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    • 22. 发明公开
    • 산화아연 산화물 반도체 박막 제조 방법
    • 氧化锌半导体薄膜的制造方法
    • KR1020010102794A
    • 2001-11-16
    • KR1020000024465
    • 2000-05-08
    • 광주과학기술원한국과학기술연구원
    • 김한기성태연최원국김경국김병국
    • H01L33/14
    • 본 발명은 청색 및 녹색 발광다이오드(LED: Blue/Green Light Emitting Diode) 및 레이저다이오드(LD: laser diode)와 같은 광전자소자의 제작에 핵심 기술인 고품위 산화아연(ZnO) 산화물 반도체 박막 제조 방법에 관한 것이다.
      본 발명은 최근 차세대 발광다이오드용 물질로 각광 받고 있는 산화아연(ZnO) 산화물 반도체를 기존의 단순한 성장조건 변화에 따른 박막제조 방법이 아닌 특정가스 분위기 하에서 후 열처리(post-growth annealing treatment)를 시행함으로써 전기적, 구조적, 광학적 특성이 우수한 산화아연박막을 제조하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명은, 스퍼터 시스템(sputter system)으로 반에피텍시 박막을 성장시키고 이 박막을 고온의 산소분위기 하에서 열처리하여 그레인(grain) 재배열을 유도함으로써 구조적 특성을 향상시켰으며, 산소분위기 열처리에 의한 산소 주입으로 산화아연 박막내의 산소공공(vacancy)을 줄여줌으로써 전기적, 광학적 특성이 우수한 박막을 구현할 수 있다.
    • 23. 发明公开
    • 상온에서 작동하는 자외선 수광, 발광소자용 ZnO박막의 제조 방법 및 그를 위한 장치
    • 用于制造在正常温度下操作的红外光接收和发射装置的ZNO膜的方法及其装置
    • KR1020010076504A
    • 2001-08-16
    • KR1020000003690
    • 2000-01-26
    • 한국과학기술연구원
    • 최원국정형진김경국윤영수송종한
    • H01L33/12C23C14/08
    • C23C14/34C23C14/0047C23C14/086C30B23/02C30B29/16
    • PURPOSE: A method for manufacturing ZnO film for an infrared light receiving and emitting device operated at normal temperature and an apparatus therefor are provided to replace GaN by manufacturing ZnO film at lower costs. CONSTITUTION: The method for manufacturing ZnO film for the infrared light receiving and emitting device operated at normal temperature includes following steps. At first, a gas including Ar and O2 gases at predetermined ratio in a vacuum chamber to maintain the vacuum level lower than 1 to 500mTorr. Then, the substrate is pre-heated. At third, C and N are induced from an atom radicals implemented on the substrate and a ZnO single crystal film is vaporized on the substrate(3) by using an RF magnetron sputtering method. At third, the partial pressure of the oxygen in the chamber used while vaporizing ZnO film is maintained while the substrate is cooled down slowly. The Ar/O2 ratio is much less than 4/1. Alternatively, the Ar/O2 ratio is much less than 4/1.
    • 目的:提供一种用于制造在常温下工作的红外光接收和发射装置的ZnO膜的方法及其装置,以较低成本制造ZnO膜来代替GaN。 构成:在常温下工作的红外光接收和发射装置的ZnO膜的制造方法包括以下步骤。 首先,在真空室中以预定比例包括Ar和O 2气体的气体以保持真空度低于1至500mTorr。 然后,将衬底预热。 第三,通过使用RF磁控溅射法,在基板上实现的原子自由基诱导C和N,并在基板(3)上蒸发ZnO单晶膜。 第三,在使衬底缓慢冷却的同时保持在蒸镀ZnO膜时使用的室中的氧的分压。 Ar / O2比值远低于4/1。 或者,Ar / O 2比远小于4/1。
    • 25. 发明公开
    • 이온빔을이용하여표면개질된고분자배양접시및그표면개질방법
    • 聚合物培养皿表面改性利用离子束和表面改性方法
    • KR1020000039496A
    • 2000-07-05
    • KR1019980054847
    • 1998-12-14
    • 주식회사 삼양홀딩스한국과학기술연구원
    • 고석근정형진최원국최성창윤영수유영숙정봉철
    • C08J7/00
    • PURPOSE: A polymer culture dish having an improved hydrophilic property and surface adhesiveness is provided which a part of carbon of the activated surface is reacted with a reactive gas after activating the surface by irradiating less than 2,000 eV of ion-beam. CONSTITUTION: A surface modifying apparatus comprises a gas inlet part(20) introducing a reactive gas into a vacuum chamber(10), an ion source(30) producing ion beam, a substrate holder(40) and a vacuum pump(50). The polymer culture dish is built in the substrate holder(40) and the reactive gas is introduced into the vacuum chamber(10) through the gas inlet part(20). Ion-beam having less than 2,000 eV is irradiated to activate the surface of the polymer culture dish from the ion source(30). The surface of the polymer culture is reacted with the reactive gas such as oxygen, nitrogen, carbon dioxide, carbon monoxide, ozone and their mixed gas to produce a hydrophilic group on the surface.
    • 目的:提供具有改善的亲水性和表面粘合性的聚合物培养皿,其中活化表面的一部分碳通过照射小于2000eV的离子束而在活化表面后与反应性气体反应。 构成:表面改性装置包括将反应性气体引入真空室(10)的气体入口部分(20),产生离子束的离子源(30),衬底保持器(40)和真空泵(50)。 聚合物培养皿内置在基板保持件(40)中,反应气体通过气体入口部分(20)引入真空室(10)。 照射小于2000eV的离子束从离子源(30)活化聚合物培养皿的表面。 聚合物培养物的表面与氧,氮,二氧化碳,一氧化碳,臭氧及其混合气体等反应性气体反应,在表面产生亲水基团。