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131. 发明公开

KR20180008409A 클리닝 방법 및 플라즈마 처리 방법 审中-公开
标题翻译：清洁方法和等离子处理方法
公开(公告)号：KR20180008409A
公开(公告)日：2018-01-24
申请号：KR20177029144
申请日：2016-05-02
申请人： TOKYO ELECTRON LTD
发明人： KUBO TAKUYA , KANG SONG YUN , SHIMODA KEIICHI , OHISHI TETSUYA
IPC分类号： H01L21/02 , B08B7/00 , H01L21/304 , H01L21/3065
CPC分类号： B08B7/00 , G11B5/84 , H01L21/304 , H01L21/3065
摘要： 금속을포함하는막을에칭하는기판처리장치를클리닝하는방법으로서, 수소함유가스를포함하는가스로부터생성된플라즈마에의해카본함유퇴적물을제거하는제 1 클리닝공정과, 상기제 1 클리닝공정후에불활성가스로부터생성된플라즈마에의해금속함유퇴적물을제거하는제 2 클리닝공정과, 상기제 2 클리닝공정후에불소함유가스및 산소함유가스를포함하는가스로부터생성된플라즈마에의해실리콘함유퇴적물을제거하는제 3 클리닝공정을갖는클리닝방법이제공된다.
摘要翻译： 1。一种清洗基板处理装置的方法，该基板处理装置用于对包含金属的膜进行蚀刻，其特征在于，包括：第一清洗步骤，利用由含有含氢气体的气体产生的等离子体除去含碳析出物; 通过产生的等离子体去除含金属沉积物的第二清洗步骤以及在第二清洗步骤之后通过由含有含氟气体和含氧气体的气体产生的等离子体去除含硅沉积物的第三清洗步骤提供。

132. 发明公开

KR1020170118466A 포커스 링 조립체 및 이를 이용한 기판 처리 방법 审中-实审
标题翻译：对焦环组件和使用其的基板处理方法
公开(公告)号：KR1020170118466A
公开(公告)日：2017-10-25
申请号：KR1020160046283
申请日：2016-04-15
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 홍정표 , 권상동 , 김광남 , 선종우 , 오상록
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/687 , H01L21/02 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/68721 , B08B7/00 , B08B9/08 , H01J37/3244 , H01J37/32477 , H01J37/32633 , H01J37/32642 , H01J37/32733 , H01J37/32853 , H01J37/32862 , H01J37/3288 , H01J2237/002 , H01J2237/334 , H01L21/67069
摘要： 기판처리방법에따르면, 플라즈마처리장치내로기판을반입할수 있다. 상기기판상의막을상기플라즈마처리장치내에서발생된플라즈마로처리할수 있다. 상기기판을상기플라즈마처리장치로부터반출시킬수 있다. 상기플라즈마에의해마모된상기플라즈마처리장치내의포커스링의표상부면에두께보상막을상기플라즈마처리장치내에서인-시튜공정으로형성할수 있다. 따라서, 마모된포커스링 교체를위해플라즈마처리장치의가동을중단시키지않아도되므로, 플라즈마처리장치의가동율이향상될수 있다.
摘要翻译：根据基板处理方法，可以将基板搬入等离子体处理装置。衬底上的膜可以用等离子体处理装置中产生的等离子体处理。衬底可以从等离子体处理装置中取出。厚度补偿膜可以在等离子体处理设备中的等离子体处理设备中的聚焦环表面上的等离子体处理设备中的原位处理中形成。因此，不需要停止等离子体处理装置的操作来更换磨损的聚焦环，从而可以提高等离子体处理装置的运转率。

133. 发明公开

KR1020170003110A 마이크로 이산화탄소 스노우 세정장치 有权
标题翻译：微量二氧化碳清洁装置
公开(公告)号：KR1020170003110A
公开(公告)日：2017-01-09
申请号：KR1020150093334
申请日：2015-06-30
申请人： 주식회사 아이엠티
发明人： 조성호
IPC分类号： B08B7/00 , H01L21/306 , B08B11/00
CPC分类号： B08B7/00 , B08B11/00 , H01L21/306
摘要： 본발명은액체 CO를단열팽창시켜승화성드라이아이스입자들을생성하고이 드라이아이스입자들을, 고속의캐리어가스에실어서세정대상물의표면에분사하여세정대상물표면을세정하는건식세정기술에관한것으로, 액체 CO를단열팽창시켜승화성드라이아이스입자들을생성하고이 드라이아이스입자들을고속의캐리어가스에실어서세정대상물의표면에분사하여세정대상물표면을세정하는건식세정기술에있어서, 액체이산화탄소노즐의끝단이캐리어가스노즐의끝단보다상대적으로외부로더 돌출되어캐리어가스노즐에드라이아이스입자의성장을방지하고, 액체이산화탄소노즐끝단에소수성코팅을하여물방울맺힘을방지하여불규칙한드라이아이스입자발생을방지함으로써, 세정대상물의표면손상을효과적으로방지함은물론 CO의소모량을대폭줄여서경제적인측면에서도매우유리하다. 또한, 마이크로액체이산화탄소노즐을직렬또는병렬배열하여손쉽게대면적세정용와이드노즐로변형이가능하고, 대면적세정에적합한와이드노즐에적용하더라도 CO소모량을절감할수 있는효과가있다.
摘要翻译：本发明涉及一种干式清洗技术，用于通过绝热膨胀液态二氧化碳清洗待清洗产品的表面，以产生可升华的干冰颗粒，并将干冰颗粒装载在高速载气上，以便将其喷射到要清洁的产品的表面上，其中液体二氧化碳喷嘴的端部突出到比载气喷嘴的端部更远的外部突出，从而防止载体气体上的干冰颗粒的生长喷嘴，并且液体二氧化碳喷嘴的表面被疏水涂覆，以防止形成水滴，从而防止不规则的干冰颗粒产生，因此本发明在经济上是有利的，因为对产品表面的损害为有效地防止了清洗，并大大降低了二氧化碳的消耗。

134. 发明公开

KR1020160110786A 세척볼을 이용한 복수기 튜브 세척 시스템 无效
标题翻译：使用清洁球清洁冷却水管的系统
公开(公告)号：KR1020160110786A
公开(公告)日：2016-09-22
申请号：KR1020150034559
申请日：2015-03-12
申请人： (주)금우산기
发明人： 정경효 , 강대성
IPC分类号： B08B9/027 , B08B7/00
CPC分类号： B08B9/027 , B08B7/00
摘要： 본발명은세척볼을이용한복수기튜브세척시스템에관한것이다. 본발명의목적은도관스크린에의한에너지손실을절감할수 있는세척볼을이용한복수기튜브세척시스템을제공하는것이다. 이를위해, 본발명에따른세척볼을이용한복수기튜브세척시스템은일단의냉각수유입구와타단의냉각수유출구를가지고축선에가로방향으로배치된적어도하나의볼 배출구를갖는스크린도관내부에설치되어, 세척볼들이상기볼 배출구를통하여배출되도록상기세척볼들을스크리닝하는스크리닝위치와상기세척볼들이상기냉각수유출구로의통과를허용하는개방위치간 회동가능한적어도하나의도관스크린과; 상기스크린을상기스크리닝위치와상기개방위치간 회동되도록구동하는도관스크린구동부와; 상기볼 배출구를통하여배출되는세척볼들이유입되는볼 수집구와상기세척볼들이복수기로공급되는볼 공급구가형성된본체와, 상기본체내부에배치되어상기볼 공급구를차단하는수집위치와상기볼 공급구를개방하는공급위치간 이동가능한콜렉터스크린을갖는볼 콜렉터와; 상기콜렉터스크린을상기수집위치와상기공급위치간 이동되도록구동하는콜렉터스크린구동부와; 상기스크린을기준으로상기스크린의상류에서의압력값을측정하는상류압력측정센서와; 상기스크린을기준으로상기스크린의하류에서의압력값을측정하는하류압력측정센서와; 상기상류압력측정센서와상기하류압력측정센서로부터의측정신호에기초하여상류와하류의수압차가소정의한계압력차를초과한것으로판단될때, 상기콜렉터스크린이상기수집위치로이동되도록상기콜렉터스크린구동부를제어하고, 상기콜렉터스크린이상기수집위치로이동되었을때로부터소정의회수시간이경과한후 상기도관스크린이상기개방위치로회동되도록상기도관스크린구동부를제어하는제어부를포함한다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于使用清洁球的冷凝器的管清洁系统，其减少了由管屏引起的能量损失。用于使用清洁球的冷凝器的管清洁系统包括：安装在要旋转的管道内的一个或多个管道屏障; 管屏驱动部，其驱动所述管网，以在筛选位置和打开位置之间旋转; 具有球收集孔的球收集器，主体和收集器屏幕; 收集器屏幕驱动部，其驱动收集器屏幕，以在收集位置和供给位置之间移动; 上压力传感器，其测量屏幕上部的压力值; 低压传感器，其测量屏幕下部的压力值; 以及控制收集器屏幕驱动部分的控制部分和管屏驱动部分。

135. 发明公开

KR1020160073641A 전기로의 전극청소장치 및 전극청소방법 有权
标题翻译：电炉清洁电机及其同类设备的设备
公开(公告)号：KR1020160073641A
公开(公告)日：2016-06-27
申请号：KR1020140182192
申请日：2014-12-17
申请人： 주식회사 포스코
发明人： 류재왕
IPC分类号： F27D11/00 , B08B7/00
CPC分类号： F27D11/00 , B08B7/00 , Y02P10/216
摘要： 전극부재의연결부를청소할수 있는전기로의전극청소장치및 전극청소방법이개시된다. 본발명의실시예에따른전기로의전극청소장치는전기로내의원료에아크(Arc)를발생시키는전극부재를청소하기위한것으로, 전극부재상부에형성되는결합홀을향해진퇴가능하도록마련되는청소유닛과, 청소유닛을일 방향으로이동시키는이동유닛과, 청소유닛의청소부를회전시키는회전유닛을포함한다.
摘要翻译：公开了一种能够清洁电极部件的连接部的电炉中的电极清洗装置。还公开了一种电极清洁方法。根据本发明的实施例，电极清洁装置被设计成清洁在电炉中原料中产生电弧的电极部件。为此，电极清洁装置包括：清洁单元，朝向形成在电极构件的上部上的联接孔前进和后退; 移动单元单向移动清洁单元; 以及旋转单元，其使清洁单元中的清洁部旋转。

136. 发明公开

KR1020160062181A 에칭 방법 审中-实审
标题翻译：蚀刻过程
公开(公告)号：KR1020160062181A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：KR1020167012718
申请日：2007-04-06
申请人： 솔베이 플루오르 게엠베하
发明人： 피쉬티악,안야 , 슈바르체,토마스 , 피트로프,미카엘
IPC分类号： C23F4/00 , H01L21/311 , H01L21/3213 , H01J37/32 , C23C16/44 , B08B7/00
CPC分类号： C23F4/00 , B08B7/00 , B08B7/0035 , C23C16/4405 , H01J37/32431 , H01L21/31116 , H01L21/32136
摘要： 불소와질소및/또는아르곤과같은비활성기체들의혼합물들은반도체, 태양전지판및 평판 (TFT 및 LCD)의에칭, 및반도체표면및 플라즈마챔버의세정에사용될수 있다. 바람직하게, 불소는 2원혼합물들에서 15 내지 25 부피%의양으로포함된다. 기체혼합물들은 NF를포함하는각각의혼합물들에대한대체물또는드롭인으로서사용될수 있고플라즈마장치의매우탄력적인작동을허락한다. 예를들어, NF/Ar 혼합물들에대하여조정된장치는임의적으로질소와함께, 불소및 아르곤을사용하여더 이상의조정없이작동될수 있다. 만약불소, 질소및 아르곤의 3원혼합물들이사용된다면, 불소함량은바람직하게 1 내지 5 부피%의범위내이다.

137. 发明公开

KR1020160024637A 증착 장치 审中-实审
标题翻译：沉积装置
公开(公告)号：KR1020160024637A
公开(公告)日：2016-03-07
申请号：KR1020140111702
申请日：2014-08-26
申请人： 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이.
发明人： 김대연 , 정상진 , 장현수 , 김영훈 , 이정호
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/20 , H01L21/302
CPC分类号： C23C16/45591 , B08B5/00 , B08B7/00 , B08B9/093 , C23C16/4405 , C23C16/45502 , C23C16/45561 , C23C16/45574 , H01L21/02046
摘要： 본발명의실시예에따른증착장치에따르면, 기체유입채널과기체유출채널을연결하는연결채널을포함함으로써, 세정기체의흐름을조절하여세정효율을높일수 있다.
摘要翻译：根据本发明的一个实施例，沉积设备包括连接气体入口通道和气体出口通道的连接通道，因此沉积设备可以通过调节清洁气体的流量来提高清洁效率。沉积装置包括反应室，其包括反应空间，多个气体入口和气体出口，设置在反应空间内的气流调节单元和将基板安装在反应空间中的基板支撑。气体流量调节单元包括：设置在气体入口和反应空间之间的多个气体入口通道; 设置在所述反应空间和所述气体出口之间的气体出口通道; 以及连接通道，其连接至少一个气体入口通道和气体出口通道。

138. 发明公开

KR1020160010784A 이물막힘 방지장치 및 이를 포함하는 청소로봇 有权
标题翻译：用于堵塞预防和机器人的清洁装置，包括其中的清洁剂
公开(公告)号：KR1020160010784A
公开(公告)日：2016-01-28
申请号：KR1020140090883
申请日：2014-07-18
申请人： 주식회사 포스코
发明人： 유호 , 최일섭 , 한경룡
IPC分类号： B08B7/00
CPC分类号： B08B9/08 , B08B7/02 , B08B9/027 , B08B17/02 , E02F3/9237 , E02F3/9287 , B08B7/00
摘要： 본발명은퇴적물을흡입하는유입부재를진동하여유입부재의막힘현상을방지하는방지장치및 이를포함하는청소로봇에관한것으로서, 본발명에따른이물막힘방지장치는, 지지프레임과, 상기지지프레임에배치되고이물을흡입하는유입부재가연계되는유입부재장착부, 그리고상기지지프레임에설치되고상기유입부재를진동시키어막힘을방지토록상기유입부재장착부를구동하는가진부로구비된다. 이러한구성에의하여, 유입부재의막힘현상을방지하여흡입펌프에과부하가걸리는문제점을해소하여펌프의고장및 소비전력을감소하는효과를얻을수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种防止入口构件通过振动用于吸入沉淀物的入口构件而被阻挡的装置和包括该入口构件的清洁机器人。根据本发明的防止污泥堵塞的装置包括：支撑框架; 入口构件安装部，其布置在所述支撑框架中，并且允许所述入口构件用于吸附污泥以与其连接; 激励部，其安装在支撑框架中并驱动入口构件安装部，以通过使入口构件振动来防止入口构件堵塞。因此，本发明通过防止入口构件堵塞而解决了对抽吸泵的过载问题，从而减少了泵的故障和功率消耗。

139. 发明公开

KR1020150105688A 마스크 세척장치 有权
标题翻译：自动清洗装置
公开(公告)号：KR1020150105688A
公开(公告)日：2015-09-18
申请号：KR1020140027551
申请日：2014-03-10
申请人： 박일환
发明人： 박일환
IPC分类号： B08B7/00 , H01L21/02
CPC分类号： B08B7/00 , H01L21/02
摘要： 본 발명은 마스크 세척장치에 대한 것으로서, 더욱 상세하게는 마스크의 세척시간과 세척횟수를 관리할 수 있는 마스크 세척장치에 대한 것이다.
본 발명에 따른 마스크 세척장치는 종래의 마스크 세척장치에 있어서, 바코드스캐너와 통신수단을 더 포함한다. 상기 바코드스캐너는 고유식별번호를 나타내는 바코드가 부착된 마스크가 세척되기 전에 상기 바코드를 읽는다. 상기 통신수단은 상기 바코드스캐너에서 읽은 상기 마스크의 고유식별번호와, 상기 마스크가 세척된 시간을 메인서버에 전송한다.
또한, 상기의 마스크 세척장치는 상기 메인서버를 더 포함하는 것이 바람ㅈ기하다. 상기 메인서버는 상기 통신수단으로부터 상기 고유식별번호와 상기 세척된 시간을 전송받아서 마스크별로 세척횟수와 세척시간을 관리한다.
본 발명에 의하면, 마스크의 세척시간 및 세척횟수를 관리함으로 인하여 마스크가 언제 얼마나 많이 세척되었는지를 알 수 있다. 이로 인하여 불량이 발생할 수 있는 마스크의 예측이 가능하여 마스크를 효과적으로 관리할 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于面罩的自动清洁装置，更具体地，涉及一种能够控制面罩的清洁时间及其清洁次数的用于面罩的自动清洁装置。根据本发明的面罩的自动清洁装置还包括用于面罩的常规清洁装置中的通信装置和条形码扫描器。条形码扫描器在清理附有表示固有标识号的条形码的掩码之前读取条形码。通信装置将由条形码扫描器读取的掩模的固有识别号码和清洁掩模的时间传送到主服务器。此外，优选地，面罩清洁装置还包括主服务器。主服务器通过从通信装置接收固有的识别号码和清洁时间来控制清洁时间和清洁号码。根据本发明，通过管理清洁时间和掩模的清洁次数可以预测掩模的清洁时间和多少，可以预测出可能发生故障的掩模，从而有效地管理掩模。

140. 发明授权

KR101533931B1 3차원 웨이퍼 표면 세정 방법 및 장치 有权
标题翻译：用于清洁三维波面的方法和装置
公开(公告)号：KR101533931B1
公开(公告)日：2015-07-03
申请号：KR1020140084237
申请日：2014-07-07
申请人： 주식회사 아이엠티
发明人： 이종명 , 이규필
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/67051 , B08B5/023 , B08B7/00 , H01L21/02052 , H01L21/02068 , H01L21/6831 , H01L21/6838
摘要： 표면에 3차원구조물이형성된 3차원웨이퍼의표면에존재하는이물을제거하기위한 3차원웨이퍼표면세정장치가개시된다. 이 3차원웨이퍼표면세정장치는, 3차원웨이퍼를지지하는웨이퍼지지부; 및세정노즐또는그 부근에서, 액체 CO의단열팽창을통해고체 CO드라이아이스를만들어, 상기세정노즐을통해, 상기고체 CO드라이아이스를상기 3차원웨이퍼의표면에분사하는 CO드라이아이스분사유닛을포함하며, 상기 CO드라이아이스분사유닛은상기세정노즐로액체 CO를공급하는액체 CO공급부와, 상기세정노즐로클린에어를공급하는가속클린에어공급부를포함한다.
摘要翻译：公开了一种用于去除三维晶片表面上的异物的三维晶片表面清洁装置，其中在表面上形成三维结构。三维晶片表面清洁装置包括：用于支撑三维晶片的晶片支撑单元; 以及干冰注入单元，其通过清洁喷嘴中的液体CO_2的绝热膨胀产生固体CO_2干冰，通过清洁喷嘴将固体CO_2干冰注入到三维晶片表面。 CO_2干冰喷射单元包括：CO_2供应单元，用于将CO_2供应到清洗喷嘴; 以及加速清洁空气供应单元，以向清洁喷嘴供应清洁空气。

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