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51. 发明公开

KR1020120048689A 진공 펌프 无效
标题翻译：低温泵
公开(公告)号：KR1020120048689A
公开(公告)日：2012-05-15
申请号：KR1020127007282
申请日：2010-09-28
申请人： 아루박ㆍ크라이오 가부시키가이샤 , 가부시키가이샤 아루박
发明人： 스즈키,나오토 , 마수다,유키오 , 야마구치,오사무
IPC分类号： F04B37/08 , F25B9/14 , F04B37/14
CPC分类号： F04B37/08
摘要： 패널 표면에서의 응축체의 박리를 방지하여, 안정된 배기 동작을 유지하는 것이 가능한 진공 펌프를 제공한다. 본 발명의 일실시예에 따른 진공 펌프(30)는, 냉동기(32)에 의해서 냉각되는 진공 패널(31)를 가진다. 진공 패널의 응축면(310)은, 경계부(홈부(310b))에 의해서 독립된 복수의 분할면(310a)으로 구획된다. 이로 인해, 어느 하나의 분할면에서 발생한 크랙은, 상기 경계부에 의해서 인접하는 다른 분할면으로의 전파가 억제되어 크랙의 발생 영역을 해당 분할면 내로 저지하는 것이 가능하다. 또한, 응축면의 응축체의 내부 응력이 각 분할면에 분산됨으로써 완화되어 분할면에서의 응축체의 박리가 저지된다. 이로 인해, 응축면에서 응축체의 박리 및 그 후의 재응축을 원인으로 하는 진공 챔버 내의 압력 변동이 방지되어서 안정된 배기 압력이 유지된다.

52. 发明公开

KR1020120048022A 진공 드라이 펌프 有权
标题翻译：干真空泵
公开(公告)号：KR1020120048022A
公开(公告)日：2012-05-14
申请号：KR1020127007042
申请日：2010-09-24
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 다나카도모나리
IPC分类号： F04C25/02 , F04C27/00
CPC分类号： F04C25/02 , F04C18/123 , F04C23/001 , F04C27/006 , F04C27/008 , F04C28/02 , F04C29/028 , F04C2240/30
摘要： 이 진공 드라이 펌프는 기체가 통과하는 펌프실(10A~10E); 상기 펌프실(10E)과 인접하여 설치되고 기름이 존재하는 유실(20); 상기 펌프실(10A~10E)을 관통하여 상기 유실(20)의 내부로 돌출하는 회전축(30); 상기 펌프실(10A~10E) 내에서 상기 회전축(30)의 주위에 설치되고, 상기 회전축(30)의 회전에 연동하여 회전하는 회전체(40); 상기 펌프실(10E)과 상기 유실(20)의 경계 부분에서 상기 회전축(30)의 주위에 설치되고, 상기 회전축(30)의 회전에 연동하여 회전하며, 그 면 상에 국소적으로 배치되어 두께방향으로 관통하는 복수의 홀(51)을 가지고, 상기 유실(20)로부터 상기 펌프실(10A~10E)로 기름이 누설되는 것을 방지하는 원판형상의 기름 봉지 부재(50);를 포함한다.

53. 发明授权

KR101133827B1 박막 트랜지스터의 제조 방법 및 박막 트랜지스터 有权
标题翻译：薄膜晶体管制造方法和薄膜晶体管
公开(公告)号：KR101133827B1
公开(公告)日：2012-04-06
申请号：KR1020107014518
申请日：2008-12-12
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 모리무라타로 , 키쿠치타루 , 하시모토마사노리 , 아사리신 , 사이토카즈야 , 나카무라큐조
IPC分类号： H01L29/786 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/02532 , H01L21/02422 , H01L21/02675 , H01L27/1285 , H01L29/66765
摘要： 소자 사이에서의 트랜지스터 특성의 불균형을 방지하고 이동도를 높일 수 있는 생산성이 우수한 박막 트랜지스터의 제조 방법 및 박막 트랜지스터를 제공한다.
본 발명과 관련되는 박막 트랜지스터의 제조 방법은, 소스 전극막(71) 및 드레인 전극막(72)를 마스크로서 아몰퍼스 실리콘막(4)의 채널부(41)에 고체 그린 레이저(GL)를 조사하여 이동도를 향상시킨다. 고체 그린 레이저의 조사에 의해 아몰퍼스 실리콘막의 채널부를 결정화시키도록 하고 때문에, 종래의 엑시머 레이저를 이용하는 방법에 비해, 레이저 발진 특성을 안정화시키고, 대형 기판에 대해서 면 내에 일정한 출력 특성에서의 레이저 조사가 가능하게 되고, 소자 사이에서의 채널부의 결정도의 불균형을 막을 수 있다. 또한, 레이저 발진기의 메인터넌스 사이클이 길어지기 때문에, 장치의 다운타임 코스트를 저감 할 수 있는 것과 동시에, 생산성을 높이는 것이 가능하게 된다.

54. 发明公开

KR1020120023035A 성막 방법 및 성막 장치 有权
标题翻译：成膜方法和成膜装置
公开(公告)号：KR1020120023035A
公开(公告)日：2012-03-12
申请号：KR1020117028442
申请日：2010-05-20
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 모리모토나오키 , 하마구치준이치 , 호리타가즈마사 , 다케다나오키
IPC分类号： H01L21/203 , C23C14/34 , C23C14/38
CPC分类号： H01L21/2855 , C23C14/351 , H01J37/3402 , H01J37/3405 , H01J37/342 , H01L21/76843
摘要： 피처리체의 표면에 피막을 형성하는 성막 방법으로서, 챔버내에 상기 피막의 모재를 이루는 타겟과 상기 피처리체를 대향 배치하고, 상기 타겟의 스퍼터링면에서 상기 피처리체의 피성막면을 향해 소정 간격으로 수직인 자력선이 국소적으로 지나가는 자기장을 발생시키면서, 상기 챔버내에 스퍼터링 가스를 도입하여 상기 챔버내에서의 가스압을 0.3Pa이상 10.0Pa이하의 범위로 제어함과 동시에 상기 타겟에 음의 직류 전압을 인가함으로써 상기 타겟과 상기 피처리체간의 공간에 플라즈마를 발생시키고, 상기 타겟을 스퍼터링함으로써 생긴 스퍼터링 입자의 비상 방향을 제어하면서 상기 스퍼터링 입자를 상기 피처리체에 유도하여 퇴적시켜 상기 피막을 형성한다.
摘要翻译：垂直的膜为对象片的表面上形成膜的形成方法，设置在目标和对象片在腔室形成所述膜的基体材料，和所述靶的溅射表面相对以预定距离朝向对象物进行膜形成的物体的表面的磁力线是通过在同时产生磁场通过局部施用中的气体压力的负的直流电压，通过将溅射气体引入腔室，所述腔室，并在同一时间控制0.3Pa的或小于10.0Pa的范围内的目标沉积，以产生在目标和工件之间的空间中的等离子体，而控制由溅射的溅射粒子的方向紧急所述目标导出所述对象上的溅射粒子将被处理以形成膜。

55. 发明授权

KR101117813B1 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 제조 장치 有权
标题翻译：等离子显示面板的制造方法和装置
公开(公告)号：KR101117813B1
公开(公告)日：2012-03-09
申请号：KR1020097024339
申请日：2008-05-30
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 이이지마에이치 , 하코모리무네토 , 나카츠카마사토 , 구라우치도시하루
IPC分类号： H01J11/54 , H01J11/48 , H01J9/26
CPC分类号： H01J9/39 , H01J9/261 , H01J9/385 , H01J9/46 , H01J11/12
摘要： 봉착된제1 기판(1)과제2 기판(2) 사이에방전가스가충전되어이루어진플라즈마디스플레이패널의제조방법으로서, 플라즈마방전에대한보호막이형성된상기제1 기판(1)을진공중또는제어된분위기중에서 280℃이상으로가열함으로써상기보호막에서불순가스를이탈시키는제1 가스빼기공정; 상기보호막에서상기불순가스가이탈된상기제1 기판(1)과, 상기제2 기판(2)을맞닿게하여봉착하는봉착공정;을갖는것을특징으로하는플라즈마디스플레이패널의제조방법. 제1 기판과제2 기판을맞닿게하기전의배기콘덕턴스가큰 상태에서보호막으로부터불순가스를이탈시키기때문에단시간에청정화할수 있게된다. 또보호막을 280℃이상으로가열하기때문에보호막에흡착된불순가스의약 70% 이상을이탈시킬수 있게된다.

56. 发明授权

KR101102494B1 봉착 패널의 제조 방법 및 제조 장치, 및 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 제조 장치 有权
标题翻译：用于制造密封面板的方法和装置以及用于制造等离子体显示板的方法和装置
公开(公告)号：KR101102494B1
公开(公告)日：2012-01-05
申请号：KR1020097023286
申请日：2008-05-30
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 이이지마에이치 , 하코모리무네토 , 구라우치도시하루 , 야노다카노부 , 오리이유이치
IPC分类号： H01J11/48
CPC分类号： H01J9/261 , H01J11/12 , H01J11/48 , H01J2329/867 , Y10T156/10
摘要： 제1 기판과 제2 기판을 가진 봉착 패널의 제조 방법으로서, 페이스트화하기 위한 바인더를 포함하지 않은 봉착재를 용융시키는 용융 공정; 상기 제2 기판의 표면에 용융된 상기 봉착재를 도포하는 도포 공정; 상기 제1 기판과 상기 제2 기판을, 상기 제2 기판의 표면에 도포된 상기 봉착재를 사이에 두고 맞붙이는 봉착 공정;을 구비한다.

57. 发明公开

KR1020110106920A 스퍼터링 타겟 및 스퍼터링 타겟의 처리 방법 无效
标题翻译：溅射目标和处理溅射目标的方法
公开(公告)号：KR1020110106920A
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：KR1020117018527
申请日：2010-05-18
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 오바,아키라 , 닛타,준이치 , 하라다,노부히로 , 김,풍 , 미하라,야스오
IPC分类号： C23C14/34 , H01L21/285
CPC分类号： C23C14/3414
摘要： 단순한 처리로 성분 금속을 분리할 수 있는 스퍼터링 타겟 및 해당 스퍼터링 타겟의 처리 방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 관한 스퍼터링 타겟의 처리 방법은, 비수소 취성 재료인 제1 재료로 이루어지는 제1 타겟 부분(3)과, 수소 취성 재료인 제2 재료로 이루어지는 제2 타겟 부분(4)이 접합된 스퍼터링 타겟(1)을 수소 취화 처리 함으로써, 스퍼터링 타겟(1)으로부터 제2 타겟 부분(4)을 분리시키고, 제2 재료를 회수하고, 제1 재료를 회수한다. 제1 재료와 제2 재료의 수소 취성의 차이를 이용하여, 제1 재료와 제2 재료를 분리, 회수한다. 제1 재료와 제2 재료를 효율적으로 회수하는 것이 가능하다.

58. 发明公开

KR1020110104982A 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 ＣＶＤ 성막 방법 无效
标题翻译：等离子体处理装置和等离子体CVD膜形成方法
公开(公告)号：KR1020110104982A
公开(公告)日：2011-09-23
申请号：KR1020117017763
申请日：2010-01-05
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 와카마츠사다츠구 , 가메사키고지 , 기쿠치마사시 , 짐보요스케 , 에토겐지 , 아사리신 , 우치다히로토
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： H01J37/32449 , C23C16/45565 , C23C16/5096 , H01J37/32091 , H01J37/3244 , H01J37/32633 , H01J37/32724 , H01J2237/2001 , H01L21/02532 , H01L21/0262
摘要： 이 플라즈마 처리 장치는 반응실(2a)을 가진 처리실(101)과, 상기 반응실(2a)안에 수용되고 처리면(10a)을 가진 기판(10)이 재치되어 상기 기판(10)의 온도를 제어하는 지지부(15)와, 상기 반응실(2a)안에 수용되고 상기 처리실(10a)에 대향하도록 배치되어 상기 기판(10)을 향해 프로세스 가스를 공급하는 샤워 플레이트(5)와, 상기 전극 플랜지(4)와 상기 샤워 플레이트(5) 사이에 설치된 공간(24)을, 가스 도입구(42)쪽에 형성되는 제1 공간(24a)과, 상기 샤워 플레이트(5)쪽에 형성되는 제2 공간(24b)으로 나누는 압력 조정 플레이트(51)를 포함하고, 상기 기판(10)과 상기 샤워 플레이트(5)와의 거리가 3㎜이상, 10㎜이하이다.

59. 发明授权

KR101066585B1 회전 가능한 프린트헤드 어레이 有权
标题翻译： ROTATABLE PRINTHEAD ARRAY
公开(公告)号：KR101066585B1
公开(公告)日：2011-09-22
申请号：KR1020077027271
申请日：2006-04-25
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 파크스,폴,에이. , 타프,로버트,디. , 패터슨,로이,엠. , 알버탈리,데이비드 , 리,척 , 시,벤,제이.
IPC分类号： B41J2/145
CPC分类号： B41J2/155 , B41J25/001
摘要： 본 발명에 따른 프린터 장치는, 기판을 지지하도록 구성된 척과; 이 척으로부터 이격된 레일과; 이 레일에 연결되는 프린트헤드 캐리지 프레임과; 이 프린트헤드 캐리지 프레임에 선회가능하게 연결되는 프린트헤드 캐리지;를 포함할 수 있다.
프린터, 헤드, 프린트헤드, 캐리지, 정렬, 편차, 오프셋
摘要翻译：根据本公开，打印机设备可以包括配置为在其上支撑基板的卡盘，与卡盘间隔开的轨道，联接到轨道的打印头滑架框架和枢转地联接到打印头滑架框架的打印头滑架。

60. 发明公开

KR1020110084530A 플라스마 ＣＶＤ 장치 有权
标题翻译：等离子体CVD装置
公开(公告)号：KR1020110084530A
公开(公告)日：2011-07-25
申请号：KR1020117013488
申请日：2010-01-12
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 아라이,스스무 , 에토,켄지
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/50 , H01L21/205 , H01L21/31
CPC分类号： C23C16/4401 , C23C16/45565 , C23C16/5096 , H01J37/32091 , H01J37/3244 , H01J2237/3321
摘要： 분할 구조의 진공 챔버를 갖고, 진공 챔버에 대한 샤워 플레이트의 착탈을 용이하게 실시할 수 있는 플라스마 CVD 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시 형태와 관련되는 플라스마 CVD 장치(3)는, 제1 및 제2 챔버 블록(11, 12)의 접합체로 이루어지는 분할 구조의 진공 챔버(10)를 갖는다. 샤워 플레이트(61)는, 제2 챔버 블록(12)의 비접합면측의 측면(122)에 설치된 취출부(5)를 통하여, 내부 공간으로부터 취출된다. 이에 의해, 샤워 플레이트(61)를 분할 구조로 하지 않고, 챔버(10)의 내부 공간에 대한 샤워 플레이트(61)의 착탈 작업을 용이하게 실시하는 것이 가능해진다.

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