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41. 发明授权

KR100575454B1 레지스트 도포·현상장치 및 이것에 사용되는 기판가열처리장치와 기판반송장치 有权
标题翻译：电阻涂层曝光装置和底板加热工艺装置和基板运输装置
公开(公告)号：KR100575454B1
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：KR1019990032723
申请日：1999-08-10
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타카모리히데유키 , 타테야마키요히사 , 히로세오사무 , 아나이노리유키
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 기판에 레지스트도포·현상처리를 행하는 레지스트도포·현상처리는, 기판에 레지스트액을 도포하여 레지스트막을 형성시키는 레지스트도포유니트와, 적어도 도포 후의 기판에 프레베이크(prebake)처리를 실시하는 가열처리유니트와, 노광(露光, exposure)된 레지스트막에 현상처리를 실시하는 현상처리유니트를 구비하고, 가열처리유니트는 가열플레이트(plate)와 가열플레이트의 상방에서 기판을 지지하는 복수의 지지핀을 갖추고, 복수의 지지핀은 기판의 제품에 대응하는 부분 이외를 지지하도록 설치되어 있다. 이에 의해 기판상의 제품에 대응하는 부분에 전사가 발생되는 것을 방지할 수 있고, 또 파티클(particle)의 영향을 보다 억제할 수 있다.

42. 发明授权

KR100365078B1 도포방법및도포장치 失效
公开(公告)号：KR100365078B1
公开(公告)日：2003-02-19
申请号：KR1019970042104
申请日：1997-08-28
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타테야마키요히사
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/162 , B05B15/52 , B05B15/55 , B05C11/08 , G03F7/30
摘要： A coating apparatus has a nozzle for delivering a photo-resist liquid onto a semiconductor wafer supported by a spin chuck. The nozzle is movable between a supply position and a wait position. At the wait position, there are a roller which is rotatable in one direction and has a circumferential surface with thinner thereon, and a wiper for wiping the circumferential surface of the roller. While the nozzle is located at the wait position, a waiting mode is first performed, and a preparing mode is then performed immediately before the nozzle is moved from the wait position to the supply position. In the waiting mode, delivery of the photo-resist liquid from the nozzle is stopped and the wiper is located at a retreat position, such that a tip port of the nozzle is wetted by the thinner present on the circumferential surface of the roller. In the preparing mode, the processing liquid is delivered from the tip port of the nozzle onto the circumferential surface of the roller, and the wiper is located at a project position such that the processing liquid is removed from the circumferential surface of the roller.
摘要翻译：涂覆装置具有用于将光致抗蚀剂液体输送到由旋转卡盘支撑的半导体晶片上的喷嘴。喷嘴可在供应位置和等待位置之间移动。在等待位置处，存在可沿一个方向旋转并具有较薄的圆周表面的辊以及用于擦拭辊的圆周表面的擦拭器。当喷嘴位于等待位置时，首先执行等待模式，然后在喷嘴从等待位置移动到供应位置之前立即执行准备模式。在等待模式中，停止从喷嘴输送光致抗蚀剂液体，并且使擦拭器位于退避位置，使得喷嘴的尖端端口被存在于辊的圆周表面上的稀释剂润湿。在准备模式中，处理液从喷嘴的顶端口被输送到辊的圆周表面，并且擦拭器位于投影位置，使得处理液从辊的圆周表面移除。

43. 发明公开

KR1020010110650A 기판처리장치 및 기판처리방법 有权
公开(公告)号：KR1020010110650A
公开(公告)日：2001-12-13
申请号：KR1020010030489
申请日：2001-05-31
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타테야마키요히사
IPC分类号： H01L21/00
摘要： 기판(G)에 대하여 소정의 처리를 행하기 위한 처리장치(100)는, 복수의 공정으로 구성되는 일련(一連)의 제 1의 처리를 행하기 위한 복수의 처리유니트를 갖추는 제 1 처리유니트군(2a)과, 복수의 공정으로 구성되는 일련의 제 2 처리를 행하기 위한 복수의 처리유니트를 갖추는 제 2 처리유니트군(2b)과, 제 1 및 제 2 처리유니트군(2a, 2b)의 각 처리유니트에 대한 기판의 반송을 행하는 공통의 반송수단(42, 44, 46, 48, 50)을 구비한다.

44. 发明授权

KR100292322B1 기판처리장치및기판반송방법 失效
公开(公告)号：KR100292322B1
公开(公告)日：2001-07-12
申请号：KR1019980008206
申请日：1998-03-12
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 이와사키타쯔야 , 타테야마키요히사
IPC分类号： H01L21/68
摘要： 본 발명은 기판처리장치 및 기판반송방법에 관한 것으로서, 반도체 웨이퍼나 LCD 기판 등의 기판을 처리하는 경우, 처리되는 기판의 표면에 파티클이 부착되는 것을 방지할 수 있는 기판처리장치 및 그 장치에 사용되는 기판반송방법에 관한 것이다. 본 발명은 처리장치내에서 기판을 반송하는 반송아암, 상기 반송아암 위에 설치되어 기판을 지지하는 지지부재 및 상기 기판처리장치내에 설치되어 상기 지지부재를 세정하는 세정기구를 구비하여, 필요에 따라서 지지부재를 세정할 수 있고, 항상 깨끗한 상태로 기판을 지지할 수 있기 때문에, 기판 표면에 파티클이 부착되 는 것을 방지할 수 있는 효과가 있는 기판처리장치를 제시하고 있다. 그리고, 본 발명은 기판에 대한 처리에 있어서, 상기 기판을 지지하는 지지부재를 포함하는 반송아암에서 상기 기판을 반송하는 과정에서, 상기 지지부재가 기판과 접촉하기 전 또는 접촉한 후에 상기 지지부재를 세정하는 공정을 포함하기 때문에, 기판반송시 지지부재 위에 파티클이 없는 상태로 기판이 지지될 수 있고, 그 결과 처리 중의 기판 표면에 파티클이 부착되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있는 기판반송방법을 제시하고 있다.

45. 发明公开

KR1020010039709A 기판반송장치 失效
标题翻译：基板传送系统
公开(公告)号：KR1020010039709A
公开(公告)日：2001-05-15
申请号：KR1020000038987
申请日：2000-07-07
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타테야마키요히사 , 오오타요시하루 , 아라키시니치로 , 이와사키타츠야 , 아나이노리유키 , 이와츠하루오
IPC分类号： G02F1/13
摘要： PURPOSE: A substrate transfer system is provided to reduce the costs for setting up a clean environment by removing the need for the formation of the clean environment in a transfer region of a substrate. CONSTITUTION: A substrate transfer system has a transfer directional mover(41) movable along an Y direction on a rail(35) installed along transfer paths. A rotating shaft(43) is installed on the transfer directional mover. A supporting member(44) is upwardly installed on the rotating shaft, and a receiving box(50) is supported by a side plate unit of the support member. Inside of the receiving box is divided into two rooms(51a,51b) by a horizontal partition(51), and substrate transmitting members(60) are installed in respective rooms. The substrate transmitting member has a pair of long pieces(62) and short pieces(63) installed on both ends of the long piece. Front end of a glass substrate(G) is aligned by pin members(62a) of the long pieces, and the side end of the glass substrate is aligned by pin members(63a) of the short pieces. In the rear portion of the receiving box, a filter member and a blower tool having a fan are prepared. With the blower tool, an airflow is formed toward the opening of the receiving box. Thus, infiltration of the exterior particles into the receiving box is avoided.
摘要翻译：目的：提供一种基板转印系统，通过消除在基板的转印区域中形成清洁环境的需要来降低建立清洁环境的成本。构成：衬底传送系统具有沿着沿传送路径安装的轨道（35）沿Y方向移动的传送定向移动器（41）。旋转轴（43）安装在传送定向移动器上。支撑构件（44）向上安装在旋转轴上，并且接收箱（50）由支撑构件的侧板单元支撑。接收盒内部由水平隔板（51）分成两个房间（51a，51b），基板传送部件（60）安装在各自的房间内。基板传送部件具有一对安装在长片的两端的长条（62）和短片（63）。玻璃基板（G）的前端通过长片的销构件（62a）对准，玻璃基板的侧端由短片的销构件（63a）排列。在接收箱的后部，准备具有风扇的过滤构件和鼓风机工具。利用鼓风机工具，朝向接收箱的开口形成气流。因此，避免了外部颗粒渗透到接收箱中。

46. 发明公开

KR1020000035354A 처리시스템 失效
标题翻译：过程系统
公开(公告)号：KR1020000035354A
公开(公告)日：2000-06-26
申请号：KR1019990049533
申请日：1999-11-09
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타테야마키요히사 , 노무라마사후미 , 오오타요시하루 , 아라키신이치로 , 야마키이쿠오 , 시모후미오
IPC分类号： H01L21/00
摘要： PURPOSE: A process system is provided to reciprocate the processed between a region of a waiting stage and a region of a vacuum stage. CONSTITUTION: A process system comprises a plurality of guided units(11) each of which a main body(13), a base member(14), and upper and lower substrate support member(15a,15b). The main body(13) is able to be shifted along a guided path, and the base member(14) is able to execute an up and down shifting and a rotation shifting to the main body(13). The upper and lower substrate support member(15a,15b) are able to shift along a horizontal direction on the base member(14) independently. A center portion of the base member(14) and the main body(13) are connected by a connection portion(16). A glass substrate is guided by the up and down shifting and the rotation shifting of the base member(14) and by the horizontal shifting of the upper and lower substrate support member(15a,15b).
摘要翻译：目的：提供一种处理系统，用于在等待阶段的区域和真空级的区域之间往复运动。构成：处理系统包括多个引导单元（11），每个引导单元（11）分别具有主体（13），基座构件（14）以及上下基板支撑构件（15a，15b）。主体（13）能够沿着导引路径移动，并且基部构件（14）能够执行上下移动和向主体（13）的移动。上下基板支撑构件（15a，15b）能够独立地沿着基部构件（14）上的水平方向移动。基部构件（14）和主体（13）的中心部分通过连接部分（16）连接。玻璃基板通过上下移动和基部构件（14）的旋转移动以及上下基板支撑构件（15a，15b）的水平移动而被引导。

47. 发明公开

KR1020000017530A 열처리장치 失效
标题翻译：热处理设备
公开(公告)号：KR1020000017530A
公开(公告)日：2000-03-25
申请号：KR1019990035411
申请日：1999-08-25
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타테야마키요히사
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： G02F1/1303 , H01L21/67103
摘要： PURPOSE: A thermal processing apparatus is provided to prevent the transformation of glass substrate and generation of electrostatic charge. CONSTITUTION: The apparatus has heater table and surface element. The heater table supplies heat to the substrate of liquid crystal panel and the substrate is placed directly on the surface element. The surface element is comprised of glass and stones and has rough surface and shallow in thickness compared with the heater table. Because the substrate of liquid crystal display is place on the rough surface of the surface element, the electrostatic charge generated by friction is prevented. And the roughness of surface is determined in the range of 3S to 100S that the flatness is reserved in the process of heating.
摘要翻译：目的：提供一种热处理装置，以防止玻璃基板的转变和产生静电电荷。规定：该装置具有加热台和表面元件。加热台向液晶面板的基板供热，基板直接放置在表面元件上。表面元件由玻璃和石头组成，与加热台相比具有粗糙的表面和较浅的厚度。由于液晶显示器的基板位于表面元件的粗糙表面上，所以可以防止摩擦产生的静电荷。表面粗糙度在3S至100S的范围内确定在加热过程中保留平面度。

48. 发明公开

KR1020000017220A 레지스트 도포·현상장치 및 이것에 사용되는 기판가열처리장치와 기판반송장치 有权
标题翻译：耐蚀涂料，发展装置和基材加热装置及其使用的装置的基板
公开(公告)号：KR1020000017220A
公开(公告)日：2000-03-25
申请号：KR1019990032723
申请日：1999-08-10
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타카모리히데유키 , 타테야마키요히사 , 히로세오사무 , 아나이노리유키
IPC分类号： H01L21/027
摘要： PURPOSE: The present invention is intended to prevent the generation of a transcription on a part corresponding to a product on a substrate and to control the effect of a particle. CONSTITUTION: The resist coating and developing apparatus comprises: a resist coating unit(COT) forming a resist film by depositing a resist solution on the substrate; a heating process unit(HP) performing prebake process on the substrate after the deposition; and a developing process unit(24a, 24b, 24c) performing the developing process on the exposed resist film. The heating process unit has a heating plate and a plurality of proximity pins supporting the substrate from upper side of the heating plate, and the plurality of proximity pins are installed to support the region except the part corresponding to the product on the substrate.
摘要翻译：目的：本发明旨在防止在与基质上的产物相对应的部分上产生转录并控制颗粒的作用。构成：抗蚀涂层显影装置包括：通过在基板上沉积抗蚀剂溶液形成抗蚀剂膜的抗蚀涂层单元（COT）; 在沉积之后在基板上执行预烘烤处理的加热处理单元（HP）; 以及对曝光的抗蚀剂膜进行显影处理的显影处理单元（24a，24b，24c）。加热处理单元具有加热板和从加热板的上侧支撑基板的多个接近销，并且安装多个接近销以支撑除了与基板上的产品相对应的部分之外的区域。

49. 发明公开

KR1020000017113A 기판처리방법 失效
标题翻译：基板处理方法
公开(公告)号：KR1020000017113A
公开(公告)日：2000-03-25
申请号：KR1019990032186
申请日：1999-08-05
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타카모리히데유키 , 타테야마키요히사 , 미조사키켄고 , 아나이노리유키 , 마쯔다요시타카
IPC分类号： H01L21/324
CPC分类号： B05D3/0209 , B05D1/005 , G03F7/168
摘要： PURPOSE: A substrate processing method capable of preventing a transfer which can be an index of non-uniform in film thickness of resist solution and variation in line width of circuit pattern is disclosed. CONSTITUTION: The method comprises the steps of: (a) heating a substrate(G) with a coating solution coated thereon at first predetermined temperature; (b) dropping the temperature by actively cooling and/or naturally radiate heating the substrate after the step(a); and (c) heating the substrate at second predetermined temperature after the step(b). Also, the method comprises repeating the step of heating a substrate with a coating solution coated thereon and the step of making the non-heating state of the substrate. Thereby, it is possible to prevent the transfer from generating on the substrate by promoting a dry of the coating solution without having a bad influence on the coating film.
摘要翻译：目的：公开了能够防止作为抗蚀剂溶液的膜厚不均匀的转印和电路图案的线宽变动的基板处理方法。方法：该方法包括以下步骤：（a）在第一预定温度下用涂覆有涂层溶液加热基材（G）; （b）在步骤（a）之后，通过主动冷却和/或自然辐射加热基板来降低温度; 和（c）在步骤（b）之后的第二预定温度下加热基材。此外，该方法包括重复用涂覆有涂布溶液加热基材的步骤和使基材不加热的步骤。因此，可以通过促进涂布溶液的干燥而不会对涂膜产生不良影响来防止在基板上产生转印。

50. 发明授权

KR101061707B1 도포막형성 장치 및 도포막형성 방법 有权
标题翻译：涂膜形成设备和涂膜形成方法
公开(公告)号：KR101061707B1
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：KR1020050009075
申请日：2005-02-01
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야마사키츠요시 , 미야자키카즈히토 , 타테야마키요히사
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/027
摘要： 본 발명은 도포막 형성장치 및 도포막 형성방법에 관한 것으로서 레지스트 도포 처리 장치(CT,23a)는 가스를 분사하기 위한 복수의 가스 분사구(16a)가 설치된 스테이지(12)와 스테이지(12)상에서 LCD기판(G)을 X방향으로 반송하는 기판 반송 기구(13)와 스테이지(12)상을 이동하는 LCD기판(G)의 표면에 레지스트액를 공급하는 레지스트 공급 노즐(14)을 구비한다. LCD기판(G)은 가스 분사구(16a)로부터 분사되는 가스에 의해 대략 수평 자세로 스테이지(12)의 표면으로부터 뜬 상태로 스테이지(12)상을 기판 반송 기구(13)에 의해 반송된다. 기판 표면에서의 전사자취의 발생을 억제함과 동시에 기판 이면으로의 파티클의 부착을 방지한 도포막 형성장치 및 도포막 형성 방법을 제공한다.
摘要翻译：本发明涉及涂膜形成装置和涂膜形成方法，抗蚀剂涂覆装置（CT）23a包括：具有用于注入气体的多个气体注入口16a的载物台12，用于沿X方向传送基板G的基板传送机构13和用于将抗蚀剂溶液供应到在台架12上移动的LCD基板G的表面上的抗蚀剂供应喷嘴14。 LCD基板G通过从气体注入口16a注入的气体以基本上水平的姿势从台12的表面以浮动状态由基板输送机构13输送到台12上。本发明提供能够抑制基板表面的转印痕迹的产生，防止颗粒附着于基板的背面的涂膜形成装置及涂膜形成方法。

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