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91. 发明授权

KR100740930B1 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 失效
标题翻译：用于液晶显示装置的薄膜晶体管基板及其制造方法
公开(公告)号：KR100740930B1
公开(公告)日：2007-07-19
申请号：KR1020000063245
申请日：2000-10-26
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 정창오 , 김상갑 , 노남석
IPC分类号： G02F1/136
摘要： 절연 기판 위에 게이트선, 게이트 전극 및 게이트 패드를 포함하는 게이트 배선이 형성되어 있다. 그 위에 게이트 절연막, 반도체층 및 저항성 접촉층이 차례로 형성되어 있다. 저항성 접촉층 위에 데이터선, 소스 전극, 드레인 전극 및 데이터 패드를 포함하는 데이터 배선이 형성되어 있다. 그 위에 드레인 전극, 게이트 패드 및 데이터 패드를 각각 드러내는 접촉 구멍을 갖는 보호막이 형성되어 있고, 그 위에 화소 전극, 보조 게이트 패드 및 보조 데이터 패드가 형성되어 있다. 이때, 배선은 하부의 은 합금막과 상부의 IZO막으로 이루어진 이중막으로 형성되어 있다. 이와 같이, 배선이 은 합금과 같은 저저항 금속으로 형성되어 있어 배선의 저항을 줄일 수 있으며, IZO막은 보호막에 패드를 드러내는 접촉 구멍을 형성할 때 패드가 식각되는 것을 방지하며, 데이터 배선을 형성한 후 채널부의 저항성 접촉층을 제거할 때 데이터 배선이 식각되는 것을 방지한다.
은 합금, IZO
摘要翻译：包括栅极线，栅极电极和栅极焊盘的栅极布线形成在绝缘基板上。并且在其上顺序形成栅极绝缘膜，半导体层和欧姆接触层。包括数据线，源电极，漏电极和数据焊盘的数据线形成在欧姆接触层上。在其上形成具有用于分别暴露漏电极，栅极焊盘和数据焊盘的接触孔的保护膜，并且在其上形成像素电极，辅助栅极焊盘和辅助数据焊盘。此时，布线由下侧的银合金膜和上侧的IZO膜构成的双层膜形成。以这种方式，布线在这里形成为低电阻金属如合金，并且可以降低布线的电阻，并防止焊盘被蚀刻以形成接触孔，露出垫，所述IZO膜是保护膜，以形成数据线由此在去除后沟道部分的欧姆接触层时防止数据线被蚀刻。

92. 发明授权

KR100706746B1 표시 장치용 기판, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 액정표시 장치 失效
标题翻译：用于显示装置的基板，其制造方法和具有该显示装置的液晶显示装置
公开(公告)号：KR100706746B1
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：KR1020030088882
申请日：2003-12-09
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 노남석 , 서종현 , 김보성 , 홍문표
IPC分类号： G02F1/1333
摘要： 단순화된 공정으로 제조할 수 있는 표시 장치용 기판, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 액정 표시 장치가 개시된다. 단순화된 공정으로 제조할 수 있는 표시 장치용 기판은 투명 기판, 투명 기판 상에 형성되고 광에 의하여 활성화된 영역을 포함하는 감광성막 및 광에 의하여 활성화된 영역 상에 형성된 금속을 포함한다. 광에 의하여 활성화된 영역은 감광성막 상에 일정한 간격으로 형성되며, 감광성막 상의 광에 의하여 활성화된 영역 및 금속이 광을 차단하는 블랙 매트릭스로 역할을 한다. 패턴을 가지는 마스크를 이용하여 감광성막을 노광하면 감광성막의 일부가 일정한 간격으로 활성화된다. 광에 의하여 활성화된 영역을 금속 이온을 포함하는 용액에 침지시키면 단순한 산화 환원 반응에 의하여 광에 의하여 활성화된 영역 상에 금속이 석출된다. 따라서 막을 형성한 후 패터닝하는 단계를 포함하지 않으므로 제조 공정이 단순화된다. 또한 제조시에 환경에 유해한 크롬을 사용하지 않으므로 환경 문제를 일으키지 않는다.

93. 发明公开

KR1020070009015A 전기영동표시장치와 전기영동표시장치의 구동방법 无效
标题翻译：电子技术指示显示器和ELETRO技术指示显示器的驱动方法
公开(公告)号：KR1020070009015A
公开(公告)日：2007-01-18
申请号：KR1020050063928
申请日：2005-07-14
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김준형 , 노남석 , 최정예 , 박대진
IPC分类号： G02F1/167
CPC分类号： G09G5/005 , G02F1/133377 , G02F1/1362 , G02F1/167 , G02F2201/52 , G09G3/2074 , G09G3/344 , G09G5/006 , G09G2300/0452 , G09G2300/08
摘要： An electrophoretic display device and a method of driving the electrophoretic display device are provided to have the improved reflective brightness by including an electrophoretic panel including sub-pixels corresponding to red, green, blue, and white colors, a signal conversion unit, and a data driver unit. An electrophoretic panel(300) includes sub-pixels corresponding to red, green, blue, and white colors, respectively. A signal conversion unit(650) converts three-color input image signal inputted from the outside into a four-color image signal. A data driver unit(500) supplies the four-color image signal received from the signal conversion unit to the sub-pixels as a data voltage.
摘要翻译：提供电泳显示装置和驱动电泳显示装置的方法，通过包括包括对应于红色，绿色，蓝色和白色颜色的子像素的电泳面板，信号转换单元和数据来提供改进的反射亮度司机单位。电泳面板（300）分别包括对应于红色，绿色，蓝色和白色颜色的子像素。信号转换单元（650）将从外部输入的三色输入图像信号转换为四色图像信号。数据驱动器单元（500）将从信号转换单元接收的四色图像信号作为数据电压提供给子像素。

94. 发明公开

KR1020060129786A 액정표시장치의 제조방법 有权
标题翻译： LIQIUD晶体DSPLL的制造方法
公开(公告)号：KR1020060129786A
公开(公告)日：2006-12-18
申请号：KR1020050050438
申请日：2005-06-13
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 장재혁 , 홍문표 , 노남석 , 박대진
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： H01L27/12 , H01L27/1248
摘要： A method for manufacturing an LCD is provided to simultaneously form a relief embossing pattern on a passivation layer and a drain contact hole in the passivation layer, by using a mold having an intaglio embossing pattern corresponding to the relief embossing pattern and a protrusion corresponding to the drain contact hole. A gate line and a data line cross each other to define a pixel region above an insulating substrate(110). A thin film transistor(T) is formed at a crossing region of the gate line and the data line, wherein the thin film transistor includes a drain electrode(163). An organic passivation layer(170) is formed on the thin film transistor. A mold, which has an intaglio embossing pattern corresponding to the pixel region and a protrusion corresponding to the drain electrode, is pressurized on the organic passivation layer, thereby forming a relief embossing pattern on the passivation layer and a drain contact hole(171) for exposing the drain electrode in the passivation layer. A pixel electrode(180) is connected to the drain electrode through the contact hole.
摘要翻译：提供了一种用于制造LCD的方法，以通过使用具有对应于浮雕压花图案的凹版印花图案的模具和对应于凸版压花图案的突起来同时在钝化层上的钝化层和漏极接触孔上形成浮雕压花图案漏极接触孔。栅极线和数据线彼此交叉以限定绝缘衬底（110）上方的像素区域。薄膜晶体管（T）形成在栅极线和数据线的交叉区域，其中薄膜晶体管包括漏电极（163）。在薄膜晶体管上形成有机钝化层（170）。具有对应于像素区域的凹版印花图案和对应于漏电极的突起的模具在有机钝化层上被加压，从而在钝化层上形成浮雕压纹图案，并且具有漏极接触孔（171），用于将漏电极暴露在钝化层中。像素电极（180）通过接触孔与漏电极连接。

95. 发明授权

KR100656908B1 배선의 접촉 구조 및 그의 제조 방법과 이를 포함하는박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 失效
标题翻译：配线的接触结构及其制造方法，包括其的薄膜晶体管基板及其制造方法
公开(公告)号：KR100656908B1
公开(公告)日：2006-12-12
申请号：KR1020000043827
申请日：2000-07-28
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 노남석
IPC分类号： H01L29/786
摘要： 먼저, 알루미늄 계열의 도전 물질을 적층하고 패터닝하여 기판 위에 게이트선, 게이트 전극 및 게이트 패드를 포함하는 가로 방향의 게이트 배선을 형성하고 초순수를 전기 분해한 기능수를 사용하여 게이트 배선을 세정한다. 다음, 게이트 절연막을 형성하고, 그 상부에 반도체층 및 저항 접촉층을 차례로 형성한다. 이어, 크롬 등의 금속을 적층하고 패터닝하여 게이트선과 교차하는 데이터선, 소스 전극, 드레인 전극 및 데이터 패드를 포함하는 데이터 배선을 형성하고 기능수를 사용하여 데이터 배선을 세정한다. 이어, 보호막을 적층하고 패터닝하여 드레인 전극, 게이트 패드 및 데이터 패드 표면의 반응층을 각각 드러내는 접촉 구멍을 형성한다. 이어 IZO를 적층하고 패터닝하여 드레인 전극, 게이트 패드 및 데이터 패드와 각각 전기적으로 연결되는 화소 전극, 보조 게이트 패드 및 보조 데이터 패드를 형성한다.
알루미늄, IZO, 접촉저항, 기능수, 초순수, 전기분해
摘要翻译：首先，堆叠的导电材料的铝为基础的和图案化以形成在横向上包括栅极线，栅电极，并通过使用的超纯水的电分解的官能团的数目来清洁栅极布线衬底上的栅极焊盘的栅布线。接下来，形成栅极绝缘膜，并且在栅极绝缘膜上依次形成半导体层和欧姆接触层。然后，通过层叠金属如铬，并且通过数据线交叉的栅线，源电极图案化，形成包括漏极电极和数据焊盘的数据线，以及使用该官能水进行清洗与数据线。然后，将保护膜层叠并图案化以形成分别暴露漏电极，栅极焊盘和数据焊盘的表面的反应层的接触孔。然后，IZO被堆叠并图案化以分别形成电连接到漏电极，栅极焊盘和数据焊盘的像素电极，辅助栅极焊盘和辅助数据焊盘。

96. 发明公开

KR1020050083440A 화상 표시 방법 및 표시 장치와, 이의 구동 장치 및 방법 有权
标题翻译：用于显示图像的方法，显示装置及其装置及其驱动方法
公开(公告)号：KR1020050083440A
公开(公告)日：2005-08-26
申请号：KR1020040011956
申请日：2004-02-23
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 양영철 , 홍문표 , 송근규 , 노수귀 , 노남석 , 정호용
IPC分类号： G09G3/36
CPC分类号： G09G3/3406 , G09G5/02 , G09G2300/0452 , G09G2320/0646 , G09G2340/06 , G09G2360/16
摘要： 적응형 컬러변환 기능 및 휘도 증대 기능을 갖는 화상 표시 방법 및 표시 장치와, 이의 구동 장치 및 방법이 개시된다. 외부로부터 원시 화상신호를 제공받아 한 프레임에 대응하는 원시 화상신호의 채도 및 계조 특성을 체크한다. 이어, 체크된 채도 및 계조 특성을 근거로 적응적으로 원시 화상신호를 다색 화상신호로 변경하여 화상 표시를 위해 출력하고, 적응적으로 휘도를 제어한다. 이에 따라, 멀티-컬러를 표시할 때 원시 화상신호를 적응적으로 컬러 신호의 계조를 변경하도록 처리하고, 광원의 세기를 원시 화상신호에 따라 조절하므로써, 멀티-컬러 표시시 고채도의 색 휘도가 낮아지는 문제점을 극복할 수 있다.

97. 发明公开

KR1020050053885A 4색 액정 표시 장치 无效
标题翻译：四色液晶显示
公开(公告)号：KR1020050053885A
公开(公告)日：2005-06-10
申请号：KR1020030087127
申请日：2003-12-03
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 노남석 , 송근규 , 이백운 , 양영철
IPC分类号： G02F1/133
CPC分类号： G02F1/133621 , G09G3/3413 , H01L27/3213
摘要： 본 발명은 4색 액정 표시 장치에 관한 것으로서, 색 좌표를 확장하여 색 재현성을 향상시킬 수 있는 액정 표시 장치에 관한 것이다. 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치는 행렬 형태로 배열된 복수의 화소를 포함하며, 상기 복수의 화소 각각은 제1 부화소군과 제2 부화소군을 포함한다. 제1 부화소군은 제1 삼원색 부화소를 포함하고, 상기 제2 부화소군은 제2 삼원색 부화소 중 하나를 포함하며, 상기 제1 삼원색과 상기 제2 삼원색은 보색 관계에 있있다. 또한 상기 제1 부화소군과 상기 제2 부화소군은 인접하다. 이런 방식으로, 적색, 녹색 및 청색 부화소 이외에 시안, 노랑 및 마젠타 부화소 중 하나의 부화소를 추가한 4색 부화소를 화소 단위로 하여 색을 표현하므로, 색을 재현할 수 있는 범위가 늘어난다.

98. 发明公开

KR1020050050897A 6색 표시 장치의 영상 신호 변환 장치 및 방법 有权
标题翻译：用于六色显示装置的图像信号转换的装置和方法
公开(公告)号：KR1020050050897A
公开(公告)日：2005-06-01
申请号：KR1020030084556
申请日：2003-11-26
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 양영철 , 송근규 , 노남석 , 홍문표
IPC分类号： G09G3/36
摘要： 본 발명은 표시 장치의 영상 신호 변환 방법 및 장치에 관한 것으로서, 특히 3원색 신호를 6원색 신호로 변한하는 방법 및 장치에 관한 것이다.
본 발명의 한 실시예에 따른 6원색의 부화소를 포함하는 표시 장치의 영상 신호 변환 방법은 3원색의 영상 신호를 입력하는 단계, 상기 영상 신호를 최대값, 중간값 및 최소값을 갖는 신호로 분류하는 단계, 상기 분류된 영상 신호를 6원색의 성분으로 분해하는 단계, 상기 6원색의 성분 중에서 최대값을 결정하는 단계, 스케일링 인자를 결정하는 단계, 그리고 6원색 신호를 추출하는 단계를 포함한다.
이런 방식으로, 3원색 신호를 6원색의 신호로 변환함으로써 채도 및 휘도를 증가시켜 선명한 고품위 텔레비전 등의 표시 장치를 제공할 수 있다.

99. 发明公开

KR1020030042081A 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법 失效
标题翻译： TFT基板
公开(公告)号：KR1020030042081A
公开(公告)日：2003-05-28
申请号：KR1020010072593
申请日：2001-11-21
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김상갑 , 홍문표 , 유승희 , 노남석
IPC分类号： G02F1/136
摘要： PURPOSE: A thin film transistor substrate is provided to prevent the generation of an oxide film between wires formed of aluminum or aluminum alloy and an IZO film by forming a contact reinforcement layer therebetween, thereby minimizing the contact resistance in contact parts. CONSTITUTION: A thin film transistor substrate includes gate wires formed on an insulating substrate traversely with gate lines and gate electrodes, a gate insulating film formed on the gate wires, data wires formed on the gate insulating film longitudinally with data lines and source and drain electrodes, pixel electrodes(822) formed with contact reinforcing layers and a transparent conductive film in pixel areas defined by intersection between gate and data wires, and thin film transistors connected to the gate and data wires and the pixel electrodes. The drain electrodes(66) are connected to the pixel electrodes via first contact holes(76) of a protecting film(70) formed between the data wires and the pixel electrodes, and the drain electrodes contact the contact reinforcement layer(821) in the first contact holes.
摘要翻译：目的：提供一种薄膜晶体管基板，以通过在其间形成接触加强层来防止在由铝或铝合金形成的导线和IZO膜之间产生氧化膜，从而使接触部分中的接触电阻最小化。构成：薄膜晶体管基板包括在绝缘基板上横切地形成有栅极线和栅电极的栅极线，栅极布线上形成的栅极绝缘膜，纵向与栅极绝缘膜形成的数据线，数据线和源极和漏极形成有接触加强层的像素电极（822）和由栅极和数据布线之间的交点限定的像素区域中的透明导电膜以及连接到栅极和数据线以及像素电极的薄膜晶体管。漏电极（66）通过形成在数据线和像素电极之间的保护膜（70）的第一接触孔（76）连接到像素电极，漏电极与接触加强层（821）接触第一接触孔。

100. 发明公开

KR1020020083249A 배선의 접촉 구조 및 그의 제조 방법과 이를 포함하는박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 无效
标题翻译：线的接触结构及其制造方法，包括接触结构的TFT基板及其制造方法
公开(公告)号：KR1020020083249A
公开(公告)日：2002-11-02
申请号：KR1020010022648
申请日：2001-04-26
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 임승택 , 홍문표 , 노남석 , 송영주 , 곽상기 , 최권영 , 송근규
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： G02F1/13458 , G02F1/136227 , G02F1/136286 , G02F2001/13629 , H01L21/76805 , H01L21/76816 , H01L23/53223 , H01L27/124 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： PURPOSE: A contact structure of wires and a method for fabricating the same are provided to minimize the contact resistance between wires and an IZO film by making a conductive film of a low contact resistance contact the IZO film by exposing slant surfaces of side walls of the wires, thereby guaranteeing the reliability of the contact parts. CONSTITUTION: A method for fabricating a contact structure of wires includes the steps of forming wires(11) with a first conductive layer on a substrate(10), stacking an insulating film(12) covering the wires, forming contact holes(13) for exposing side walls of the wires by patterning the insulating film, and forming a second conductive layer(14) contacting the side walls of the wires via the contact holes on the insulating film.
摘要翻译：目的：提供电线的接触结构及其制造方法，以通过使具有低接触电阻的导电膜与IZO膜接触来使电线和IZO膜之间的接触电阻最小化，从而暴露IZO膜的侧壁的倾斜表面电线，从而保证接触部件的可靠性。构成：用于制造导线接触结构的方法包括以下步骤：在衬底（10）上形成具有第一导电层的导线（11），堆叠覆盖电线的绝缘膜（12），形成用于通过图案化绝缘膜来暴露导线的侧壁，以及通过绝缘膜上的接触孔形成与导线的侧壁接触的第二导电层（14）。

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