지 100,000의 이민계 고분자 화합물일 수 있다.

구리, 이민계 고분자, 탄탈, 선택비, 상감법, 슬러리, 폴리에틸렌이민, 슬러리, 화학-기계적 연마

69. 发明公开

KR1020090011656A 디스플레이 소자의 실링방법 有权
标题翻译：一种用于显示元件的密封方法
公开(公告)号：KR1020090011656A
公开(公告)日：2009-02-02
申请号：KR1020070075459
申请日：2007-07-27
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 손정현 , 주한복 , 이상규 , 박종대
IPC分类号： H05B33/04
CPC分类号： H01L51/525 , H01L51/5246
摘要： A sealing method for display element is provided to prevent the fail due to contact between top sealing member and the luminous body by protecting the front side of electrode and light-emitting layer with a photo-curing transparency composition. In a sealing method for display element, a photo-curing transparency composition(8') is coated on the whole surface of the top sealing member or the bottom ceiling member. The top sealing member and bottom ceiling member are attached to each other. The light is irradiated on the attached top sealing member and the bottom ceiling member, and the photo-curing transparency composition is hardened. The photo-curing transparency composition comprises the 100 part by weight of the epoxy resin, 0.01 or 20 part by weight of photoinitiator and 0.01 or 10 part by weight coupling member.
摘要翻译：提供了一种用于显示元件的密封方法，以通过用光固化透明剂组合物保护电极和发光层的前侧来防止顶部密封构件与发光体之间的接触的失败。在显示元件的密封方法中，在顶部密封构件或底部顶棚构件的整个表面上涂布光固化透明物组合物（8'）。顶部密封构件和底部天花板构件彼此附接。光照射在附着的顶部密封构件和底部顶部构件上，光固化透明性组合物硬化。光固化透明性组合物包含100重量份的环氧树脂，0.01或20重量份的光引发剂和0.01或10重量份的偶联剂。

70. 发明公开

KR1020080113645A 대전방지 코팅조성물 및 이를 이용한 대전방지 코팅막의제조방법 有权
标题翻译：用于静电消毒的涂料组合物
公开(公告)号：KR1020080113645A
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：KR1020070062389
申请日：2007-06-25
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 주한복 , 손정현 , 박종대
IPC分类号： C09D133/08 , C09D5/24
CPC分类号： C09D5/24 , C09D139/04 , C09D165/00 , C09K3/16
摘要： An antistatic coating composition is provided to ensure excellent solvent resistance by using an acrylic binder resin with the superior film strength and to reduce the process time due to one part coating composition. An antistatic coating composition comprises 1~30 weight% of conductive polymer aqueous dispersion; 5~15 weight% of water soluble acryl binder resin of the chemical formula 1; 0.5~1.5 weight% of a cross-linking agent; 10~30 weight% of an alcohol solvent; 5~30 weight% of an organic solvent; and the remaining amount of water. In the chemical formula 1, x is 30~60 %, y is 30~60 %, and z is 0.1~10 % based on a molar ratio; R is C1-10 alkyl group; and A is independently a hydrogen or substituent.
摘要翻译：提供抗静电涂料组合物以通过使用具有优异膜强度的丙烯酸粘合剂树脂来确保优异的耐溶剂性，并且由于一部分涂料组合物而减少处理时间。抗静电涂料组合物包含1〜30重量％的导电聚合物水分散体; 5〜15重量％的化学式1的水溶性丙烯酸粘合剂树脂; 0.5〜1.5重量％的交联剂; 10〜30重量％的醇溶剂; 5〜30重量％的有机溶剂; 和剩余的水量。在化学式1中，x为30〜60％，y为30〜60％，z为摩尔比为0.1〜10％。 R为C 1-10烷基; 且A独立地为氢或取代基。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式