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51. 发明公开

KR1020050025324A 건식 필름 내식막용 열 안정한 광경화성 수지 조성물 无效
标题翻译：耐热耐光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020050025324A
公开(公告)日：2005-03-14
申请号：KR1020057000324
申请日：2003-07-01
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 오카히데타카 , 테일러제임스필립 , 오와마사키
IPC分类号： G03F7/031
CPC分类号： G03F7/029 , G03F7/027 , G03F7/092 , G03F7/105 , G03F7/11 , G03F7/161 , Y10S430/111
摘要： The invention relates to a process for preparing a dry film resist by forming a photocurable resin composition onto a support film with a thickness of 1 to 50 mum and optionally laminate a protective film onto the photocurable composition layer to obtain a dry film resist; whereby the photocurable resin is formed from a homogeneous mixture comprising (a) from 20-90wt% of an alkaline soluble binder oligomer or polymer; (b) from 5 to 60wt% of one or more photopolymerizable monomers which are compatible with the oligomers and polymers of component (a); (c) from 0.01 to 20% by weight of one or more photoinitiators; (d) from 0 to 20% by weight of additives and/or assistants; and (e) from 0.1 to 10 % by weight of a leuco triphenylmethane dye of the formula (I), wherein R1 is a residue selected from (II), R2 is C1-C12 alkyl or phenyl which may be mono-, di- or tri-substituted by C1-C 6 alkyl, trifluoromethyl, C1-6 alkoxy, C1- 6 alkylthio, halogen and nitro; R3 is hydrogen or C 1-C12 alkyl; R4 to R9 independently of one another are hydrogen or C1-C12 alkyl; X is O, S, NH or N-C1-C12-alkyl; (a) to (e) being 100% by weight. The above composition is useful to avoid unfavourable colour generation during the heat lamination.
摘要翻译：本发明涉及一种制备干膜抗蚀剂的方法，该方法是将光固化性树脂组合物形成在厚度为1〜50μm的载体膜上，任选地将保护膜层叠在光固化性组合物层上，得到干膜抗蚀剂; 由此可光固化树脂由包含（a）20-90重量％的碱溶性粘合剂低聚物或聚合物的均匀混合物形成; （b）5至60重量％的一种或多种与组分（a）的低聚物和聚合物相容的可光聚合单体; （c）0.01至20重量％的一种或多种光引发剂; （d）0至20重量％的添加剂和/或助剂; 和（e）0.1至10重量％的式（I）的无色三苯甲烷染料，其中R 1是选自（II）的残基，R 2是C 1 -C 12烷基或苯基，其可以是单 - ，二 - 或被C 1 -C 6烷基，三氟甲基，C 1-6烷氧基，C 1-6烷硫基，卤素和硝基三取代。 R3是氢或C 1 -C 12烷基; R 4至R 9彼此独立地为氢或C 1 -C 12烷基; X是O，S，NH或N-C 1 -C 12 - 烷基; （a）至（e）为100重量％。上述组合物可用于在热层压期间避免不利的颜色产生。

52. 发明公开

KR1020040054798A 포토레지스트 상에 이미지를 직접 기록하는 동안포토레지스트의 안정성을 연장하는 방법 无效
标题翻译：在将图像直接写在光刻胶上的同时延长光刻胶的稳定性的方法
公开(公告)号：KR1020040054798A
公开(公告)日：2004-06-25
申请号：KR1020047007822
申请日：2002-11-19
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 몽고메리,멜빈,워렌 , 몽고메리,세실리아,아네트
IPC分类号： G03F1/48 , G03F1/00 , G03F1/68
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/091 , G03F7/092 , G03F7/093 , G03F7/11 , Y10S430/143 , Y10S430/146
摘要： 포토마스크의 제조에서, 화학 증폭형 포토레지스트의 환경 민감성은 포토레지스트를, 투과성 보호 재료의 얇은 코팅(상부코팅)으로 오버코팅함으로써 제거되거나 적어도 실질적으로 감소된다. 포토마스크 패턴의 직접 기록에 요구되는 장기간, 일반적으로 약 20시간 동안 개선된 안정성을 제공하기 위해, 보호 상부코팅 재료는 프로세스의 다른 가변적 요건에 따라 가능한 한 pH 상태가 중성이도록 pH 조절된다. 예를 들어, 약 5 내지 약 8 범위로 조절된 pH가 특히 바람직하다. 보호 상부코팅이 pH 조절될 때 직접 기록 중에 화학 증폭형 포토레지스트의 안정성이 보다 양호해질 뿐만 아니라, 표면 상에 pH 조절된 상부코팅을 갖는 포토레지스트 코팅된 기판은 악영향 없이 이미징 전에 장기간 저장될 수 있다.

53. 发明公开

KR1020040030543A 회로형성용 감광성 필름 및 프린트배선판의 제조방법 失效
标题翻译：用于制造电路形成的感光膜和印刷线路板的方法
公开(公告)号：KR1020040030543A
公开(公告)日：2004-04-09
申请号：KR1020037012447
申请日：2002-03-29
申请人： 히타치가세이가부시끼가이샤
发明人： 쿠보타마사오 , 오하시타케시 , 이치카와타츠야
IPC分类号： G03F7/027
CPC分类号： G03F7/11 , G03F7/027 , G03F7/092
摘要： 본 발명의 회로형성용 감광성 필름은, 제 1의 필름(베이스필름)상에 0.1∼10㎛ 두께의 감광층을 갖거나, 혹은 0.1∼14㎛ 두께의 감광층을 가짐과 동시에 감광층에 2,2-비스(4-((메타)아크릴옥시폴리알콕시)페닐)프로판을 함유한다.

54. 发明授权

KR100135076B1 광중합성 기록물질 失效
标题翻译：光致变色记录材料
公开(公告)号：KR100135076B1
公开(公告)日：1998-04-18
申请号：KR1019890010797
申请日：1989-07-29
申请人： 훽스트 게엠베하
发明人： 루돌프제르타니 , 디이터모어
IPC分类号： G03F7/11
CPC分类号： G03F7/092
摘要： 내용없음.

55. 发明授权

KR101655394B1 레지스트 하층막용 조성물, 이를 사용한 패턴 형성 방법 및 상기 패턴을 포함하는 반도체 집적회로 디바이스 有权
标题翻译：形成图案的阻抗组成方法和包括图案的半导体集成电路装置
公开(公告)号：KR101655394B1
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：KR1020130046363
申请日：2013-04-25
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 권효영 , 김민겸 , 이준호 , 전환승
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/11 , H01L21/027 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/092
摘要： 하기화학식 1로표현되는부분을포함하는화합물및 용매를포함하는레지스트하층막용조성물을제공한다. [화학식 1]상기화학식 1에서, 상기 A, A, B, R, R는각각명세서에서정의한바와같다.

56. 发明授权

KR101617507B1 감광성 수지 적층체 有权
标题翻译：感光树脂层压板
公开(公告)号：KR101617507B1
公开(公告)日：2016-05-02
申请号：KR1020137033708
申请日：2010-04-20
申请人： 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤
发明人： 미야자키준 , 이가라시츠토무 , 야스나미다카시
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/004 , H05K3/00 , H05K3/18
CPC分类号： G03F7/092 , G03F7/11
摘要： 본발명은고감도이고또한홀드타임에의한감도저하 (즉감도변화) 가적은, 즉보존안정성이양호한감광성수지적층체를제공하는것을목적으로한다. 또, 본발명은그 감광성수지적층체를사용하여, 기판상에감광성수지층을형성하고, 그감광성수지층을노광및 현상하는것을포함하는레지스트패턴의형성방법을제공하는것도목적으로한다. 본발명은지지체필름과, 감광성수지조성물로이루어지는감광성수지층과, 보호필름을적어도포함하는적층체로서, 그보호필름이하기일반식 (I):(식중, R및 R는각각독립적으로수소또는탄소수 1 ∼ 6 의알킬기를나타낸다) 로나타내는구조를포함하는산화방지제를함유하고, 그산화방지제의페놀당량이 3.1 × 10이하이고, 그보호필름중의그 산화방지제의함유량이, 1 ppm 보다많고 3000 ppm 이하인, 감광성수지적층체를제공한다.

57. 发明公开

KR1020150089253A 드라이 필름 포토레지스트 审中-实审
标题翻译：干膜胶片
公开(公告)号：KR1020150089253A
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：KR1020140009674
申请日：2014-01-27
申请人： 삼성전기주식회사
发明人： 곽경진 , 정봉희
IPC分类号： G03F7/09 , G03F7/11
CPC分类号： G03F7/11 , G03F7/0007 , G03F7/0226 , G03F7/092 , G03F7/095
摘要： 드라이필름포토레지스트를개시한다. 본발명의일 실시예에따른드라이필름포토레지스트는베이스필름, 베이스필름에결합된감광성수지층, 제1 두께로형성되어감광성수지층을커버하며제1 방향으로연신된제1 커버필름, 및제2 두께로형성되어제1 커버필름상에적층되며제2 방향으로연신된제2 커버필름을포함한다.
摘要翻译：公开了一种干膜光致抗蚀剂。根据本发明实施例的干膜光致抗蚀剂包括：基膜; 与基膜连接的感光性树脂层; 形成为第一厚度的第一覆盖膜，覆盖感光性树脂层并向第一方向延伸; 以及第二覆盖膜，其形成为第二厚度，层压在第一覆盖膜上并且延伸到第二方向。

58. 发明公开

KR1020140141600A 고밀착성 레지스트 하층막 형성용 조성물 有权
标题翻译：用于形成高粘合电阻膜的组合物
公开(公告)号：KR1020140141600A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：KR1020147026628
申请日：2013-02-26
申请人： 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤
发明人： 엔도,타카후미 , 사카모토,리키마루 , 후지타니,노리아키
IPC分类号： G03F7/11 , C08G63/00 , C08G65/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/092 , C08G63/6856 , C08G63/91 , C08G65/40 , G03F7/094 , G03F7/11 , H01L21/3081 , H01L21/3085 , H01L21/3086 , H01L21/31144
摘要： [과제] 레지스트와의 밀착성을 향상시킨 레지스트 하층막을 형성하기 위한 조성물을 제공한다.
[해결수단] 하기 식(1)로 표시되는 반복 구조단위를 주쇄에 갖는 폴리머 및 유기용제를 포함하는 리소그래피용 레지스트 하층막 형성 조성물. (1) (식 중, R
1 은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, Q
1 은 하기 식(2) 또는 식(3)으로 표시되는 기를 나타내고, v
1 및 v
2 는 각각 독립적으로 0 또는 1을 나타낸다.) (2) (3) (식 중, R
2 , R
3 , R
5 및 R
6 은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소원자수 1 내지 4의 직쇄상 혹은 분지쇄상의 탄화수소기를 나타내고, R
4 는 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R
7 은 탄소원자수 1 내지 6의 직쇄상 혹은 분지쇄상의 탄화수소기, 탄소원자수 1 내지 4의 알콕시기, 탄소원자수 1 내지 4의 알킬티오기, 할로겐원자, 시아노기 또는 니트로기를 나타내고, w
1 은 0 내지 3의 정수를 나타내고, w
2 는
0 내지 2의 정수를 나타내고, x는 0 내지 3의 정수를 나타낸다.)

59. 发明公开

KR1020140081022A 산소 투과 방지막을 포함하는 드라이필름 포토레지스트 및 그 제조방법 审中-实审
标题翻译：具有氧气渗透性阻隔层的干膜胶片及其制造方法
公开(公告)号：KR1020140081022A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：KR1020120150308
申请日：2012-12-21
申请人： 삼성전기주식회사
发明人： 윤효진 , 조혜진 , 전지은 , 임성희 , 함석진
IPC分类号： G03F7/09 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/092 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/343 , G03F7/70058 , H01L21/0274
摘要： Provided is a dry film photoresist comprising: a supporter film having an oxygen permeable barrier layer on the upper part; a photosensitive resin layer formed on the oxygen permeable barrier layer; and a protection film formed on the photosensitive resin layer. According to the present invention, the oxygen permeable barrier layer is formed on the film of the supporter in order to prevent decrease in curing reaction due to oxygen penetration of the dry film photoresist, through which faulty process in production procedures can be minimized by reducing non-exfoliated residue.
摘要翻译：提供了一种干膜光致抗蚀剂，其包含：在上部具有透氧阻挡层的支撑膜; 形成在透氧阻挡层上的感光性树脂层; 以及形成在感光性树脂层上的保护膜。根据本发明，为了防止干膜光致抗蚀剂的氧渗透导致的固化反应降低，可以在支撑体的膜上形成透氧阻挡层脱落残留物。

60. 发明公开

KR1020140007018A 감광성 수지 적층체 有权
标题翻译：感光树脂层压板
公开(公告)号：KR1020140007018A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：KR1020137033708
申请日：2010-04-20
申请人： 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤
发明人： 미야자키준 , 이가라시츠토무 , 야스나미다카시
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/004 , H05K3/00 , H05K3/18
CPC分类号： G03F7/092 , G03F7/11
摘要： 본 발명은 고감도이고 또한 홀드 타임에 의한 감도 저하 (즉 감도 변화) 가 적은, 즉 보존 안정성이 양호한 감광성 수지 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 본 발명은 그 감광성 수지 적층체를 사용하여, 기판 상에 감광성 수지층을 형성하고, 그 감광성 수지층을 노광 및 현상하는 것을 포함하는 레지스트 패턴의 형성 방법을 제공하는 것도 목적으로 한다. 본 발명은 지지체 필름과, 감광성 수지 조성물로 이루어지는 감광성 수지층과, 보호 필름을 적어도 포함하는 적층체로서, 그 보호 필름이 하기 일반식 (I)：

(식 중, R
1 및 R
2 는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다) 로 나타내는 구조를 포함하는 산화 방지제를 함유하고, 그 산화 방지제의 페놀 당량이 3.1 × 10
-3 이하이고, 그 보호 필름 중의 그 산화 방지제의 함유량이, 1 ppm 보다 많고 3000 ppm 이하인, 감광성 수지 적층체를 제공한다.

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