专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

111. 发明授权

KR100097752B1 알루미늄재의 나뭇결 무늬형성 처리법 失效
公开(公告)号：KR100097752B1
公开(公告)日：1996-04-02
申请号：KR1019910009083
申请日：1991-05-31
申请人： 신닛께이가부시끼가이샤
发明人： 가와하따기요시 , 무라야마히로시 , 와까스기구니오
IPC分类号： C25D11/00

112. 实用新型

KR200061949Y1 공구강의 전해침붕장치 失效
标题翻译：工具钢电解故障装置
公开(公告)号：KR200061949Y1
公开(公告)日：1992-01-10
申请号：KR2019890012557
申请日：1989-08-29
申请人： 일진산업주식회사
发明人： 이상일
IPC分类号： C25D11/00

113. 发明公开

KR850004335A 전해 캐패시터용 알루미늄 포일의 형성방법 및 그 장치 失效
公开(公告)号：KR850004335A
公开(公告)日：1985-07-11
申请号：KR840008439
申请日：1984-12-27
IPC分类号： C25D11/00 , C25D11/04 , H01G9/02 , H01G9/04 , H01G13/00
摘要： 내용없음

114. 发明授权

KR840002330B1 동합금의 표면처리 방법 失效
公开(公告)号：KR840002330B1
公开(公告)日：1984-12-19
申请号：KR810004657
申请日：1981-11-26
申请人： KIM JONG SU , PARK HYONG JUN
发明人： KIM JONG-SU
IPC分类号： C25D11/34 , C25D11/00

115. 发明授权

KR102469728B1 표면 처리 방법 및 표면 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR102469728B1
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：KR1020180096586
申请日：2018-08-20
IPC分类号： C25D11/04 , C25D11/26 , C25D11/34 , C25D21/12 , C25D11/00
摘要： 본발명의표면처리방법은, 밸브금속으로이루어진피처리체의피처리면에, 복수의처리구획을설정하고, 각처리구획에연속적또는단속적으로전해액에침지하여, 아노드산화처리를실시하고, 상기피처리면에산화피막을형성한다. 상기아노드산화처리는, 제M(M은 2 이상의정수) 공정으로구성되고, 있다. 상기제M 공정은, 상기피처리체중 제1 처리구획만을상기전해액에침지시켜, 마이크로아크산화처리를포함한아노드산화처리의최고전압 VMax 보다낮은전압 VM으로보지(保持)하고, 소정의전류 I1이되도록, 상기피처리체의제1 처리구획에소망하는산화피막을형성하는제Ma 공정과, 상기제Ma 공정을마친피처리체를, 상기제1 처리구획에인접한제2 처리구획까지상기전해액에침지시켜, 제Ma 공정과동일조건에서상기제2 처리구획에소망하는산화피막을형성하는제Mb 공정과, 상기제Mb 공정을마친피처리체를, 제n 처리구획까지상기전해액에침지시켜, 제Ma 공정과동일조건에서상기제n 처리구획에소망하는산화피막을형성하여, 상기피처리면의전역에걸쳐산화피막을형성하는제Mn 공정(n은 1 이상의정수)을갖춘다. 상기전압 VM을상기최고전압 VMax의방향으로순서대로증가시켜소정의수치로서, 상기제M 공정을반복해실시함으로써, 합계막 두께가소망하는두께로된 상기산화피막을형성한다.

116. 发明授权

KR102449453B1 간소한 마킹 기능을 갖는 도금용 지그 장치 有权
公开(公告)号：KR102449453B1
公开(公告)日：2022-09-29
申请号：KR1020220018108
申请日：2022-02-11
IPC分类号： C25D17/06 , C25D17/08 , C25D11/00 , C25D11/02 , C25D5/02

117. 发明授权

KR102406931B1 표면처리용 지그 및 이를 이용한 표면처리 방법 有权
公开(公告)号：KR102406931B1
公开(公告)日：2022-06-08
申请号：KR1020210102531
申请日：2021-08-04
IPC分类号： C25D17/06 , C25D11/00
摘要： 본발명은표면처리용지그및 이를이용한표면처리방법에관한것으로, 보다상세하게는표면처리대상체를회동시킬수 있는표면처리용지그및 이를이용한표면처리방법에관한것이다. 이러한본 발명은, 금액이수용되는용기와연결되는설치프레임; 상기설치프레임에연결되는연결부및, 상기연결부에서연결되어하측으로연장구비되고제1체결공이형성된하측돌출부를포함하는연결부재; 제2체결공이형성되고도금대상체가장착되는장착부재; 및상기제1체결공과상기제2체결공을관통하여상기연결부재와상기장착부재를상호결합시키는체결부재;를포함하되, 상기제1체결공및 상기제2체결공중 적어도하나는상하방향을따라간격을두고다수구비된다.

118. 发明授权

KR102373957B1 표면처리용 지그 장치 및 이를 이용한 표면처리 방법 有权
公开(公告)号：KR102373957B1
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：KR1020210102534
申请日：2021-08-04
IPC分类号： C25D17/06 , C25D11/00 , C09D175/04 , C09K3/18
摘要： 본발명은표면처리용지그장치및 이를이용한표면처리방법에관한것으로, 보다상세하게는다양한크기를가지는표면처리대상체를장착할수 있는표면처리용지그장치및 이를이용한표면처리용방법의제공을목적으로한다. 이러한본 발명은, 상부바디, 상부바디보다하측에배치되는하부바디, 도금대상체가끼워지도록상기하부바디상부에형성된하부거치홈, 상기상부바디에연결되는탄성체, 상기탄성체의하부에구비되는몸체및 상기대상체가끼워지도록상기몸체의하부에형성된상부거치홈을포함한다.

119. 发明授权

KR102366288B1 이중 아노다이징에 의한 메탈카드의 다색 착색 방법 有权
公开(公告)号：KR102366288B1
公开(公告)日：2022-02-23
申请号：KR1020200058222
申请日：2020-05-15
IPC分类号： C25D11/12 , C25D11/18 , C25D11/00 , G06K19/02 , G06K19/077
摘要： 본발명은고강도의알루미늄합금소재를이용한메칼카드의제조과정에서이중아노다이징에의한메탈카드의다색착색방법에관한것으로서, 좀더상세하게는고강도알루미늄합금소재를이용하여메탈카드를제조함에있어메탈카드에이중아노다이징에의해 2가지색상으로착색하되, 1차아노다이징에의해베이스컬러를착색한후 2차착색하고자하는부분과함께메탈카드에통전부분으로피막을박리하고, 다시 2차아노디이징에의해베이스칼라와다른칼라를착색하는 2차착색하기때문에종래보다고품질을구현하여 VIP 손님을위한고급성을추구하는메탈카드의상품성을더욱우수하게제공하도록하는데그 특징이있다.

120. 发明授权

KR102335438B1 알루미늄 디퓨저의 양극산화피막 형성방법 및 그에 의해 제조된 산화피막이 형성된 알루미늄 디퓨저 有权
公开(公告)号：KR102335438B1
公开(公告)日：2021-12-06
申请号：KR1020200043928
申请日：2020-04-10
IPC分类号： C25D11/04 , C25D11/00 , C23C16/455
摘要： 본발명에따른알루미늄디퓨저의양극산화피막형성방법은, 중성전해액내에서, 각각이직류전원의음단자에연결되고콘형상으로형성된한쌍의캐소드사이에, 상기직류전원의양단자에연결된알루미늄디퓨저를배치하여, 상기알루미늄디퓨저의가장자리부로부터중앙부로갈수록산화피막의두께가점진적으로증가하도록, 상기알루미늄디퓨저표면에산화피막을형성하는것을특징으로한다.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式