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1. 发明授权

KR101404916B1 가스 공급 유닛 및 이를 갖는 이온 빔 소스 有权
标题翻译：用于提供具有该单元的气体和离子束源的单元
公开(公告)号：KR101404916B1
公开(公告)日：2014-06-10
申请号：KR1020120098798
申请日：2012-09-06
申请人： 한국기계연구원
发明人： 김도근 , 김종국 , 이승훈 , 이구현 , 변응선 , 강재욱 , 남욱희
IPC分类号： H05H1/54 , H01J27/00
摘要： 이온 빔 소스의 가스 공급 유닛은 이온 빔 생성 유닛과 결합하며 이온 빔 생성 유닛의 가스 공급홀들과 연결되는 내부 공간을 형성하는 챔버와, 챔버의 외부에서 챔버를 관통하며 챔버의 내부 공간으로 가스를 공급하는 가스 공급관 및 챔버의 내부 공간에 가스 공급홀들을 커버하도록 배치되며, 내부 공간의 가스를 가스 공급홀들로 균일하게 공급하기 위한 가스 분배판을 포함한다. 가스 공급 유닛이 이온 빔 생성 유닛으로 가스를 균일하게 공급하므로 이온 빔 소스가 이온 빔을 균일하게 생성할 수 있다.

2. 发明公开

KR1020140032195A 이온 빔 소스 및 이를 갖는 증착 장치 有权
标题翻译：具有离子束源的离子束源和沉积装置
公开(公告)号：KR1020140032195A
公开(公告)日：2014-03-14
申请号：KR1020120098800
申请日：2012-09-06
申请人： 한국기계연구원
发明人： 김도근 , 이승훈 , 김종국 , 남욱희 , 변응선 , 이구현
IPC分类号： C23C16/50 , C23C16/44
摘要： An ion beam source comprises: a discharge space on an upper side; a body which has a gas supplying holes inside to provide a gas to the discharge space; a negative electrode which is located on the upper side of the body to expose the discharge space and is floating without applying power source; a positive electrode which is located separately from the negative electrode inside of the discharge space and ionizes the gas by interacting with a driving electric power source provided from the outside to form an electric field between the positive and the negative electrode. The ion beam source minimizes arcing caused by a deposition of a material on the electrodes.
摘要翻译：离子束源包括：上侧的放电空间; 具有内部的气体供给孔以向放电空间提供气体的主体; 负极，位于主体的上侧以暴露放电空间，并且在不施加电源的情况下浮动; 与放电空间内的负极分开定位的正极，通过与从外部设置的驱动电源相互作用而使气体离子化，从而在正极与负极之间形成电场。离子束源最小化由电极上的材料沉积引起的电弧。

3. 发明授权

KR100776970B1 플라즈마 처리를 통한 초발수 표면 형성방법 有权
标题翻译：一种通过等离子体处理形成的超声波水表面的方法
公开(公告)号：KR100776970B1
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：KR1020060085329
申请日：2006-09-05
申请人： 한국기계연구원
发明人： 나종주 , 정용수 , 문성모 , 이구현
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/3065 , C09K3/18
摘要： A method for forming an ultra water repellent surface by using a plasma treatment is provided to improve productivity and to reduce remarkably a manufacturing cost by adding a hydrophobic property to a treating target. A treating target installation process is performed to install a treating target at an upper side of an electrode which is installed in an inside of a vacuum chamber(S100). A vacuum forming process is performed to compose the inside of the vacuum chamber as vacuum atmosphere(S200). A plasma generation process is performed to generate plasma by supplying power to the electrode(S300). A surface etching process is performed to etch a surface of the treating target by controlling a time for supplying voltage and power to be supplied to the electrode(S400). A hydrophobic member is inserted into the vacuum chamber in order to be coupled with the surface of the treating target by using the plasma(S500).
摘要翻译：提供了一种通过使用等离子体处理形成超疏水表面的方法，以通过向处理对象添加疏水性来提高生产率并显着降低制造成本。执行处理目标的安装处理，以在安装在真空室内部的电极的上侧安装处理对象（S100）。进行真空成形处理以构成真空室的内部作为真空气氛（S200）。执行等离子体产生处理以通过向电极供电来产生等离子体（S300）。执行表面蚀刻工艺以通过控制用于提供供给电极的电压和功率的时间来蚀刻处理靶的表面（S400）。将疏水构件插入真空室中，以便通过使用等离子体与处理靶的表面结合（S500）。

4. 发明公开

KR1020000067162A 인산염 망간계 피막의 마모윤활 특성 개선방법 및 이에 따라 제조된 마모윤활 특성이 우수한 인산염 망간계 피막 无效
标题翻译：改善磷酸盐锰酸盐锰酸盐膜的润滑性能的方法
公开(公告)号：KR1020000067162A
公开(公告)日：2000-11-15
申请号：KR1019990014727
申请日：1999-04-24
申请人： 한국기계연구원
发明人： 남기석 , 이상로 , 이구현 , 나종주
IPC分类号： C23C22/40
CPC分类号： C23C22/82 , B24B39/003 , C10M171/06 , C10N2020/06 , C23C22/18
摘要： PURPOSE: A method for improving abrasion resistance and lubricating property is provide to enhance the abrasion resistance and a lubricating property of a phosphate manganese film, so the life span of the compartment is extended and a quality defect is reduced. CONSTITUTION: A phosphate manganese compartment is degreased and washed. The surface of the film is smoothened. Then, the film is secondly washed and dried to be a phosphate manganese film having 0.01 to 20micrometer of average roughness in the central line. The surface of the phosphate manganese film is burnished by a single mixture or a compound mixture mixed with more than two among 0.001 to 10micrometer of graphite, MoS2 and PTFE(polytetrafluoroethylene). The single mixture or the compound mixture is filled between the crystals of the phosphorous manganese film and the portions not crystallized. Therefore, the film has excellent abrasion resistance and lubricating property.
摘要翻译：目的：提高耐磨耗性和润滑性的方法是提高磷酸锰膜的耐磨性和润滑性，延长隔室的寿命，降低质量缺陷。构成：磷酸锰室被脱脂洗涤。胶片的表面平滑。然后，将膜二次洗涤并干燥成中心线的平均粗糙度为0.01〜20微米的磷酸锰膜。在0.001〜10微米的石墨，MoS2和PTFE（聚四氟乙烯）中，通过单一混合物或与两种以上混合的复合混合物抛光磷酸锰膜的表面。将单一混合物或复合混合物填充在磷锰膜的晶体和未结晶的部分之间。因此，该膜具有优异的耐磨性和润滑性。

5. 发明授权

KR100221704B1 동피복 선재 제조 방법 失效
标题翻译：制造铜覆盖钢丝的方法
公开(公告)号：KR100221704B1
公开(公告)日：1999-09-15
申请号：KR1019970012199
申请日：1997-04-02
申请人： 한국기계연구원
发明人： 권식철 , 김만 , 변웅선 , 이구현 , 김성동
IPC分类号： H01B13/00
摘要： [청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야]
본 발명은 동피복 선재의 제조방법에 관한 것으로, 구리용탕 속에 철선재를 통과시켜 철선재 표면에 구리를 피복하는 방법에 관한 것이다.
[발명이 해결하려고 하는 기술적 과제]
전기도금방식이나 튜브봉합방식이나 테이프 클래드법 등에서는 높은 생산비, 충분한 신선가공 그리고 복잡한 열처리 등의 문제점이 있음.
[발명의 해결방법의 요지]
구리용탕 속에 철선재를 통과시켜 철선재 표면에 구리를 피복하는데 있어, 표면 전처리공정, 철 선재의 예비가열공정, 동피복 공정, 냉각 및 후처리 공정으로 구성된 본 발명에 의해서 해결됨
[발명의 중요한 용도]
연속적인 선재의 제조가 가능하다고 생산성이 향상되며 무산소동의 피복이 가능하여 제품의 품질이 향상되며 다양한 제품의 생산과 생산원가를 절감하고 대용량의 신선설비가 필요없으며 공해의 문제를 해결함.

6. 发明公开

KR1019990025228A 플라즈마를 이용한 철강재료의 보로나이징 방법 失效
标题翻译：使用等离子体的钢材的硼化方法
公开(公告)号：KR1019990025228A
公开(公告)日：1999-04-06
申请号：KR1019970046785
申请日：1997-09-11
申请人： 한국기계연구원
发明人： 이상로 , 남기석 , 이구현
IPC分类号： C23C16/38
摘要： 플라즈마를 이용하여 철강재료 표면에 보론(B)을 확산 침투시켜 경도가 매우 높고, 마모, 부식 및 고온산화에 대한 저항특성이 우수한 철-보론 금속간 화합물을 제조하는 보로나이징 방법이 개시되어 있다. 본 발명에서는, 철강재료로 이루어진 기계부품을 1차로 화학 세정하여 진공용기에 장입하고 10
-2 torr 이하로 진공배기한 후 H
2 , Ar, 또는 이들의 혼합가스를 진공용기 내로 공급하여 압력을 1~10torr로 유지하고 150~3,000V의 펄스직류전압을 30~120분 동안 인가하여 얻어진 플라즈마 분위기하에서 기계부품을 2차로 이온충격 세정한다. 그런 후에, (0.5~5%)BCl
3 , (20~50%)H
2 , 잔여 Ar 혼합가스를 공급하여 압력을 1~10torr로 유지하고 피처리물을 음극으로 하고 진공용기를 양극으로 하여, 펄스지속시간 1~300㎲의 150~3,000V 직류전압을 600~727℃에서 30~120분 동안 인가하여 1차 보로나이징한다. 다음에는, 처리온도를 800~1,050℃로하여 30분~30시간 동안 2차 보로나이징하여 10~500㎛ 두께의 보론화합물층을 형성한다. 그런 후에, 처리가스를 10
-2 torr로 이하로 배기시킨 다음 철강재료를 750~1,050℃의 퀘ㄴ칭온도로 유지 급냉하여 강도를 부여한다.

7. 发明公开

KR1020070013511A 마이크로 디바이스용 극저마찰 탄소보호막 및 그 제조방법 有权
标题翻译：用于微型器件的超低摩擦碳膜及其相同方法
公开(公告)号：KR1020070013511A
公开(公告)日：2007-01-31
申请号：KR1020050067878
申请日：2005-07-26
申请人： 한국기계연구원
发明人： 나종주 , 이구현 , 남기석 , 권식철
IPC分类号： C23C16/26
摘要： An ultra-low friction carbon protection film for micro-devices, which can satisfy 0.05 or less of friction coefficient, 10^-8 or less of wear coefficient and 80 degrees or more of a contact angle to water at the same time in an environment for driving micro-devices, and a method for preparing the same are provided. An ultra-low friction carbon protection film for micro-devices is characterized in that: the ultra-low friction carbon protection film is prepared by a carbon thin film preparation process using pure carbon and is comprised of an amorphous phase in which a diamond structure and a graphite structure are mixed at a predetermined ratio; the position of D-peak satisfies 1390Œ10 cm^-1, and the position of G-peak satisfies 1580Œ20 cm^-1, and ID/IG satisfies 1.2 to 2 in Raman analysis; the ultra-low friction carbon protection film has a hardness range of 2 to 30 GPa, a residual stress range of 10 MPa to 2 GPa, a surface roughness range of 0.4 to 6.0 nm, an elastic modulus range of 10 to 270 GPa, and an electric resistance range of 1 to 100 mÐ¤-cm.
摘要翻译：一种用于微型装置的超低摩擦碳保护膜，其可以在环境中同时满足0.05或更小的摩擦系数，10 ^ -8或更小的磨损系数和80度或更多的与水的接触角用于驱动微型器件的方法及其制备方法。用于微器件的超低摩擦碳保护膜的特征在于：超低摩擦碳保护膜通过使用纯碳的碳薄膜制备方法制备，并且由非晶相组成，其中金刚石结构和石墨结构以预定比例混合; D峰的位置满足1390〜10 cm ^ -1，G峰的位置满足1580〜20 cm ^ -1，拉曼分析中的ID / IG为1.2〜2。超低摩擦碳保护膜的硬度范围为2〜30GPa，残余应力范围为10MPa〜2GPa，表面粗糙度为0.4〜6.0nm，弹性模量范围为10〜270GPa，以及电阻范围为1〜100mΩ。

8. 发明授权

KR100304049B1 탄화물을 이용한 표면경화 방법 失效
标题翻译：使用硬质合金的表面硬化方法
公开(公告)号：KR100304049B1
公开(公告)日：2001-09-24
申请号：KR1019990025575
申请日：1999-06-30
申请人： 한국기계연구원 , 이기정
发明人： 남기석 , 이상로 , 이기정 , 이구현 , 나종주
IPC分类号： C23C8/20
摘要： 본발명은가스침탄(浸炭)으로형성된탄화물을이용하여내마모요소부품의표면을경화시키는방법을적용함에있어서, Cr을많이함유하고있는합금강의가스침탄은 Cr산화물형성에따라침탄이억제되고, 경화능이부족하며, 그을음발생등의문제가있어이를해결할수 있도록한 가스침탄방법에관한것으로서, 구체적으로는탄화물형성원소인 Cr을 1∼25% 함유하는합금강을침탄하여 20∼80%의탄화물층을형성시킨다음, Quenching하여분산된탄화물에의해강화된마르텐사이트조직으로표면을경화시키는방법으로서, 침탄로에서 850∼1050℃의온도범위로가열한다음, 메탄(CH), 프로판(CH), 및부탄(CH) 등의탄화수소가스, 또는이들가스와 CO의혼합가스를로내에직접공급하여열분해시켜카본포텐셜이 1.0∼4.0%의범위로유지되는분위기중에서침탄, 또는침탄과확산단계를거쳐침탄한다음, Quenching온도범위로유지하여물, 오일또는폴리머냉매중에 Quenching하고템퍼링하는것을특징으로한다.

9. 发明公开

KR1019980075838A 정밀 인서트노즐 失效
标题翻译：精确插入喷嘴
公开(公告)号：KR1019980075838A
公开(公告)日：1998-11-16
申请号：KR1019970012198
申请日：1997-04-02
申请人： 한국기계연구원
发明人： 권식철 , 김만 , 변웅선 , 이구현 , 김성동
IPC分类号： C23C2/38
摘要： 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
본 발명은 동피복 선재의 제조장치에 있어 철 선재가 장입되는 통로이자 구리용탕 누수방지의 역할을 하는 정밀 인서트노즐에 관한 것이다.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
철 선재가 진동하거나 철 선재와 인서트노즐 내면과의 간격이 정밀하게 유지되지 않을 경우에 발생되는 마찰과 구리용탕 누수의 문제점이 있음.
3. 발명의 해결방법의 요지
인서트노즐의 내벽의 단면을 일직선으로 하고 상단부가 작업로의 도가니 하단부 구멍위로 돌출하게 하며 외곽에 워터자켓을 설치함.
4. 발명의 중요한 용도
구리용탕의 누수를 방지하고 마찰열이나 작업로의 높은 온도에 의한 인서트노즐의 변형을 방지하며, 인서트노즐의 보수와 교체가 용이하게 함.

10. 发明公开

KR1019980075837A 동피복 선재 제조장치 失效
标题翻译：铜线材制造设备
公开(公告)号：KR1019980075837A
公开(公告)日：1998-11-16
申请号：KR1019970012197
申请日：1997-04-02
申请人： 한국기계연구원
发明人： 권식철 , 김만 , 변웅선 , 이구현 , 김성동
IPC分类号： H01B13/00
摘要： 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
본 발명은 동피복 선재의 제조장치에 관한 것으로, 구리용탕 속에 철선재를 통과시켜 철선재 표면에 구리를 피복하는 장치에 관한 것이다.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
전기도금방식이나 튜브봉합방식이나 테이프 클래드법 등에서는 높은 생산비, 충분한 신선가공 그리고 복잡한 열처리 등의 문제점이 있음.
3. 발명의 해결방법의 요지
선재이송장치, 구리용탕 공급장치, 전·후처리 설비의 3부분으로 구성된 본 발명의 동피복 선재 제조장치에 의해서 달성될 수 있음.
4. 발명의 중요한 용도
연속적인 선재의 제조가 가능하고 생산성이 향상되며 무산소동의 피복이 가능하여 제품의 품질이 향상되며 다양한 제품의 생산과 생산원가를 절감하고 대용량의 신선설비가 필요없으며 공해의 문제를 해결함.

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